【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶喷涂装置的喷头
本专利技术涉及半导体生产
,具体涉及一种光刻胶喷涂装置的喷头。
技术介绍
在半导体制作中,需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备。光刻胶需要通过溶剂溶解以形成粘稠液态,方能喷涂,而溶剂易于挥发,使得光刻胶暴露在空气中时,容易因溶剂挥发导致结晶,进而使得喷头在暂停作业一段时间后可能因为喷头端部残留的光刻胶结晶导致粘性消失而滴落,甚至使得喷头内光刻胶全部结晶而滴落,导致浪费,因此,还有改善空间。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的不足,提供一种光刻胶喷涂装置的喷头,它可以通过隔断板的下移封堵喷胶孔,可有效减少喷涂完成后喷头内的光刻胶结晶,减少光刻胶的浪费。本专利技术解决所述技术问题的方案是:一种光刻胶喷涂装置的喷头,包括喷头本体,所述喷头本体内成型有上侧开口的储胶腔,储胶腔的底面上成型有多个上下贯穿的喷胶孔;所述储胶腔内套接有隔断板,隔断板上成型有多个与喷胶孔错开设置的通胶孔;所述隔断板的上方设有驱使其上下移动的隔断机构。所述隔断机构包括压靠在隔断板的上底面上的凸轮,凸轮固定在转轴的中部,转轴的两端铰接在喷头本体上,转轴穿过喷头本体的一伸出端固定有齿轮,齿轮啮合有齿条,齿条插套在齿条导向座上,齿条导向座的上端固定有伸缩缸,伸缩缸的伸缩杆的端部;所述齿条导向座固定在喷头本体的外壁上;所述隔断板的中部成型有下侧开口的弹簧孔,弹簧孔内套接有压簧,压簧的下端压靠在储胶腔的底面上。所述储胶腔的内壁上成型有与转轴同轴心 ...
【技术保护点】
1.一种光刻胶喷涂装置的喷头,包括喷头本体(1),其特征在于:所述喷头本体(1)内成型有上侧开口的储胶腔(11),储胶腔(11)的底面上成型有多个上下贯穿的喷胶孔(12);所述储胶腔(11)内套接有隔断板(2),隔断板(2)上成型有多个与喷胶孔(12)错开设置的通胶孔(21);所述隔断板(2)的上方设有驱使其上下移动的隔断机构(3)。/n
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶喷涂装置的喷头,包括喷头本体(1),其特征在于:所述喷头本体(1)内成型有上侧开口的储胶腔(11),储胶腔(11)的底面上成型有多个上下贯穿的喷胶孔(12);所述储胶腔(11)内套接有隔断板(2),隔断板(2)上成型有多个与喷胶孔(12)错开设置的通胶孔(21);所述隔断板(2)的上方设有驱使其上下移动的隔断机构(3)。
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶喷涂装置的喷头,其特征在于:所述隔断机构(3)包括压靠在隔断板(2)的上底面上的凸轮(31),凸轮(31)固定在转轴(32)的中部,转轴(32)的两端铰接在喷头本体(1)上,转轴(32)穿过喷头本体(1)的一伸出端固定有齿轮(33),齿轮(33)啮合有齿条(34),齿条(34)插套在齿条导向座(35)上,齿条导向座(35)的上端固定有伸缩缸(36),伸缩缸(36)的伸缩杆的端部;所述齿条导向座(35)固定在喷头本体(1)的外壁上;所述隔断板(2)的中部成型有下侧开口的弹簧孔(22),弹簧孔(22)内套接有压簧(30),压簧(30)的下端压靠在储胶腔(11)的底面上。
3.根据权利要求2所述的一种光刻胶喷涂装置的喷头,其特征在于:所述储胶腔(11)的内壁上成型有与转轴(32)同轴心设置的沉孔(13)和通孔(14),沉孔(13)内套接有轴套(37),所述转轴(32)的一端插套在轴套(37)内,转轴(32)上套接并固定有轴环(38)...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏运秀,
申请(专利权)人:赣州市业润自动化设备有限公司,
类型:发明
国别省市:江西;36
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