一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法技术

一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸钠0.2～0.4wt％、氧化铬0.1～0.3wt％；所述烧成温度为1080～1120℃，烧成气氛为空气气氛。本发明专利技术制备的青瓷釉料能耗低。与传统的青瓷釉料采用多种矿物原料相比，本发明专利技术的青瓷釉在1080～1120℃下即可烧成，可降低青瓷釉烧成过程中的能耗；青瓷釉料在氧化焰气氛下烧成，烧成制度稳定可控，操作简单，而且得到的釉料呈色稳定，易于生产控制。

【技术实现步骤摘要】
一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法
本专利技术涉及一种陶瓷制备
，尤其涉及一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法。
技术介绍
青瓷被誉为“瓷器之母”，历史悠久，文化底蕴深厚，一直是中国制瓷业的主要品种。作为我国物质文化与精神文化体现之一的青瓷以其特殊的美质和魅力、独特的形式语言，创造了令世人惊叹的审美意蕴。青瓷釉料主要采用长石、石英、滑石、高岭土等矿物原料以及氧化铁或氧化铬作为发色剂在还原焰气氛(不完全燃烧，一氧化碳较多)下制备而成。如中国专利技术专利《一种耀州窑天青釉的仿制工艺方法》(CN103819224A)公开了一种以钾长石、石英、粘土、方解石、苏州土和滑石为矿物原料，氧化铁为发色剂制备天青釉的方法，该方法制备的天青釉的烧成温度为1250～1300℃，烧成气氛为还原焰；中国专利技术专利《粉青釉料及其产品的制作方法》(CN101768017B)公开了一种以釉果、长石、石英、滑石为矿物原料，氧化铬为发色剂在还原焰气氛下经1280～1310℃制备粉青釉的方法。综上所述，虽然制备出的青瓷釉呈色好，但其原料为多种矿化原料复配而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，其特征在于，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸钠0.2～0.4wt％、氧化铬0.1～0.3wt％；所述烧成温度为1080～1120℃，烧成气氛为空气气氛。/n

【技术特征摘要】
1.一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，其特征在于，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸钠0.2～0.4wt％、氧化铬0.1～0.3wt％；所述烧成温度为1080～1120℃，烧成气氛为空气气氛。


2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在原料处理步骤中，将所述原料球磨至一定粒径范围，其中，所述透明熔块的粒径范围为100～200目，苏州土的粒径范围为100～250目。


3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述原料采用干法球磨，所使用的球磨机转速为700～900r/min，球磨子为刚玉陶瓷球磨子，原料、球磨...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐晓虹，陈元彪，吴建锋，刘星，邹腊年，
申请(专利权)人：武汉理工大学，绍兴市上虞区理工高等研究院，
类型：发明
国别省市：湖北;42