一种正入射式反射光相位信息表征光路系统及方法技术方案

技术编号:25687653 阅读:93 留言:0更新日期:2020-09-18 21:00
本发明专利技术涉及一种正入射式反射光相位信息表征光路系统及方法,光路系统由光路a与光路b两部分光路组成,包括激光器、起偏器、偏振分束器、第一1/4波片、第一样品台、第二1/4波片、第二样品台、第三1/4波片、检偏器、衰减器、探测器。光束经过偏振分束器后分为光路a与光路b,分别经过1/4波片与样品平台后反射,之后两束光从新汇聚于偏振分束器。本光路系统可同时测量样品反射光的强度信息和相位信息,即可获取反射光谱的全方面信息,为超构材料、光学天线、等离激元阵列等人工微纳结构以及光学薄膜、自然材料等体系提供一种实用的光谱检测技术。

【技术实现步骤摘要】
一种正入射式反射光相位信息表征光路系统及方法
本专利技术涉及材料正入射式反射光光强与相位探测
,尤其是涉及一种正入射式反射光相位信息表征光路系统及方法。
技术介绍
当电磁波入射到由两种不同介质组成的界面上时,通常会发生反射现象。与入射光相比,很多情况下,反射光不但会有振幅的变化还同时伴有相位的改变,其行为也最终由这两部分信息共同决定。近年来,超构材料(超构表面)概念的出现更是大大丰富了人们操控电磁波的手段,在外界的激励下,组成材料的“人工原子”——人工亚波长微结构单元——作为次波源,可根据设计实现任意的电磁辐射强度和相位分布,从而可实现任意的电磁波波前调控。由此可见,要想准确掌握电磁波的传播行为,不但要知道其振幅,而且也需要知道其相位信息。然而,现有技术在光谱强度信息测量方面很成熟(由此可得振幅的值),但是对于相位信息的检测方法并不多见,尤其是对红外、可见光甚至紫外光等高频波段电磁波来说相位信息的测量方法更是少之又少,对于可见-近红外相位信息只能用仿真软件模拟得到。
技术实现思路
本专利技术的目的就是为了解决上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种正入射式反射光相位信息表征光路系统,其特征在于,包括:/n光源发射器,用于发射光源;/n起偏器(2),用于将所述光源发射器发射的光源形成偏振光;/n偏振分束器(3),用于将所述偏振光分成两束光路:光路a与光路b;/n第一样品台(5),设于所述光路a中,用于放置被测样品,所述第一样品台(5)与所述偏振分束器(3)之间设有第一1/4波片(4);/n第二样品台(7),设于所述光路b中,用于放置标准样件,所述第二样品台(7)与所述偏振分束器(3)之间设有第二1/4波片(6);及/n反射光检测单元,使携带样品信息的测试反射光和参考反射光发生相干干涉,并通过探测光谱强度计算被测样品的相位信息。/n

【技术特征摘要】
1.一种正入射式反射光相位信息表征光路系统,其特征在于,包括:
光源发射器,用于发射光源;
起偏器(2),用于将所述光源发射器发射的光源形成偏振光;
偏振分束器(3),用于将所述偏振光分成两束光路:光路a与光路b;
第一样品台(5),设于所述光路a中,用于放置被测样品,所述第一样品台(5)与所述偏振分束器(3)之间设有第一1/4波片(4);
第二样品台(7),设于所述光路b中,用于放置标准样件,所述第二样品台(7)与所述偏振分束器(3)之间设有第二1/4波片(6);及
反射光检测单元,使携带样品信息的测试反射光和参考反射光发生相干干涉,并通过探测光谱强度计算被测样品的相位信息。


2.根据权利要求1所述的一种正入射式反射光相位信息表征光路系统,其特征在于,所述反射光检测单元包括依次设置的探测器(11)、衰减器(10)、检偏器(9)以及第三1/4波片(8),
所述光路a中被测样品的反射光以及所述光路b中标准样件的反射光经过所述偏振分束器(3)汇聚,汇聚后的两束光同时出射并依次经过所述第三1/4波片(8)及检偏器(9),所述第三1/4波片(8)与检偏器(9)对光进行调制,之后再经过所述衰减器(10),进入所述探测器(11)。


3.根据权利要求1所述的一种正入射式反射光相位信息表征光路系统,其特征在于,所述光路a与光路b相互垂直。


4.根据权利要求1所述的一种正入射式反射光相位信息表征光路系统,其特征在于,所述偏振分束器(3)的分光比1:1。


5.根据权利要求1所述的一种正入射式反射光相位信息表征...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘锋李晓温徐笛瑞俞伟伟许昊郝加明
申请(专利权)人:上海师范大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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