【技术实现步骤摘要】
一种可调光学对位平台
本技术涉及曝光设备
，尤其是用于装载掩膜版平台的对位平台安装结构。
技术介绍
曝光是指将涂布感光胶的产品置于曝光机工作台上，与掩膜版对位，通过曝光获得一种将掩膜版图案转移到基板上的过程。现有曝光设备中，掩膜版安装在装载平台上，安装后还需要进行装载平台与工件台平行调整，以满足对位曝光后转移图案均匀性的要求。现有技术中，装载平台与工作台平行度要么可调性不佳，影响曝光作业；要么调节结构复杂化，制作成本高。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可调光学对位平台，结构简单，方便调节。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：一种可调光学对位平台，具有机座及组装在机座上的装载平台，所述装载平台的四个方位均通过升降模块连接机座，且机座在其中三个方位中布设平移直线模块连接对应的升降模块，实现装载平台的三个方位相对平移调整；而剩下一个方位的升降模块直接固定在机座上，实现装载平台的定位。上述方案进一步是，所述升降模块基于螺母丝杆配合调节升降，调节操作方位布置在装载平台的上侧...
【技术保护点】
1.一种可调光学对位平台，具有机座（1）及组装在机座（1）上的装载平台（2），其特征在于：所述装载平台（2）的四个方位均通过升降模块（3）连接机座（1），且机座（1）在其中三个方位中布设平移直线模块（4）连接对应的升降模块（3），实现装载平台（2）的三个方位相对平移调整；而剩下一个方位的升降模块（3）直接固定在机座（1）上，实现装载平台（2）的定位。/n
【技术特征摘要】
1.一种可调光学对位平台，具有机座（1）及组装在机座（1）上的装载平台（2），其特征在于：所述装载平台（2）的四个方位均通过升降模块（3）连接机座（1），且机座（1）在其中三个方位中布设平移直线模块（4）连接对应的升降模块（3），实现装载平台（2）的三个方位相对平移调整；而剩下一个方位的升降模块（3）直接固定在机座（1）上，实现装载平台（2）的定位。
2.根据权利要求1所述的一种可调光学对位平台，其特征在于：所述升降模块（3）基于螺母丝杆配合调节升降，调节操作方位布置在装载平台（2）的上侧。
3.根据权利要求2所述的一种可调光学对位平台，其特征在于：所述升降模块（3）包括升降丝杆（31）、螺母座（32），升降丝杆（31）具有螺纹端（311）和调节端（312），升降丝杆（31）的螺纹端（311）经由装载平台（2）提供的通孔由上往下穿设并锁接到螺母座（32）的螺孔中，升降丝杆（31）的调节端（312）则限位卡在装载平台（2）的通孔上方并与装载平台（2）联动升降，以此达到升降丝杆（31）在螺母座（32）的螺孔中旋进旋出来调节装载平台（2）的升降；所述四个升降模块（3）的螺母座（32）分别连接平移直线模块（4）和机座（1）。
4.根据权利要求1或3所述的一种可调光学对位平台，其特征在于：所述平移直线模块（4）包括有滑轨（41）、滑块（42）及电机丝杆（43），滑轨（41）固定在机座（1）上，滑块（42）按可滑动组装在滑轨（41）上并由电机丝杆（43）驱动平移；对应...
【专利技术属性】
技术研发人员：余燕青，甘泉，
申请(专利权)人：东莞市友辉光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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