一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法技术方案

本发明专利技术涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片上薄膜厚度信息的数据处理器。本发明专利技术的优点是：可适用不同规格的成膜基片，且不需要调整光轴，使用方便；能够精确确定成膜基片上合格区域的范围，确保镀膜效益的最大化；监控系统还可以在镀膜过程进行中间测量光谱，进行修正，提高镀膜精度。

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法
本专利技术涉及真空镀膜
，尤其是一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法。
技术介绍
直接式膜厚监控系统是通过探测光线通过镀膜基板前后的变化而获知镀膜基板上薄膜厚度的光学检测方法。现有技术中，光路为单光路。但通过如此布置的膜厚监控系统往往检测精度不高，易受环境影响，且不易控制。
技术实现思路
本专利技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统及其监控测量方法，通过双光路的设计对镀膜基片上的薄膜厚度进行穿透式的直接监控，可实现薄膜厚度及膜厚变化的检测。本专利技术目的实现由以下技术方案完成：一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，可实现对镀膜基片上的薄膜厚度及膜厚变化进行检测，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，可实现对镀膜基片上的薄膜厚度及膜厚变化进行检测，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片上薄膜厚度信息的数据处理器。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，可实现对镀膜基片上的薄膜厚度及膜厚变化进行检测，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片上薄膜厚度信息的数据处理器。


2.根据权利要求1所述的一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，其特征在于：至少一组所述光源发送器和所述光源接收器分别连接有位移机构，所述位移机构可驱动所述光源发送器和所述光源接收器所形成的监控光路沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向位移。


3.根据权利要求1所述的一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，其特征在于：所述监控光路可通过自所述镀膜基片由下至上的上投光式布置，或自所述镀膜基片由上至下的下投光式布置。


4.根据权利要求1或2所述的一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，其特征在于：所述监控光路为激光监控光路，所述光源发送器将激光发射至所述光源接收器。


5.根据权利要求3所述的一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，其特征在于：所述光源发送器包括激光电源、激光发送镜头及光斩波器，所述激光光源通过光纤连接所述光斩波器，所述光斩波器通过光纤连接所述激光发送镜头，所述激光电源发出的激光自所述激光发送镜头发射至所述光源接收器。


6.根据权利要求4所述的一种光学薄膜成膜直接式光学...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴萍，長家武彦，徐波，張詠麟，佐藤文哉，上川尚，河崎直樹，汪洋，龙汝磊，江耔昊，潘书跃，马辉，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31