【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种真空环境中物质分析辅助设备，适用于材料表面清洗之用。目前，在现代大型表面分析设备中，为了在超高真空中获得原子尺度的新鲜表面和清洁表面都配有样品表面清洗装置，最常用的处理方法有如下几种(1)断面分析法在超高真空就地把样品打断，随即进行断口分析，这种方法适于脆性好的且晶界无杂质材料，对韧性好的或晶界处有偏析的材料就很难得到新鲜表面，通常用这种方法得到的表面比较粗造，对分析结果有很大影响；(2)加热脱附法在超高真空利用对试样加热来清洗表面，高温可以使吸附气体跑掉，有时甚至能使气化物分解，但这一方法对单一组分的试样可行，对多组分的体系可导致元素的偏析，因为加热温度较低时很难把表面的杂持元素去除干净，温度过高会导致选择性蒸发，也达不到清洗的目的；(3)在现代分析中设备中最普通使用的离子轰击清洗法，它是采用一束能量的氩离子束来轰击材料表面达到清洗目的，这一方法不仅用来清洗表面而且还可以逐层分析成分的深度分布，经试验表明这种方法对纯元素的试样是适用的，但对多元体系的试样就不适用了，因为离子轰击对表面与表层的破坏作用和各种效应引起表面与表层成分的改变，不能真实...
【技术保护点】
一种超高真空中表面机械清洗装置，其特征在于该装置的主要部分是在超高真空水平方向的备用窗口上安装一传动轴（３），轴（３）外端与磁力回转器（２）中心轴固定，轴（２）在真空室的另一端上固定一垂直连杆（４），连杆的端头固定有刀架（５），刀架上装有刮刀；在真空室内与刀架对应吊有样品固定架（７），固定架（７）水平端头装有样品卡头（６），卡头（６）可固定样品，样品固定架（７）在真空室内可作三维空间移动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：谢天生，
申请(专利权)人：中国科学院金属研究所，
类型：实用新型
国别省市：89[中国|沈阳]
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