一种差压传感器过载保护装置，装置整体包括有膜片座（１）、压板（２）、基座（４）、隔离膜片（６）、硅压力传感器（７）、定位盘（８）和硅油（１０），其特征在于所述传感器（７）两侧由内向外依次装有过载膜片（３）、圆盘（９）以及碟型簧片（５），当存在过载压力时碟型簧片（５）发生压缩变形，过载膜片（３）将产生一定位移，使隔离膜片（６）在过载压力作用下紧贴膜片座（１）。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种测量两个压力差值的设备或仪表，具体的讲是涉及一种应用压敏元件的差压传感器的过载保护装置。
技术介绍
目前，国内的扩散硅差压变送器主要是依靠进口，其核心技术扩散硅传感器的单向过载问题没有很好解决。例如中国技术专利申请号89106651.9，公开号1040682，名称为“差压传感器”，公开了一种差压传感器，所述差压传感器包括布置在一个物件两侧的两个压力接收膜，物体外面固定有确定的两个槽，槽内充满压力传递介质；布置在两个压力接收膜之间的一个中心膜，这样就确定了有两个箱室，在该物体内部充进压力传递介质；两个主传递通道，分别在两个箱室和两个槽之间传递；两个副传递通道，传递该两个箱室的压力；还包括装有两个压力测量室的一个差压敏感元件，接收该两个副传递通道到该两个槽所传递的压力并把该两个压力的差压转换成电信号。但，由于过载保护点的太高太低都会对变送器的性能产生影响，而影响过载保护点的因素也比较多，如膜片座和基座的加工质量、及充灌油量的控制等等，上述专利结构过于复杂，设定过载保护点比较困难。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服了现有差压传感器过载保护机构过于复杂的缺点，提供一种结构简单、过载保护值设定方便的差压传感器过载保护装置。为了实现本技术的目的，本技术采用的技术方案；一种差压传感器过载保护装置，装置整体包括有膜片座、压板、基座、隔离膜片、硅压力传感器、定位盘和硅油，其特征在于所述传感器两侧由内向外依次装有过载膜片、圆盘以及碟型簧片，当存在过载压力时碟型簧片发生压缩变形，过载膜片将产生一定位移，使隔离膜片在过载压力作用下紧贴膜片座。本技术的有益效果是，在差压传感器的正常工作范围内，碟型簧片不产生压缩变形，过载膜片位移极小，差压传感器具有优良的性能。当压差超过传感器的最大工作量程时，过载保护机构起作用，使传感器所受差压小于其过载极限，保证传感器不被击坏。本技术中过载簧片的刚度测试表明每一片簧片均能满足过载保护的要求，又能保证正负压力两边压力传递的对称性。正确的设计、合理的工艺使过载机构能对传感器中的硅片起到充分的保护作用，即使变送器处于单向静压状态也不易被击坏。附图说明图1是差压传感器过载保护装置结构示意图。具体实施方式以下结合附图1对本技术进一步详细描述一种差压传感器过载保护装置，装置整体包括有膜片座(1)、压板(2)、基座(4)、隔离膜片(6)、硅压力传感器(7)、定位盘(8)和硅油(10)，其特征在于所述传感器(7)两侧由内向外依次装有过载膜片(3)、圆盘(9)以及碟型簧片(5)，这三者构成过载保护机构，如图1所示，当存在过载压力时碟型簧片(5)压缩变形，过载膜片(3)将产生一定位移，使隔离膜片(6)在过载压力作用下紧贴膜片座(1)。碟型簧片受一定的预紧力，在正常工作测量范围下，过载保护机构没有位移。当被测差压超过硅压力传感器的最大量程时，过载保护机构起作用。随着差压的增大，高压侧过载膜片传递给碟型簧片的压力增大，碟型簧片产生受压变形，过载膜片向低压侧方向产生一定位移，使得高压侧隔离膜片能受压后紧贴膜片座。超过硅压力传感器过载范围的压力由膜片座承受，不再对传感器产生作用。当硅压力传感器两侧压差回落到正常工作范围，保护机构返回正常位置，差压传感器返回正常状态。权利要求1.一种差压传感器过载保护装置，装置整体包括有膜片座(1)、压板(2)、基座(4)、隔离膜片(6)、硅压力传感器(7)、定位盘(8)和硅油(10)，其特征在于所述传感器(7)两侧由内向外依次装有过载膜片(3)、圆盘(9)以及碟型簧片(5)，当存在过载压力时碟型簧片(5)发生压缩变形，过载膜片(3)将产生一定位移，使隔离膜片(6)在过载压力作用下紧贴膜片座(1)。专利摘要一种差压传感器过载保护装置，装置整体包括有膜片座(1)、压板(2)、基座(4)、隔离膜片(6)、硅压力传感器(7)、定位盘(8)和硅油(10)，其特征在于所述传感器(7)两侧由内向外依次装有过载膜片(3)、圆盘(9)以及碟型簧片(5)，当存在过载压力时碟型簧片(5)压缩变形，过载膜片(3)将产生一定位移，使隔离膜片(6)在过载压力作用下紧贴膜片座(1)。在差压传感器的正常工作范围内，碟型簧片不产生压缩变形，过载膜片位移极小，差压传感器具有优良的性能。当压差超过传感器的最大工作量程时，过载保护机构起作用，使传感器所受差压小于其过载极限，保证传感器不被击坏。文档编号G01L13/06GK2650100SQ0325634公开日2004年10月20日 申请日期2003年8月6日 优先权日2003年8月6日专利技术者钮松年, 金黎华, 陈新民 申请人:上海自动化仪表股份有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钮松年，金黎华，陈新民，
申请(专利权)人：上海自动化仪表股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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