检测空气中的金属浓度的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供用于检测空气中的金属浓度的方法，包括混合溶液，其包含被溶剂溶解的金属，并且试剂与溶解在溶剂中的金属离子结合，并参考溶剂和试剂的混合物与溶液与试剂的混合物之间的吸收率的差异。还提供了一种用于执行在此描述的过程的装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种金属浓度的检测装置。具体而言，本专利技术涉及一种用 于。
技术介绍
近年来随着半导体设备图案的极端縮小，非常适合在容纳有多个半导 体处理设备的无尘室中保持最低的污染度。包含在无尘室中的诸如铜的金 属污染物会造成半导体设备产品的严重老化。这种无尘室中的金属污染物 会在半导体片上沉积金属膜时产生。尽管具有用于测量无尘室中的非金属污染物的浓度几种方法，但是检 测金属污染物的方法很有限。
技术实现思路
本专利技术指向用于检测包含在诸如无尘室的空间中的空气中的金属污 染物浓度的装置和方法。本专利技术的实施例包括用于检测区域中的金属浓度的方法，该方法包括 将来自该区域的空气暴露在一种溶剂中，以允许金属在该溶剂中溶解；光 照射在金属已经溶解在其中的溶液的液态混合物(a)上，该溶液与一种 与金属化学结合的试剂(b)相结合；以及通过测量液态混合物的吸收率 来检测金属的浓度。在一个特定实施例中，通过将来自该空间的空气提 供给溶剂，并将金属溶解在该溶剂中；在金属已经溶解在其中的溶液的液态混合物上照射光，并在一种与金属化学结合的试剂上照射光；以及参考 该液态混合物的吸收率检测金属浓度。本专利技术的实施例还提供一种用于检测空气金属浓度的方法，包括混合 溶液，其中大气金属被溶解在溶剂中，用一种与包含在溶液中的金属离子化学结合的试剂；通过比较溶剂和试剂的液态混合物的吸收率与试剂和溶液的液态混合物的吸收率的差异检测金属的浓度。特别地，检测大气金属 的浓度可能包括混合一种溶液，其中大气金属被溶剂溶解，用一种与包含在溶液中的金属离子化学结合的试剂；参考溶剂和试剂的液态混合物的吸 收率与试剂和溶液的液态混合物的吸收率的差异检测金属的浓度。本专利技术的实施例进一步包括一种用于检测区域中的金属浓度的装置， 包括第一容器，其中该区域中的金属被溶剂溶解；第二容器，其能够容 纳与金属化学结合的试剂；第一单元，其能够(a)接收来自第一容器的 溶液和容纳在第二容器中的试剂，其中金属被溶解在该溶液中，(b)使该 溶液和该试剂结合；以及第二单元，其能够在由第一单元提供的液态混合 物上照射光，并进一步能够通过测量液态混合物的吸收率来检测金属的浓 度。例如， 一种用于检测空间中的金属浓度的装置可能包括气态溶液容器， 其中该空间的金属被溶剂溶解；试剂容器，其容纳一种与金属化学结合的 试剂；混合单元，其接收来自气态溶液容器的其中溶解有金属的溶液，和 来自试剂容器的试剂，并混合该溶液和该试剂；以及测量单元，其在由混 合单元制成的液体混合物上照射光，并通过测量该液态混合物的吸收率检 测金属的浓度。本专利技术的特征和优势的进一步理解在此可以通过参考说明书的其余 部分和附图来实现。附图说明将参照以下的视图说明本专利技术的非限制和非详尽的实施例，其中，除 非另外所指，各个视图中相同的附图标记表示相同的部分。图l是说明根据本专利技术的实施例的金属浓度检测装置的结构的示意图；图2是说明图1中所示的测量单元的结构的示意图；图3是比较地示出无铜脱离子水和螯合物的混合物的吸收率，以及含铜脱离子水和螯合物的混合物的吸收率的图表；图4是示出含铜脱离子水和螯合物的混合物的吸收率相对于铜的浓度 的变化的图表；以及图5是示出根据本专利技术的实施例检测金属浓度的步骤顺序的流程图。具体实施方式以下将参照附图更完整地说明本专利技术，其中示出了本专利技术的实施例。 然而，本专利技术可以以很多不同的形式来体现，而不应被解释为限制这里公 开的实施例。相反地，提供这些实施例使得本公开彻底和完整，并且向本 领域技术人员完整地表达本专利技术的范围。在附图中，为了清楚起见，层和 区域的尺寸和相对尺寸被放大。可以理解的是，当一个元件或层被称为"在...上"、"连接到" 或"连结到"另一元件或层时，它可能是直接在其上，连接到或连结到另一 元件或层，或者可能存在中间元件或层。相反地，当一个元件被称为"直 接在...上"、"直接连接到"或"直接连结到"另一元件或层，就不存在中间元 件或层。相同的标记始终表示相同的元件。如在此使用的，术语"和/或" 包括一个或多个相关的列出的项目的任何和所有组合。将理解，虽然这里可能使用术语第一、第二等来描述各种元 件、成分、区域、层和/或部分，但是这些元件、成分、区域、层和/或部 分不应被这些术语限制。这些术语只是用来区分一个元件、成分、区域、 层或部分与另一个区域、层或部分。因此，在不脱离本专利技术的教导下，下 面讨论的第一元件、成分、区域、层或部分可以被称为第二元件、成分、 区域、层或部分。为了易于描述，这里可能使用的空间相对术语，例如"在... 之下"、"在…下面"、"下面的"、"在…上面"、"上面的"等，用来描述一个 元件或特征与另一个或多个元件或特征的关系，加图中说明的。将理解， 除了图中描述的定位，这些空间相对术语旨在包含使用中或运行中的设备 的不同定位。例如，如果图中的设备被翻转，那么被描述为在其它元件或 特征"下面"或"之下"的元件将被定位为在其它元件或特征"上面"。因此，示范的术语"在...下面"既包括上面的定位，也包括下面的定位。另外设备 也可以被定向(旋转90度或在其它方位)，这里使用的空间相对描述词相 应地被解释。这里使用的术语只是出于描述特定实施例的目的，不是旨在 限制本专利技术。如这里使用的，单数形式的"一"、"一个"或"该"旨在也包括 复数形式，除非上下文另外清除地指示。这里提及的所有公开、专利申请、 专利和其它参考文献被完整地结合在这里作为参考。将进一步理解，当在本说明书中使用术语"包含"和/或"包括" 时，指定存在所述特征、整体、步骤、操作、元件、和/或成分，但是不 排除存在或增加其它特征、整体、步骤、操作、元件、成分、和/或其群 体中的一个或多个。而且，将理解，包括在此提供的方法的步骤可以被独立地执 行，或者至少两个步骤可以被结合。此外，包括在此提供的方法的步骤， 当被独立地或结合执行时，可以在相同的温度和/或大气压力或者在不同 的温度和/或大气压力下执行，只要不脱离本专利技术的教导。除非另有限定，在此使用的所有术语(包括技术和科学术语) 具有与本专利技术所属
的普通技术人员中的一个通常理解的相同的含义。将进一步理解，例如在通常使用的字典中定义的那些术语应该被解 释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义一致的含义，将不以理想的 或极端的形式解释，除非在此特别这样定义。图1是说明根据本专利技术的实施例的金属浓度检测装置20的结 构的示意图。参考图l，金属浓度检测装置20包括气态溶液容器100，试剂 容器200，混合单元300，和测量单元400。气态溶液容器100通过在溶剂中 溶解预定量的空气产生溶液，该预定量的空气是从空间(下文中，为检测 空间12)中抽取的，从该空间检测金属浓度。气态溶液容器100可以与一 个混合器(未示出)关联，以帮助要被溶解在溶剂中的空气金属。气态溶 液容器100可以被连接到气体流入管120。气体流入管120可以通过底壁插 入到气态溶液容器100中。气体流入管120可以被设置作为从检测空间12 向气态溶液容器100的提供空气的通路。在一些实施例中，检测空间12是无尘室10，其中进行半导体制造过程。在无尘室10中，可以使用多个半导体制造设备进行加工步骤。 气体流入管120的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于检测区域中的金属浓度的方法，包括：　将来自该区域的空气提供给溶剂，以允许金属在该溶剂中溶解；　将光照射在溶液的液态混合物上，在该溶液中金属已经溶解，并与能与所述金属化学结合的试剂结合；以及　通过测量该液态混合物的吸收率检测所述金属的浓度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：洪显基，李宰硕，李阳求，李宪定，朴正大，朴善喜，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[]