一种高强度晶元结构粘结胶及其制备方法技术

技术编号:25383746 阅读:27 留言:0更新日期:2020-08-25 22:52
本发明专利技术公开了一种高强度晶元结构粘结胶及其制备方法,该粘结胶包括以下质量百分比组分:改性线性酚醛环氧树脂:20‑30%;双酚A型环氧树脂:25‑30%;聚氨酯改性树脂:15‑20%;红色色料:1‑5%;疏水性气相二氧化硅:1‑5%;改性硫醇固化剂:15‑25%;咪脞改性促进剂:1‑5%;耐温添加剂:1‑5%。制备时先按上述配比将改性线性酚醛环氧树脂、双酚A型环氧树脂和聚氨酯改性树脂加入反应釜中,升温搅拌,抽真空保持一段时间,加入红色色料、耐温添加剂和疏水性气象二氧化硅,搅拌后冷却,加入改性硫醇固化剂,搅拌;最后加入咪脞改性促进剂,搅拌后检测分装。本发明专利技术粘结胶的粘结强度高、固化速度快、膨胀系数低、大芯片弯曲性能好、耐候性能高。

【技术实现步骤摘要】
一种高强度晶元结构粘结胶及其制备方法
本专利技术涉及胶水,尤其涉及一种高强度晶元结构粘结胶及其制备方法。
技术介绍
结构粘结胶相对于非结构粘结胶强度高、抗剥离、耐冲击、施工工艺简便。可用于金属、陶瓷、塑料、橡胶、木材等同种材料或者不同种材料之间的粘结。可部分代替焊接、铆接、螺栓连接等传统连接形式。对于光学芯片结构粘结来说,目前市场上大多是采用进口的结构粘结胶,其存在以下缺陷:1.粘结强度低:8×8MM芯片粘结强度只能200N-250N;2.固化速度慢:在120℃烘烤5-10分钟固化;3.膨胀系数高:固化后膨胀TG点以下48PPM,TG点以上在135PPM;4.大芯片弯曲:10×10MM芯片粘结后弯曲在10u以上;5.耐候性能差:最高可耐温120℃,最低耐温-35℃。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的缺陷,本专利技术提供一种高强度晶元结构粘结胶及其制备方法。为了达到上述技术效果,本专利技术采用的技术方案是:一种高强度晶元结构粘结胶,其特征在于,包括以下质量百分比组分:改性线性酚醛环氧树脂:20-30%;双酚A型环氧树脂:20-30%;聚氨酯改性树脂:15-25%;红色色料:1-5%;疏水性气相二氧化硅:1-5%;改性硫醇固化剂:15-25%;咪脞改性促进剂:1-5%;耐温添加剂:1-5%。进一步地,各所述组分的质量百分比为:改性线性酚醛环氧树脂:26%;双酚A型环氧树脂:28%;聚氨酯改性树脂:20%;红色色料:2%;疏水性气相二氧化硅:1%;改性硫醇固化剂:20%;咪脞改性促进剂:2%;耐温添加剂:1%。一种高强度晶元结构粘结胶的制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:第一步:按照上述质量百分比的各组分备料;第二步:将准备好的改性线性酚醛环氧树脂、双酚A型环氧树脂和聚氨酯改性树脂加入到反应釜中,升温至45-50℃后开始搅拌,并抽取真空,保持一段时间;第三步:加入红色色料、耐温添加剂和疏水性气象二氧化硅,并搅拌混匀,冷却至20-25℃;第四步:加入改性硫醇固化剂,搅拌混匀;第五步:加入咪脞改性促进剂,搅拌混匀,检测合格后分装。进一步地,所述聚氨酯改性树脂为用聚酯多元醇和聚酯HDI采用滴加法滴入HEA封端,控制温度在65-70℃的情况下反应一段时间(5-7小时),检查到充分反应完全后降温至30℃左右出锅冷却得到。进一步地,所述第二步和第三步中的搅拌为高速搅拌,对应的保持时间及搅拌时间为1小时。进一步地,所述第四步和第五步中的搅拌为中速搅拌,搅拌时间均为1小时。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:粘结胶的粘结强度高、固化速度快、膨胀系数低、大芯片弯曲性能好、耐候性能高,用于光学芯片结构粘结,比国外产品明显优异,填补了国内的空白。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述,为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步详细说明,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。附图说明图1为三次元检测本专利技术粘结胶用于大尺寸芯片(10×10MM)粘结后的收缩图谱。具体实施方式一种高强度晶元结构粘结胶,包括以下质量百分比组分:改性线性酚醛环氧树脂为26%;双酚A型环氧树脂为28%;聚氨酯改性树脂为20%;红色色料为2%;疏水性气相二氧化硅为1%;改性硫醇固化剂为20%;咪脞改性促进剂为2%;耐温添加剂为1%。其制备方法为:先按照上述质量百分比的各组分备料;然后将准备好的改性线性酚醛环氧树脂、双酚A型环氧树脂和聚氨酯改性树脂加入到反应釜中,升温至45-50℃后开始高速搅拌,并抽取真空,保持1小时;再向反应釜中加入红色色料、耐温添加剂和疏水性气象二氧化硅,并高速搅拌1小时,冷却至20-25℃;然后向反应釜中加入改性硫醇固化剂,中速搅拌1小时;最后再加入咪脞改性促进剂,搅拌1小时,检测合格后分装。其中,聚氨酯改性树脂可以选用市面上的现有的聚氨酯改性树脂,优选为自制聚氨酯改性树脂,自制的聚氨酯改性树脂为用聚酯多元醇和聚酯HDI采用滴加法滴入HEA封端,控制温度在65-70℃的情况下反应6小时,检查到充分反应完全后降温至30℃左右出锅冷却得到。本专利技术通过在单组分环氧结构胶中加入聚氨酯改性树脂材料,有利于改善胶水内聚力,大大降低膨胀系数,耐温性能大大提高,加入改性双酚F型环氧树脂有助于改善胶水的粘结力,提高耐候性能,耐酸碱性。通过加入咪脞改性固化剂有助于低温固化,固化速度急速提快,胶粘密度大大提高。通过加入耐温添加剂,有助于改善单组分导热和结构粘结,提高了内聚力。通过对本专利技术上述配比制备的粘结胶进行检测(其中,原料聚氨酯改性树脂为按上述方案自制的聚氨酯改性树脂),其粘结强度:8×8MM芯片为350N-400N;固化速度:在120℃烘烤1-3分钟固化;膨胀系数:固化后膨胀TG点以下38PPM,TG点以上在115PPM;大芯片弯曲:10×10MM芯片粘结后弯曲在2.5u以下(如图1所示),耐候性能:最高可耐温150℃,最低耐温-45℃。本专利技术粘结胶可用于光学芯片结构粘结,比国外产品明显优异,填补了国内的空白。本专利技术不局限于上述具体的实施方式,对于本领域的普通技术人员来说从上述构思出发,不经过创造性的劳动,所作出的种种变换,均落在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高强度晶元结构粘结胶,其特征在于,包括以下质量百分比组分:/n改性线性酚醛环氧树脂:20-30%;/n双酚A型环氧树脂:20-30%;/n聚氨酯改性树脂:15-25%;/n红色色料:1-5%;/n疏水性气相二氧化硅:1-5%;/n改性硫醇固化剂:15-25%;/n咪脞改性促进剂:1-5%;/n耐温添加剂:1-5%。/n

【技术特征摘要】
1.一种高强度晶元结构粘结胶,其特征在于,包括以下质量百分比组分:
改性线性酚醛环氧树脂:20-30%;
双酚A型环氧树脂:20-30%;
聚氨酯改性树脂:15-25%;
红色色料:1-5%;
疏水性气相二氧化硅:1-5%;
改性硫醇固化剂:15-25%;
咪脞改性促进剂:1-5%;
耐温添加剂:1-5%。


2.根据权利要求1所述的一种高强度晶元结构粘结胶,其特征在于,各所述组分的质量百分比为:
改性线性酚醛环氧树脂:26%;
双酚A型环氧树脂:28%;
聚氨酯改性树脂:20%;
红色色料:2%;
疏水性气相二氧化硅:1%;
改性硫醇固化剂:20%;
咪脞改性促进剂:2%;
耐温添加剂:1%。


3.根据权利要求1或2任一项所述的一种高强度晶元结构粘结胶的制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:
第一步:按照上述质量百分比的各组分备料;
第二步:将准...

【专利技术属性】
技术研发人员:马月春
申请(专利权)人:重庆索梦得新材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:重庆;50

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