光阻涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术有关于一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，包括一基材固持构件，用以固持一基材；一旋转构件，水平设置于基材固持构件的至少一接合部处，其中旋转构件用以转动或线性移动基材固持构件；以及一喷淋构件，设置于基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于基材以于基材上形成光阻层，其中喷淋构件的移动方向与基材固持构件的转动方向垂直或与基材固持构件的线性移动方向垂直。本实用新型专利技术的装置可于多种基材上形成光阻层，所形成的光阻层也具有较好的均匀度，且可缩短成膜时间。

【技术实现步骤摘要】
光阻涂布装置
本技术是有关一种光阻涂布装置，尤其是关于一种可对不同承载台上的基材形成光阻层的光阻涂布装置。
技术介绍
以往在制作全像图图案转移时，请参考图1至图2，先于滚轮10上组装薄片状的全像版11，再将全像版11上的全像纹路图案21转移至材料20上，使材料20具有相对应的全像纹路图案21。上述全像纹路图案21的转移方式，转移后的材料20上两个相邻的全像纹路图案21之间，会留下对应于全像板11的接缝12的间隙22。因此，转移后的材料20在后续使用时，因为间隙22的存在而会造成材料20极大的浪费。一种改进的技术如图3所示，利用制作光阻、显影以将图案转移，其中当形成光阻层时，滚轮10倾斜设置，光阻材料利用滴涂(dripcoating)的方式慢慢涂布于滚轮10上，此种制作程序需耗费十几个工作日，且涂布的均匀度不是非常好。有鉴于上述现有结构的缺点，制造品质良好、符合成本效益又适合于全像图图案转移的光阻涂布装置便是目前极需努力的目标。
技术实现思路
本技术提供一种光阻涂布装置，用于将一光阻层形成至一基材，此外，此装置适用于不同基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，其特征在于，包括：/n一基材固持构件，用以固持所述基材；/n一旋转构件，水平设置于所述基材固持构件的至少一接合部，其中所述旋转构件用以转动或线性移动所述基材固持构件；以及/n一喷淋构件，设置于所述基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于所述基材以于所述基材上形成所述光阻层，其中所述喷淋构件的移动方向与所述基材固持构件的转动方向垂直或与所述基材固持构件的线性移动方向垂直。/n

【技术特征摘要】
1.一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，其特征在于，包括：
一基材固持构件，用以固持所述基材；
一旋转构件，水平设置于所述基材固持构件的至少一接合部，其中所述旋转构件用以转动或线性移动所述基材固持构件；以及
一喷淋构件，设置于所述基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于所述基材以于所述基材上形成所述光阻层，其中所述喷淋构件的移动方向与所述基材固持构件的转动方向垂直或与所述基材固持构件的线性移动方向垂直。


2.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述基材固持构件为一圆柱形滚轮，且所述基材为金属材质制成的基材；及所述基材固持构件的所述接合部锁接固定于所述旋转构件上。


3.如权利要求2所述的光阻涂布装置，其特征在于，在所述喷淋构件将所述光阻材料喷洒于所述基材的状态下，所述旋转构件以一第一速度转动所述圆柱形滚轮；在所述光阻材料涂布喷洒于所述基材后，所述旋转构件以一第二速度转动所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述基材上，其中所述第二速度高于所述第一速度。


4.如权利要求3所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述第一速度为1转/分钟至500转/分钟；以及所述第二速度为100转/分钟至3000转/分钟。


5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：林刘恭，
申请(专利权)人：光群雷射科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71