【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，特别是涉及利用化学镀和电镀相结合制备薄膜微参比电极的方法。
技术介绍
薄膜微参比电极是微流控分析电位检测和安培检测中不可缺少的一个重要组成部分。在以往将参比电极或者准参比电极集成到芯片的研究工作中，所用到的电极制作方法大都通过刻蚀、溅射或蒸发等，此类制作电极的方法不仅比较费时，而且成本较高，需要有特殊的实验仪器以及洁净程度很高的实验室环境，因此在常规实验室条件下不易操作，不利于电化学检测芯片向可抛弃型方向发展。
技术实现思路
本专利技术目的是提供一种简便、价廉的，在实验室条件下制备薄膜微参比电极方法。本专利技术制备薄膜微参比电极的方法，利用化学镀和电镀相结合的方法沉积银层，具体操作步骤如下1.用洗涤剂、王水、重铬酸钾、去离子水依次对玻璃基体表面进行清洗，以减弱玻璃表面的疏水性；2.利用光刻的方法加工得到阳模，并进一步制得带有电极形状的聚二甲基硅氧烷(PDMS)薄膜；3.烘干后将带有电极形状的PDMS薄膜与玻璃芯片进行可逆封合，对玻璃基体表面进行区域限制，规定电极的形状和尺寸；4.向通道中注入玻璃刻蚀液对玻璃通道部分进行刻蚀，进一步选择性增强玻璃的亲水...
【技术保护点】
一种制备薄膜微参比电极的方法，其特征是利用化学镀和电镀相结合的方法沉积银层，步骤如下：●用洗涤剂、王水、重铬酸钾、去离子水依次对玻璃基体表面进行清洗，利用光刻的方法加工得到阳模，并进一步制得带有电极形状的聚二甲基硅氧烷薄膜； ●烘干后将带有电极形状的ＰＤＭＳ薄膜紧密贴附在玻璃芯片表面可逆封合，对玻璃基体表面进行区域限制，规定电极的形状和尺寸；●向通道中注入玻璃刻蚀液对玻璃通道部分进行刻蚀，进一步选择性增强玻璃的亲水性；●用敏化反应溶液对刻蚀过的基 体表面进行敏化，用去离子水冲洗，以促进化学镀反应；●将经过敏化玻璃基...
【技术特征摘要】
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