具有延伸成像深度的莫阿干涉测量系统和方法技术方案

一种莫阿干涉测量系统，用于测量有轮廓表面的形状，其特征在于所述系统包括： 用于把光栅划线投射到有轮廓表面上的投影系统，包括光源和第一周期性光栅，所述第一周期性光栅具有用于产生方波线的第一方波光栅划线阵列，所述投影系统还包括用于对所述方波线的较高衍射级进行滤光从而在所述表面上产生类似于正弦波的光栅划线阵列的装置；以及 观察系统，包括具有第二光栅划线阵列的第二周期性光栅，所述观察系统还具有用于观察通过所述第二光栅划线阵列投射到所述表面上的光栅划线的装置，在所述表面上投射的线与子光栅上的线相交产生莫阿条纹。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面轮廓检测，尤其涉及莫阿干涉测量系统和方法，用于检测大表面的表面轮廓且观看图像具有延伸的深度。
技术介绍
表面测量技术专用于通过尝试辨别凹痕、平斑、皱纹和波纹等形状不规则来检查片状金属板材是否存在缺陷。有各种测量物体表面轮廓的非接触方案。常规的检查技术包括依靠表面上的光亮抛光并使用彩色荧光管来进行肉眼检查。其它方案包括诸如光线仿形、立体观察和形状描影法等范围寻找技术。然而，这些常规的方案本质上是主观的而且容易产生一些问题。众所周知另一种方案，即莫阿干涉测量术提供了具有灰度值的全视场处理数据，可使这些数据不易受明暗变化、污垢和其它非形状参数的影响。莫阿干涉测量术是一种全视场的非接触方法，用于对结构的平面内形变测量平面外位移。典型的莫阿干涉图案是与表面位置同等变化的一系列明暗条纹线，它们绘出物体轮廓的变化，就象地形地图描绘地面的轮廓一样。通过把两个光栅叠加在一起来形成莫阿干涉测量条纹，一个光栅位于物体上，另一个是通过其观察物体的基准光栅。通过最大限度和最小限度地叠加两个光栅来产生莫阿图案。摄像机或其它观察装置通过子(submaster)光栅划线来观察表面上的光栅划线。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：K·G·哈丁，
申请(专利权)人：工业技术研究所，
类型：发明
国别省市：