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本发明的目的在于，提供蚀刻速度快且偏差的抑制优异的基板处理用气体、保管其的保管容器和基板处理方法。本发明的基板处理用气体含有IF...
该专利属于中央硝子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过中央硝子株式会社授权不得商用。

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