一种X射线平板探测器及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种X射线平板探测器及其制备方法。方法包括：在第一通孔阵列表面沉积一层反射膜；在反射膜表面旋涂一层光刻胶，经过曝光显影后仅将通孔外部反射膜暴露出来；刻蚀掉通孔外部反射膜，剥离通孔内部反射膜表面的光刻胶；将闪烁体填充至剥离光刻胶后的第一通孔阵列中，并在闪烁体表面涂敷一层耦合胶；在第二通孔阵列中填充一层电子传输层，一层光敏感层和一层空穴传输层；剥离基板，将空穴传输层沉积在TFT基板上，得到X射线平板探测器。本发明专利技术中X射线平板探测器中第一通孔阵列内表面沉积有反射膜，可以有效改善散射带来的信号串扰问题，消除散射光对空间分辨率的影响，提高图像分辨率。

An X-ray flat panel detector and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种X射线平板探测器及其制备方法
本专利技术涉及X射线成像
，特别是涉及一种X射线平板探测器及其制备方法。
技术介绍
X射线成像技术因其优异的特性而被广泛应用在医疗、无损检测、视频检测等众多领域。其核心部件是X射线平板探测器，将X射线转化成电信号并被记录成像。根据能量转换方式的不同分为直接型平板探测器(光电转换材料将入射X射线直接转化为电信号)和间接型平板探测器(先由闪烁体材料将入射X射线转化为可见光，再由感光单元进行常见的光探测)。间接式数字X射线平板探测器的能量转换转化过程分为两步，一是闪烁体层将X射线转换为可见光(称为光光转换过程)，二是使用常见的可见光探测手段进行探测，具有响应速度块，可探测剂量率低等优点。在光光转换过程中使用的闪烁体是一类吸收高能粒子或高能射线后转换为可见光的材料，在辐射探测领域发挥着十分重要的作用。其中碘化铯(CsI)系列闪烁体，因其与薄膜晶体管匹配时有良好的转换效率而被广泛应用在医疗器械等辐射探测领域。但是，由于闪烁体是透明的，在光光转换过程中可见光必然会发生散射，引起相邻像素点之间的信号串扰，影响空本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线平板探测器制备方法，其特征在于，包括：/n在基板上沉积一层隔绝水氧的保护层；/n在所述保护层表面旋涂光刻胶，经过曝光显影后得到第一通孔阵列；/n在所述第一通孔阵列表面沉积一层反射膜，所述反射膜分为通孔内部反射膜和通孔外部反射膜；/n在所述反射膜表面旋涂一层光刻胶，经过曝光显影后仅将所述通孔外部反射膜暴露出来；/n刻蚀掉所述通孔外部反射膜，剥离所述通孔内部反射膜表面的光刻胶；/n将闪烁体填充至剥离光刻胶后的第一通孔阵列中，并在所述闪烁体表面涂敷一层光学耦合胶；/n在所述耦合胶表面沉积一层透明电极；/n在所述透明电极表面旋涂一层光刻胶，经过曝光显影后得到第二通孔阵列，所述第二通孔阵列...

【技术特征摘要】
1.一种X射线平板探测器制备方法，其特征在于，包括：
在基板上沉积一层隔绝水氧的保护层；
在所述保护层表面旋涂光刻胶，经过曝光显影后得到第一通孔阵列；
在所述第一通孔阵列表面沉积一层反射膜，所述反射膜分为通孔内部反射膜和通孔外部反射膜；
在所述反射膜表面旋涂一层光刻胶，经过曝光显影后仅将所述通孔外部反射膜暴露出来；
刻蚀掉所述通孔外部反射膜，剥离所述通孔内部反射膜表面的光刻胶；
将闪烁体填充至剥离光刻胶后的第一通孔阵列中，并在所述闪烁体表面涂敷一层光学耦合胶；
在所述耦合胶表面沉积一层透明电极；
在所述透明电极表面旋涂一层光刻胶，经过曝光显影后得到第二通孔阵列，所述第二通孔阵列与所述第一通孔阵列排布方式相同；
在所述第二通孔阵列中填充一层电子传输层；
在所述电子传输层表面填充一层光敏感层；
在所述光敏感层表面填充一层空穴传输层；
剥离所述基板，将所述空穴传输层沉积在TFT基板上，得到X射线平板探测器。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一通孔阵列中通孔的孔径为3-20μm，通孔间距为...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建华，毛龙妹，李意，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海;31