基板处理用气体、保管容器和基板处理方法技术

本发明专利技术的目的在于，提供蚀刻速度快且偏差的抑制优异的基板处理用气体、保管其的保管容器和基板处理方法。本发明专利技术的基板处理用气体含有IF

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理用气体、保管容器和基板处理方法
本专利技术涉及基板处理用气体、保管容器和基板处理方法。
技术介绍
迄今为止，对于IF7气体(七氟化碘)的制造技术进行了各种研究。作为这种技术，已知例如专利文献1中记载的技术。专利文献1中，在循环供给氟气的同时，使另一种原料、即五氟化碘发生气化，并使两者在气体的状态下混合、发生反应(专利文献1的权利要求1、第0001段等)。并且，所得气体是未反应的五氟化碘气体、作为制品的七氟化碘气体和未反应的氟气，利用各种气体在不同温度下发生液化的情况而如下那样地进行分离/回收。具体记载了：五氟化碘利用IF5冷阱40进行冷却捕集，七氟化碘利用IF7冷阱44进行冷却捕集，滞留在IF7冷阱44内的七氟化碘通过从冷却切换至加热而发生气化，并被输送(回收)至IF7回收气瓶66中(专利文献1的第0020段)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006-265057号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，本专利技术人经研究的结果可知：上述专利文献1所记载的IF7本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理用气体，其含有IF

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180329 JP 2018-0654331.一种基板处理用气体，其含有IF5和IF7，所述IF5的含量相对于所述IF5与所述IF7的总计以体积基准计为1ppm以上且2％以下。


2.根据权利要求1所述的基板处理用气体，其中，
所述IF5的含量相对于所述IF5与IF7的总计以体积基准计为1％以下。


3.根据权利要求1或2所述的基板处理用气体，其中，
所述IF7的含量相对于该基板处理用气体整体以体积基准计为50％以上。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理用气体，其含有选自由Fe、Cr、Mn、Co、Ti、Mo...

【专利技术属性】
技术研发人员：八尾章史，武田雄太，江藤纯，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP