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一种莫阿干涉测量系统，用于测量有轮廓表面的形状，其特征在于所述系统包括： 用于把光栅划线投射到有轮廓表面上的投影系统，包括光源和第一周期性光栅，所述第一周期性光栅具有用于产生方波线的第一方波光栅划线阵列，所述投影系统还包括用于对所述方...
该专利属于工业技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过工业技术研究所授权不得商用。

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