药液及药液的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供一种即使在应用于利用EUV曝光进行的抗蚀剂步骤时也具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且，本发明专利技术的另一课题在于提供一种药液的制造方法。本发明专利技术的药液含有：有机溶剂；及含有金属原子的含金属粒子，所述药液中，含金属粒子中粒径为0.5～17nm的金属纳米粒子在药液的每单位体积中的含有粒子数为1.0×10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】药液及药液的制造方法
本专利技术涉及一种药液及药液的制造方法。
技术介绍
通过包含光刻的配线形成工序制造半导体器件时，可使用含有水和/或有机溶剂的药液来作为预湿液、抗蚀剂液(抗蚀剂组合物)、显影液、冲洗液、剥离液、化学机械性抛光(CMP：ChemicalMechanicalPolishing)浆料及CMP之后的清洗液等或它们的稀释液。近年来，图案的微细化随着光刻技术的进步而不断发展。作为图案的微细化的方法，可使用将曝光光源进行短波长化的方法，已尝试使用作为进一步短波长的EUV(极紫外线)等来代替以往所使用的紫外线、KrF准分子激光及ArF准分子激光等来作为曝光光源而形成图案。关于利用上述EUV等进行的图案形成，作为抗蚀剂图案的宽度，将10～15nm作为目标来进行开发，对于该步骤中所使用的上述药液要求更加优异的缺陷抑制性能。作为以往用于形成抗蚀剂图案的药液的制造方法，在专利文献1中记载有“一种抗蚀剂组合物的制造方法，其用于半导体装置制造工序中，该方法的特征在于，利用清洗液清洗抗蚀剂组合物的制造装置，从制造装置取出该清洗液来本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种药液，其含有：/n有机溶剂；及/n含有金属原子的含金属粒子，/n所述含金属粒子中粒径为0.5nm～17nm的金属纳米粒子在药液的每单位体积中的含有粒子数为1.0×10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180112 JP 2018-0035051.一种药液，其含有：
有机溶剂；及
含有金属原子的含金属粒子，
所述含金属粒子中粒径为0.5nm～17nm的金属纳米粒子在药液的每单位体积中的含有粒子数为1.0×101个/cm3～1.0×109个/cm3。


2.根据权利要求1所述的药液，其中，
所述含金属粒子的个数基准的粒径分布在选自由粒径小于5nm的范围及粒径超过17nm的范围组成的组中的至少一个范围内具有极大值。


3.根据权利要求2所述的药液，其中，
所述粒径分布在粒径为0.5nm以上且小于5nm的范围内具有极大值。


4.根据权利要求1至3中的任一项所述的药液，其用于制造半导体器件。


5.根据权利要求1至4中的任一项所述的药液，其中，
所述金属纳米粒子包含选自由下述粒子组成的组中的至少一种，
含有所述金属原子的单质的粒子A、
含有所述金属原子的氧化物的粒子B、以及
含有所述金属原子的单质及所述金属原子的氧化物的粒子C。


6.根据权利要求5所述的药液，其中，
所述药液的每单位体积的、所述粒子A的含有粒子数相对于所述粒子B的含有粒子数和所述粒子C的含有粒子数的总计的含有粒子数之比小于1.0。


7.根据权利要求5或6所述的药液，其中，
所述含有粒子数之比为1.0×10-1以下。


8.根据权利要求1至7中的任一项所述的药液，其还含有沸点为300℃以上的有机化合物。


9.根据权利要求8所述的药液，其中，
所述金属纳米粒子的至少一部分...

【专利技术属性】
技术研发人员：上村哲也，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP