光学测量设备/方法技术

本发明专利技术的光学测量设备和方法用于通过利用穿过持测物质的测量光和利用预定的参考光来测量含于待测物质中的特定成分的物理量，包括获取第一、第二光干涉信号的第一、第二干涉装置；将第一、第二光干涉信号转换为第一、第二电信号的第一、第二光电转换部分；扩展第一、第二电信号的相位的第一、第二相位扩展部分；用于测量经第一、第二相位扩展部分扩展后的相位的相差的相差测量部分；及根据相差测量部分测得的相差来确定物理量的物理量确定部分。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于测量包含于一个待测物质中的一种特定成份的物理量的光学测量设备，以及一种该设备使用的方法。使用光干涉测量一种物理量的方法已众所周知。该物理量包括，诸如物体的位移、物体的表面轮廓、具有双折射特性的物质的双折射，以及具有旋光能力的物质的水溶液的浓度。该方法利用的事实是在外差干涉光的相位和一个测量物体的特定成份的物理量之间存在一种关系。该方法包括将干涉光转换成一种电信号并通过测量该电信号的相位来确定该特定成份的物理量。总之，确定物理量是通过测量测量光的相位偏离已知参考光的相位的偏移(即参考光和测量光之间的相差)进行的。一般说来，参考光和测量光之间的相差受待测物理量变化的影响。当物理的变化变大时，相位差也变大。然而相差一般非常小。因而要求精度极高的相差测量仪以高分辨率和高精度测量该物理量的变化。相差测量仪的分辨率的极限在电学上一般为0.1度至0.01度。低于上述限度的相差就不能被测量了。因而用传统方法不可能测量该物理量的微小变化。本专利技术的光学测量设备用于通过利用穿过待测物质的测量光及利用预定参考光而测量含于待测物质中的特定成份的物理量，该设备包括一个第一干涉装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于通过使用穿过待测物质的测量光和使用预定的参考光来测量含于待测物质中的特定成份的物理量的光学测量设备，该光学测量设备包括： 一个第一干涉装置，用于通过干涉测量光而获得第一光干涉信号； 一个第二干涉装置，用于通过干涉参考光而获得第二光干涉信号； 一个第一光电转换部分，用于将第一光干涉信号转换为第一电信号； 一个第二光电转换部分，用于将第二光干涉信号转换为第二电信号； 一个第一相位扩展部分，用于第一电信号的相位； 一个第二相位扩展部分，用于扩展第二电信号的相位； 一个相差测量部分，用于测量经第一相位扩展部分扩展的相位和经第二相位扩展部分扩展的相位之间...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：徐可欣，仲道男，铃木范人，
申请(专利权)人：京都第一科学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]