透过率渐变膜及制备方法技术

本发明专利技术涉及一种透过率渐变膜及制备方法，透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于基材上，调节层设于缓冲层上，保护层设于调节层上；其中，调节层包括颜色调节层及亮度调节层，颜色调节层设于缓冲层上，亮度调节层设于颜色调节层上，亮度调节层为金属半反射层，且亮度调节层的厚度呈渐变状。上述透过率渐变膜，颜色调节层决定透过率渐变膜所呈现的颜色效果，亮度调节层为金属半反射层，亮度调节层决定透过率渐变膜所呈现的亮度效果，亮度调节层的厚度呈渐变状，从而亮度调节层的透过率为渐变效果，即透过率渐变膜呈亮度渐变效果，有效提高用户的使用体验感，满足市场需求。

【技术实现步骤摘要】
透过率渐变膜及制备方法
本专利技术涉及镀膜
，特别是涉及一种透过率渐变膜及制备方法。
技术介绍
光学薄膜通常用多种不同的介质材料交替堆叠而成，通过不同的堆叠方式，可实现所需的光学性能或者颜色外观，可通过在电子设备的外壳上镀设颜色渐变膜，以使外壳具有颜色渐变效果，市场上常见的颜色渐变膜有蓝紫色渐变膜、蓝绿色渐变膜、紫金色渐变膜等。随着3C电子设备的迅猛发展，对电子设备的外壳的外观效果要求越来越高，仅仅是具有渐变颜色效果的外壳已难以满足市场需求。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种具有亮度渐变效果的透过率渐变膜及制备方法。一种透过率渐变膜，用于镀设于基材上；所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于所述基材上，所述调节层设于所述缓冲层上，所述保护层设于所述调节层上；其中，所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层，所述颜色调节层设于所述缓冲层上，所述亮度调节层设于所述颜色调节层上，所述亮度调节层为金属半反射层，且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。上述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于基材上，使调节层与基材之间具有较好的结合力，调节层包括颜色调节层及亮度调节层，颜色调节层决定透过率渐变膜所呈现的颜色效果，亮度调节层为金属半反射层，亮度调节层决定透过率渐变膜所呈现的亮度效果，保护层用于防止亮度调节层被氧化和破坏。其中，由于亮度调节层的厚度呈渐变状，从而亮度调节层的透过率为渐变效果，即透过率渐变膜呈亮度渐变效果，有效提高用户的使用体验感，满足市场需求。>在其中一个实施例中，所述颜色调节层包括层叠设置的高折射率层及低折射率层，在所述缓冲层上，所述高折射率层与所述低折射率层交替设置。在其中一个实施例中，所述高折射率层的层数与所述低折射率层的层数之和为3层-8层。在其中一个实施例中，所述高折射率层的层数为2层-4层，所述低折率层的层数为1-4层。在其中一个实施例中，所述颜色调节层的厚度为20nm-200nm。在其中一个实施例中，所述亮度调节层的厚度为20nm-200nm。在其中一个实施例中，所述亮度调节层的材料为Cr或Ni。在其中一个实施例中，所述保护层为SiO2层。一种透过率渐变膜的制备方法，包括以下步骤；在基材上喷镀或喷涂缓冲层，形成第一半成品；在所述第一半成品上喷镀颜色调节层，形成第二半成品；在所述第二半成品上喷镀亮度调节层，形成第三半成品；在所述第三半成品上喷镀保护层，得到成品。在其中一个实施例中，所述在所述第二半成品上喷镀亮度调节层，形成第三半成品的步骤具体为：镀膜材料的选择：选择所需镀膜金属靶材；亮度修正板的设计：根据预定亮度渐变效果，设计亮度修正板的形状、尺寸；所述亮度修正板呈V型排列；光学亮度镀膜。附图说明图1为本专利技术的透过率渐变膜的结构示意图；图2为图1透过率渐变膜中调节层的结构示意图；图3为本专利技术的透过率渐变膜制备方法的流程示意图；图4为本专利技术的透过率渐变膜制备方法的亮度修正板的结构示意图。附图中各标号的含义为：基材100，亮度修正板200，缓冲层10，调节层20，颜色调节层30，高折射率层31，低折射率层32，亮度调节层40，保护层50。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。图1示出了本专利技术一实施例中的透过率渐变膜的结构示意图，本专利技术一实施例提供了的透过率渐变膜，用于镀设于基材100上，基材100可以是玻璃或金属等。具体到本实施例中，基材100为电子设备的外壳。透过率渐变膜包括缓冲层10、调节层20及保护层50。缓冲层10设于基材100上，调节层20设于缓冲层20上，保护层50设于调节层20上。可以理解地，缓冲层10、调节层20及保护层50依次层叠设置。其中，调节层20包括至少一层颜色调节层30及至少一层亮度调节层40，颜色调节层30设于缓冲层10上，亮度调节层40设于颜色调节层30上，亮度调节层40为金属半反射层，具体地，亮度调节层40为单一的金属半反射层，且亮度调节层40的厚度呈渐变状。在生产时，操作流程如下：1、将缓冲层10镀设于或喷涂于基材100的表面上。2、将颜色调节层30镀设于缓冲层10上。具体地，颜色调节层30镀设于缓冲层10背离基材100的一侧表面上。3、将亮度调节层40镀设于颜色调节层30。具体地，亮度调节层4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透过率渐变膜，用于镀设于基材上；其特征在于，所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于所述基材上，所述调节层设于所述缓冲层上，所述保护层设于所述调节层上；其中，所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层，所述颜色调节层设于所述缓冲层上，所述亮度调节层设于所述颜色调节层上，所述亮度调节层为金属半反射层，且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。/n

【技术特征摘要】
1.一种透过率渐变膜，用于镀设于基材上；其特征在于，所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于所述基材上，所述调节层设于所述缓冲层上，所述保护层设于所述调节层上；其中，所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层，所述颜色调节层设于所述缓冲层上，所述亮度调节层设于所述颜色调节层上，所述亮度调节层为金属半反射层，且所述亮度调节层的厚度呈渐变状。


2.根据权利要求1所述的透过率渐变膜，其特征在于，所述颜色调节层包括层叠设置的高折射率层及低折射率层，在所述缓冲层上，所述高折射率层与所述低折射率层交替设置。


3.根据权利要求2所述的透过率渐变膜，其特征在于，所述高折射率层的层数与所述低折射率层的层数之和为3层-8层。


4.根据权利要求3所述的透过率渐变膜，其特征在于，所述高折射率层的层数为2层-4层，所述低折率层的层数为1-4层。


5.根据权利要求1所述的透过率渐变膜，其特征在于，所述颜色调节层的厚度为20nm-200nm。
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【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，周成，刘明礼，成育凯，周文志，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36