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一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸...
该专利属于武汉理工大学;绍兴市上虞区理工高等研究院所有，仅供学习研究参考，未经过武汉理工大学;绍兴市上虞区理工高等研究院授权不得商用。

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