清洗液流量控制系统及湿法工艺机台技术方案

本实用新型专利技术提供一种清洗液流量控制系统及湿法工艺机台，所述清洗液流量控制系统用于控制湿法工艺机台清洗晶圆的清洗液流量，并包括电动阀和控制模组，所述电动阀设置在向所述湿法工艺机台的工艺腔提供清洗液的供液管道上，所述控制模组包括至少两路工作压力不同的空气压缩机，以及，用于从各路所述空气压缩机中选取一路空气压缩机与所述电动阀连接的流量切换组件。在利用该湿法工艺机台执行相应的湿法工艺时，采用流量切换组件切换不同的空气压缩机，以驱动电动阀实现不同的开启度，进而控制供液管道中的清洗液的流量不同，由此避免现有的湿法工艺机台采用单一清洗液流量来清洗不同产品晶圆时造成清洗后的一些晶圆出现边缘破孔或中心有表面残留物的问题。

【技术实现步骤摘要】
清洗液流量控制系统及湿法工艺机台
本技术涉及集成电路制造
，特别涉及一种清洗液流量控制系统及湿法工艺机台。
技术介绍
在集成电路制造中，湿法(WET)工艺主要是指使用超纯水以及酸碱溶液、有机溶液等化学药液，完成对晶圆的刻蚀、光刻胶剥离以及表面残留物(例如残留的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层、石英、塑料等污染物)的清洗去除等工艺。现有的湿法工艺机台(例如滚筒式湿法刻蚀机台)的清洗液通常是采用单一固定流量的输出，容易造成清洗后的晶圆(wafer)出现边缘破孔或中心有表面残留物的问题。具体地，以一种采用EKC(包含钎杆、有机溶剂、阻蚀剂和水)作为清洗溶剂来去除两种产品的晶圆刻蚀后的表面残留物的湿法工艺为例，当湿法工艺机台的EKC流量在6L/M～7L/M之间时，清洗后，两种产品的晶圆表面的刻蚀残留物均会严重残留；当湿法工艺机台的EKC流量在7L/M～8L/M之间时，清洗后，第一种产品的晶圆表面的刻蚀残留物有轻微残留，第二种产品的晶圆表面基本上没有刻蚀残留物状态且边缘没有破孔；当湿法工艺机台的EKC流量在8L/M～9L/M之间时，清洗后本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗液流量控制系统，用于控制湿法工艺机台清洗晶圆的清洗液流量，其特征在于，所述清洗液流量控制系统包括电动阀和用于控制所述电动阀的开启度的控制模组；其中，所述电动阀设置在向所述湿法工艺机台的工艺腔提供清洗液的供液管道上；所述控制模组包括至少两路工作压力不同的空气压缩机，以及，用于从各路所述空气压缩机中选取一路空气压缩机与所述电动阀连接的流量切换组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗液流量控制系统，用于控制湿法工艺机台清洗晶圆的清洗液流量，其特征在于，所述清洗液流量控制系统包括电动阀和用于控制所述电动阀的开启度的控制模组；其中，所述电动阀设置在向所述湿法工艺机台的工艺腔提供清洗液的供液管道上；所述控制模组包括至少两路工作压力不同的空气压缩机，以及，用于从各路所述空气压缩机中选取一路空气压缩机与所述电动阀连接的流量切换组件。


2.如权利要求1所述的清洗液流量控制系统，其特征在于，所述流量切换组件包括一流量切换开关以及与各路所述空气压缩机对应设置的继电器，所述流量切换开关具有与各路所述空气压缩机一一对应设置的档位，每个所述档位与相应的所述继电器的线圈串联形成一串联支路，所有的串联支路并联，各个所述继电器的触点连接在所述电动阀和相应的空气压缩机之间。


3.如权利要求2所述的清洗液流量控制系统，其特征在于，各个所述继电器的触点均为常开触点，在所述流量切换开关切换到相应的档位时，所述档位串联的所述继电器的线圈吸合，所述继电器的触点闭合，使得相应的所述空气压缩机和所述电动阀连接，在所述空气压缩机的工作压力的驱动下，所述电动阀达到相应的开启度。


4.如权利要求2所述的清洗液流量控制系统，其特征在于，各个所述继电器为单线圈单触点继电器；或者，至少其中两个所述继电器由双线圈双触点继电器来提供。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：董明，
申请(专利权)人：中芯集成电路制造绍兴有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33