射流抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓。本实用新型专利技术射流抛光装置，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液。

【技术实现步骤摘要】
射流抛光装置
本技术涉及磨料水射流抛光领域，具体涉及一种射流抛光装置。
技术介绍
磨料水射流抛光是修正工件表面粗糙度的抛光加工工艺，其利用由喷嘴小孔高速喷出的混有细小磨料粒子的抛光液作用于工件表面，通过磨料粒子的高速碰撞剪切作用达到磨削去除材料。现有射流抛光装置在射流抛光完成后，会有部分抛光液残留在工件上，需要对工件进行清洗，而射流抛光和清洗产生的废液不能有效利用，造成浪费。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种射流抛光装置，其能对工件进行抛光和清洗，且能回用抛光和清洗产生的废液。为实现上述目的，本技术的技术方案是设计一种射流抛光装置，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.射流抛光装置，其特征在于，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；/n所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接；上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网，该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子；滤网与上仓体共轴心，滤网的外圈与上仓体的内壁连接，滤网的内圈与抛光仓的外壁连接；上仓体还设有多个溢...

【技术特征摘要】
1.射流抛光装置，其特征在于，包括：用于夹持工件的夹具，容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓，伸入抛光仓且支承夹具的支架，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴，位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴，位于抛光仓下方的沉淀仓，以及包围沉淀仓的净液仓；
所述沉淀仓包括：与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体，以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体；抛光仓的底端伸入上仓体中，且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接；上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网，该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子；滤网与上仓体共轴心，滤网的外圈与上仓体的内壁连接，滤网的内圈与抛光仓的外壁连接；上仓体还设有多个溢流口，该多个溢流口位于同一高度，且该多个溢流口沿上仓体的周向均布；该多个溢流口位于滤网上方，且该多个溢流口靠近滤网；上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷嘴，该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度，且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布；该多个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方，且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网；下仓体的底端外接竖置排污管，且排污管上设有排污阀；
所述净液仓包括：与上仓体共轴心的竖置圆筒状侧周壁，封闭侧周壁底端的平置圆盘状底壁，...

【专利技术属性】
技术研发人员：田劲松，
申请(专利权)人：苏州协同创新智能制造装备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32