【技术实现步骤摘要】
透过率渐变膜及制备方法
本专利技术涉及镀膜
,特别是涉及一种透过率渐变膜及制备方法。
技术介绍
光学薄膜通常用多种不同的介质材料交替堆叠而成,通过不同的堆叠方式,可实现所需的光学性能或者颜色外观,可通过在电子设备的外壳上镀设颜色渐变膜,以使外壳具有颜色渐变效果,市场上常见的颜色渐变膜有蓝紫色渐变膜、蓝绿色渐变膜、紫金色渐变膜等。随着3C电子设备的迅猛发展,对电子设备的外壳的外观效果要求越来越高,仅仅是具有渐变颜色效果的外壳已难以满足市场需求。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种具有亮度渐变效果的透过率渐变膜及制备方法。一种透过率渐变膜,用于镀设于基材上;所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层,缓冲层设于所述基材上,所述调节层设于所述缓冲层上,所述保护层设于所述调节层上;其中,所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层,所述颜色调节层设于所述缓冲层上,所述亮度调节层设于所述颜色调节层上,所述亮度调节层为金属半反射层,且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。上述透过率渐变膜包括缓冲层、调 ...
【技术保护点】
1.一种透过率渐变膜,用于镀设于基材上;其特征在于,所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层,缓冲层设于所述基材上,所述调节层设于所述缓冲层上,所述保护层设于所述调节层上;其中,所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层,所述颜色调节层设于所述缓冲层上,所述亮度调节层设于所述颜色调节层上,所述亮度调节层为金属半反射层,且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。/n
【技术特征摘要】
1.一种透过率渐变膜,用于镀设于基材上;其特征在于,所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层,缓冲层设于所述基材上,所述调节层设于所述缓冲层上,所述保护层设于所述调节层上;其中,所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层,所述颜色调节层设于所述缓冲层上,所述亮度调节层设于所述颜色调节层上,所述亮度调节层为金属半反射层,且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。
2.根据权利要求1所述的透过率渐变膜,其特征在于,所述颜色调节层包括层叠设置的高折射率层及低折射率层,在所述缓冲层上,所述高折射率层与所述低折射率层交替设置。
3.根据权利要求2所述的透过率渐变膜,其特征在于,所述高折射率层的层数与所述低折射率层的层数之和为3层-8层。
4.根据权利要求3所述的透过率渐变膜,其特征在于,所述高折射率层的层数为2层-4层,所述低折率层的层数为1-4层。
5.根据权利要求1所述的透过率渐变膜,其特征在于,所述颜色调节层的厚度为20nm-200nm。
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【专利技术属性】
技术研发人员:易伟华,张迅,周成,刘明礼,成育凯,周文志,
申请(专利权)人:江西沃格光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江西;36
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