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本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制...
该专利属于同济大学;中国科学院上海应用物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学;中国科学院上海应用物理研究所授权不得商用。

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