一种半导体晶锭端面垂直度测量装置制造方法及图纸

一种半导体晶锭端面垂直度测量装置，包括晶锭旋转放置机构、测量机构，本方案同时设置有晶锭旋转放置机构、测量机构，晶锭固定时，通过测量机构实现对其断面竖直方向及水平方向距离及垂直度的精确测量，该过程测量完成后，再通过晶锭旋转放置机构实现晶锭在晶锭旋转滚轮与晶锭旋转从动滚轮之间缝隙上的自由旋转，将晶锭旋转至不同位置，再重复对其断面进行距离及垂直度测量。通过以上方式，实现对晶锭断面不同位置、不同方向距离及垂直度的精确测量，显著减小测量偏差，整个测量过程中不需人工搬运晶锭，有效避免因人工搬运引起的晶锭碰撞等不良，大幅降低操作人员劳动强度。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体晶锭端面垂直度测量装置
本技术涉及晶锭测量
，尤其涉及一种半导体晶锭端面垂直度测量装置。
技术介绍
晶锭拉制完成后，需要对其进行截断和取样，截断是为了满足切片加工时设备使用的要求，取样是为了确认拉晶过程中的各项物理参数是否满足规格要求，但是截断过程中常存在加工异常，导致截面的晶向与晶棒的理论晶向存在偏差，还导致后续工序出现不良问题，甚至不能加工。现在通常使用直角尺判定截面是否存在偏差，其数据不能量化，现有测量方式不能有效对设备的性能进行管控，SPC数据存在偏差；同时手动测量，需要人员搬动晶棒，容易磕碰晶锭，引起晶锭不良。
技术实现思路
有鉴于此，针对上述不足，有必要提出一种半导体晶锭端面垂直度测量装置。一种半导体晶锭端面垂直度测量装置，包括晶锭旋转放置机构、测量机构，所述晶锭旋转放置机构呈水平设置，所述测量机构设置于晶锭旋转放置机构一侧，所述晶锭旋转放置机构包括放置平台、支撑座、第一固定板、第二固定板、第三固定板、第四固定板、晶锭旋转滚轮、晶锭旋转从动滚轮、皮带轮，所述支撑座设置于放置平台底部，所述第一固定板、第二固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板、第四固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板与第一固定板在放置平台上表面相邻设置，所述晶锭旋转滚轮沿放置平台长度方向设置于第一固定板、第二固定板之间，所述晶锭旋转从动滚轮沿放置平台长度方向设置于第三固定板、第四固定板之间，所述晶锭旋转滚轮与晶锭旋转从动滚轮之间形成设置晶锭的空隙，所述皮带轮设置于晶锭旋转滚轮一侧，所述测量机构包括固定基座、电缸、水平支臂、距离传感器，所述固定基座设置于放置平台宽度方向一侧，所述电缸设置于固定基座上，所述水平支臂一端与电缸输出端固定连接，所述水平支臂另一端延伸至晶锭一侧，所述水平支臂上表面开设有滑槽，所述距离传感器设置于水平支臂的滑槽中。优选的，所述水平支臂的长度不小于放置平台的宽度。本方案同时设置有晶锭旋转放置机构、测量机构，晶锭固定时，通过测量机构实现对其断面竖直方向及水平方向距离及垂直度的精确测量，该过程测量完成后，再通过晶锭旋转放置机构实现晶锭在晶锭旋转滚轮与晶锭旋转从动滚轮之间缝隙上的自由旋转，将晶锭旋转至不同位置，再重复对其断面进行距离及垂直度测量。通过以上方式，实现对晶锭断面不同位置、不同方向距离及垂直度的精确测量，显著减小测量偏差，整个测量过程中不需人工搬运晶锭，有效避免因人工搬运引起的晶锭碰撞等不良，大幅降低操作人员劳动强度。附图说明图1为半导体晶锭端面垂直度测量装置的轴侧示意图。图中：放置平台11、支撑座12、第一固定板13、第二固定板14、第三固定板15、第四固定板16、晶锭旋转滚轮17、晶锭旋转从动滚轮18、皮带轮19、固定基座21、电缸22、水平支臂23、距离传感器24；晶锭100。具体实施方式为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。参见图1，本技术提供了一种半导体晶锭端面垂直度测量装置，包括晶锭旋转放置机构、测量机构，所述晶锭旋转放置机构呈水平设置，所述测量机构设置于晶锭旋转放置机构一侧，所述晶锭旋转放置机构包括放置平台11、支撑座12、第一固定板13、第二固定板14、第三固定板15、第四固定板16、晶锭旋转滚轮17、晶锭旋转从动滚轮18、皮带轮19，所述放置平台11为矩形刚性板体，所述支撑座12设置于放置平台11底部，所述支撑座12为刚性棒体，优选的，其数量设置有4个，所述第一固定板13、第二固定板14相对设置于放置平台11长度方向上表面的两侧，所述第三固定板15、第四固定板16相对设置于放置平台11长度方向上表面的两侧，所述第三固定板15与第一固定板13在放置平台11上表面相邻设置，所述第一固定板13、第二固定板14、第三固定板15、第四固定板16为刚性矩形板体，其板体中心位置开设有设置晶锭旋转滚轮17、晶锭旋转从动滚轮18的通孔，所述晶锭旋转滚轮17沿放置平台11长度方向设置于第一固定板13、第二固定板14之间，所述晶锭旋转从动滚轮18沿放置平台11长度方向设置于第三固定板15、第四固定板16之间，所述晶锭旋转滚轮17与晶锭旋转从动滚轮18之间形成设置晶锭100的空隙，所述皮带轮19设置于晶锭旋转滚轮17一侧，所述测量机构包括固定基座21、电缸22、水平支臂23、距离传感器24，所述固定基座21设置于放置平台11宽度方向一侧，所述固定基座21为刚性矩形或正方体底座，所述电缸22设置于固定基座21上，其输出端沿其长度方向竖直伸缩，所述水平支臂23一端与电缸22输出端通过环形套固定连接，所述水平支臂23另一端延伸至晶锭100一侧，所述水平支臂23上表面开设有滑槽，所述距离传感器24设置于水平支臂23的滑槽中，所述距离传感器24与外部监控设备连接，以实时显示其测量距离及垂直度。具体的，将半导体晶锭100放置于晶锭旋转滚轮17与晶锭旋转从动滚轮18之间的空隙中，所述晶锭旋转滚轮17在第一固定板13、第二固定板14之间受外力后自由旋转，所述晶锭旋转从动滚轮18在第三固定板15、第四固定板16之间受外力后自由旋转，所述皮带轮19设置于晶锭旋转滚轮17一侧，所述皮带轮19还与外部电机输出端连接，以带动晶锭旋转滚轮17转动，从而带动晶锭旋转从动滚轮18同步旋转，从而使晶锭旋转滚轮17与晶锭旋转从动滚轮18之间缝隙上的晶锭100自由旋转，其且旋转轴线始终不偏移。具体的，所述固定基座21位置在测量过程中保持不变，通过电缸22输出端做功伸缩的方式，带动设置于电缸22输出端上的水平支臂23、距离传感器24同步在竖直方向上下移动，而距离传感器24与晶锭100断面相对设置，以测量出晶锭100断面竖直方向上的实时距离及垂直度，同时当电缸22输出端位置固定时，距离传感器24还沿水平支臂23上表面的滑槽左右移动，以测量出晶锭100断面水平方向上的实时距离及垂直度。进一步，所述水平支臂23的长度不小于放置平台11的宽度，以确保水平支臂23上表面凹槽中设置的距离传感器24能够完整的测量出晶锭100断面不同位置、不同方向的距离。本技术实施例装置中的模块或单元可以根据实际需要进行合并、划分和删减。以上所揭露的仅为本技术较佳实施例而已，当然不能以此来限定本技术之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本技术权利要求所作的等同变化，仍属于技术所涵盖的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体晶锭端面垂直度测量装置，其特征在于：包括晶锭旋转放置机构、测量机构，所述晶锭旋转放置机构呈水平设置，所述测量机构设置于晶锭旋转放置机构一侧，所述晶锭旋转放置机构包括放置平台、支撑座、第一固定板、第二固定板、第三固定板、第四固定板、晶锭旋转滚轮、晶锭旋转从动滚轮、皮带轮，所述支撑座设置于放置平台底部，所述第一固定板、第二固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板、第四固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板与第一固定板在放置平台上表面相邻设置，所述晶锭旋转滚轮沿放置平台长度方向设置于第一固定板、第二固定板之间，所述晶锭旋转从动滚轮沿放置平台长度方向设置于第三固定板、第四固定板之间，所述晶锭旋转滚轮与晶锭旋转从动滚轮之间形成设置晶锭的空隙，所述皮带轮设置于晶锭旋转滚轮一侧，所述测量机构包括固定基座、电缸、水平支臂、距离传感器，所述固定基座设置于放置平台宽度方向一侧，所述电缸设置于固定基座上，所述水平支臂一端与电缸输出端固定连接，所述水平支臂另一端延伸至晶锭一侧，所述水平支臂上表面开设有滑槽，所述距离传感器设置于水平支臂的滑槽中。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体晶锭端面垂直度测量装置，其特征在于：包括晶锭旋转放置机构、测量机构，所述晶锭旋转放置机构呈水平设置，所述测量机构设置于晶锭旋转放置机构一侧，所述晶锭旋转放置机构包括放置平台、支撑座、第一固定板、第二固定板、第三固定板、第四固定板、晶锭旋转滚轮、晶锭旋转从动滚轮、皮带轮，所述支撑座设置于放置平台底部，所述第一固定板、第二固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板、第四固定板相对设置于放置平台长度方向上表面的两侧，所述第三固定板与第一固定板在放置平台上表面相邻设置，所述晶锭旋转滚轮沿放置平台长度方向设置于第一固定板、第二固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵延祥，历莉，刘波，程博，张晶，
申请(专利权)人：宁夏银和半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：宁夏;64