一种刚性复合型压印模具制造技术

本实用新型专利技术提供一种刚性复合型压印模具，所述刚性复合型压印模具包括：刚性基材，包括基底及形成于所述基底上表面的凸起结构；金属脱模层，形成于所述基底的上表面及所述凸起结构的表面。通过本实用新型专利技术所述刚性复合型压印模具，解决了现有金属压印模具制备成本高且不环保的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种刚性复合型压印模具
本技术涉及图形压印领域，特别是涉及一种刚性复合型压印模具。
技术介绍
图形压印是指通过压印实现图形转移的技术，其中压印模具在图形转移过程中起着不可替代的作用。现有刚性压印模具一般都是采用电镀工艺制备的金属模具，但由于该金属模具的制备成本高、且不环保，故急需一种新的刚性复合型压印模具用以解决上述技术问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种刚性复合型压印模具，用于解决现有金属模具的制备成本高且不环保的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种刚性复合型压印模具，所述压印模具包括：刚性基材，包括基底及形成于所述基底上表面的凸起结构；金属脱模层，形成于所述基底的上表面及所述凸起结构的表面。可选地，所述金属脱模层包括金属镍层，其中所述金属镍层的厚度介于0.005μm～2μm之间。可选地，所述压印模具还包括：形成于所述刚性基材和所述金属脱模层之间的至少一层金属结合层。可选地，所述金属结合层包括金属钛层、金属铜层、金属铬层或金属钽层，其厚度小于等于0.1μm。可选地，所述金属结合层的层数小于等于5层。可选地，所述金属结合层的层数大于等于2，小于等于3。如上所述，本技术的一种刚性复合型压印模具，具有以下有益效果：本技术通过在刚性基材表面形成一金属脱模层，从而形成一复合型刚性压印模具，使其在实现图形压印和脱模的同时，还降低了压印模具的制备成本；本技术还通过采用磁控溅射工艺形成金属脱模层，避免采用电镀工艺对环境造成的污染及高成本；本技术更通过在刚性基材与金属脱模层之间形成至少一层金属结合层，以提高刚性基材与金属脱模层之间的粘附力，避免脱模过程中因粘附力过小造成金属脱模层从刚性基材上脱落，从而造成压印模具的损坏。附图说明图1显示为本技术所述刚性复合型压印模具制备方法的流程图。图2至6显示为本技术所述刚性复合型压印模具制备方法中各步骤的结构示意图。元件标号说明100刚性基材101基底102凸起结构200图形化掩膜300金属脱模层400金属结合层具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1至图6。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，虽图示中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。实施例一如图1所示，本实施例提供一种刚性复合型压印模具的制备方法，所述制备方法包括：提供一刚性基材100；于所述刚性基材100上表面形成图形化掩膜200，并以所述图形化掩膜200为掩膜图形对所述刚性基材100进行刻蚀，于所述刚性基材100中形成凸起结构102；去除所述图形化掩膜200，并于刻蚀后的所述刚性基材100中的基底101上表面及所述凸起结构102表面形成金属脱模层400。下面请结合图1，参阅图2至图5对本实施例所述刚性复合型压印模具的制备方法进行详细说明。步骤1)：如图2所示，提供一刚性基材100，其中所述刚性基材100可以为透明刚性基材，如玻璃、石英等，其也可以为不透明刚性基材，如硅片等，本实施例并不对所述刚性基材100的具体材质进行限制。步骤2)：如图3和图4所示，于所述刚性基材100上表面形成图形化掩膜200，并以所述图形化掩膜200为掩膜图形对所述刚性基材100进行刻蚀，于所述刚性基材100中形成凸起结构102。作为一示例，形成所述图形化掩膜200的方法包括：于所述刚性基材100上表面形成光刻胶层，之后基于光掩膜版对所述光刻胶层进行曝光、显影，以于所述刚性基材100上表面形成所述图形化掩膜200。作为另一示例，形成所述图形化掩膜200的方法包括：于所述刚性基材100上表面由下至上依次形成掩膜材料层及光刻胶层，之后基于光掩膜版对所述光刻胶层进行曝光、显影，以于所述掩膜材料层上表面形成图形化光刻胶，最后基于所述图形化光刻胶对所述掩膜材料层进行刻蚀，以于所述刚性基材100上表面形成所述图形化掩膜200。虽然上述两示例所述方法均可以形成所述图形化掩膜200，但考虑到制备工艺和步骤的简化，本实施例选用示例一所述方法形成所述图形化掩膜200，即直接于所述刚性基材100上表面形成光刻胶层，之后基于光掩膜版对所述光刻胶层进行曝光、显影，以于所述刚性基材100上表面形成所述图形化掩膜200。需要注意的是，由于上述两示例所述方法均涉及了光掩膜版的使用，而基于最终图形制作光掩膜版是本领域技术人员所公知的，故在此不再赘述。作为示例，采用等离子体刻蚀工艺对所述刚性基材100进行刻蚀，以于所述刚性基材100中的基底101上表面形成所述凸起结构102。本实施例采用等离子体刻蚀工艺，可以使形成的所述凸起结构102具有良好的物理形貌，从而保证本实施例所述压印模具具有高精度的压印图形。具体的，可根据实际需要对所述光掩膜版进行图形设计，从而得到最终所需的凸起结构102。可选地，本实施例所述凸起结构102呈独立分布或网络状互联分布，其中所述网络状包括但不限于矩形网格状、菱形网格状或三角形网格状。步骤3)，如图5所示，去除所述图形化掩膜200，并于刻蚀后的所述刚性基材100中的基底101上表面及所述凸起结构102表面形成金属脱模层300。作为示例，在金属脱模层300的材料选择上，通常选取表面能较低的金属材料作为所述金属脱模层300，以便于后续图形压印时有利于脱模。具体的，采用磁控溅射沉积工艺形成所述金属脱模层300，其中所述金属脱模层300的材质包括金属镍，其厚度介于0.005μm～2μm之间。如图5所示，本实施例还提供了一种刚性复合型压印模具，所述压印模具包括：刚性基材100，包括基底101及形成于所述基底101上表面的凸起结构102；金属脱模层300，形成于所述基底101的上表面及所述凸起结构102的表面。作为示例，所述刚性基材100可以为透明刚性基材，如玻璃、石英等，其也可以为不透明刚性基材，如硅片等，本实施例并不对所述刚性基材100的具体材质进行限制。作为示例，可根据实际需要对所述光掩膜版进行图形设计，从而得到最终所需的凸起结构102。可选地，本实施例所述凸起结构102呈独立分布或网络状互联分布，其中所述网络状包括但不限于矩形网格状、菱形网格状或三角形网格状。作为示例，所述金属脱模层300包括金属镍层，其中所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种刚性复合型压印模具，其特征在于，所述压印模具包括：/n刚性基材，包括基底及形成于所述基底上表面的凸起结构；/n金属脱模层，形成于所述基底的上表面及所述凸起结构的表面；/n至少一层金属结合层，形成于所述刚性基材和所述金属脱模层之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种刚性复合型压印模具，其特征在于，所述压印模具包括：
刚性基材，包括基底及形成于所述基底上表面的凸起结构；
金属脱模层，形成于所述基底的上表面及所述凸起结构的表面；
至少一层金属结合层，形成于所述刚性基材和所述金属脱模层之间。


2.根据权利要求1所述的刚性复合型压印模具，其特征在于，所述金属脱模层包括金属镍层，其中所述金属镍层的厚度介于0.005μm～2μm之间。


3.根据权利要求1所述的刚性复合型压印模具，其特征在于，所述金属结合层包括金...

【专利技术属性】
技术研发人员：林晓辉，成海涛，杨兆国，顾永新，
申请(专利权)人：上海量子绘景电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31