一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法技术

本发明专利技术涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明专利技术制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法
本专利技术涉及纳米光栅标准物质领域，尤其是涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法。
技术介绍
随着纳米科技不断进步，器件的特征尺寸进入纳米量级，加工制造过程中的不确定性显著增加，同时加工误差对器件性能的影响也越来越大。纳米计量是测量和表征纳米尺度器件的基础，对纳米制造过程中工艺控制和质量管理领域扮演重要角色，是MEMS、超精密加工、纳米医学、纳米生物学等领域中不可回避的关键科学与技术问题。纳米计量是实现纳米尺度的测量量值准确可靠的首要前提，其难点在于纳米精度和溯源性。传统的商用测试仪器如SEM、AFM等，受其工作原理和一些固有性质的限制，测量结果都存在纳米尺度的测量误差。不同仪器测量同一样品，其结果可能截然不同。解决这一问题的现实途径是使用纳米计量传递标准。纳米计量传递标准是用特殊的纳米加工技术制造的具有确定几何尺度的标准物质。SEM、AFM等测量仪器经纳米计量传递标准校准后，测量结果可溯源到国家标准或者SI米定义，测量的正确性和可靠性大幅度提高。纳米光栅标准物质是常用的纳米计本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，其特征在于，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，所述方法包括以下步骤：/n掩膜版基板获取步骤：获取掩膜版基板，该掩膜版基板分为窗口区域和非窗口区域，所述窗口区域包括第一衬底，所述非窗口区域包括膜层和第一衬底；/n掩膜版制备步骤：采用激光汇聚原子沉积技术，在所述掩膜版基板上，沉积制备自溯源掩膜版；/n光刻胶光栅结构制备步骤：获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用所述自溯源掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对所述光刻胶进行曝光，然后经显影工艺，得到光刻胶光栅结构；/n光栅...

【技术特征摘要】
1.一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，其特征在于，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，所述方法包括以下步骤：
掩膜版基板获取步骤：获取掩膜版基板，该掩膜版基板分为窗口区域和非窗口区域，所述窗口区域包括第一衬底，所述非窗口区域包括膜层和第一衬底；
掩膜版制备步骤：采用激光汇聚原子沉积技术，在所述掩膜版基板上，沉积制备自溯源掩膜版；
光刻胶光栅结构制备步骤：获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用所述自溯源掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对所述光刻胶进行曝光，然后经显影工艺，得到光刻胶光栅结构；
光栅标准物质获取步骤：将光刻胶光栅结构转移到所述第二衬底上，获取光栅标准物质。


2.根据权利要求1所述的一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，其特征在于，光刻胶光栅结构制备步骤中，采用的所述软X射线干涉光刻技术的光栅衍射光级次为一级或二级。


3.根据权利要求2所述的一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，其特征在于，掩膜版基板获取步骤中，所述窗口区域透X光，所述非窗口区域不透X光，所述窗口区域的数量为两个，两个所述窗口区域大小相同且对称分布。


4.根据权利要求3所述的一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，其特征在于，所述软X射线干涉光刻技术采用的软X射线具有相干性，当所述光栅衍射光级次为一级时，两个所述窗口区域满足：
D≥0.2L，且D+2L≤LC
式中，D为两个窗口区域的中间区域的宽度，L为窗口区域的宽度，LC为软X射线经过所述掩膜版的相干长度；
当所述光栅衍射光级次为二级时，两个所述窗口区域满足：
D≥3L，且D+2L≤LC，L≤300μm。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：程鑫彬，邓晓，刘杰，顾振杰，李同保，赵俊，杨树敏，吴衍青，邰仁忠，
申请(专利权)人：同济大学，中国科学院上海应用物理研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31