一种用于靶材喷砂的支撑装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了靶材制造技术领域的一种用于靶材喷砂的支撑装置，旨在解决现有技术中基板固定、操作人员移动喷砂的操作方式消耗体力大、喷砂不均匀的技术问题。所述装置包括水平放置的支撑台，所述支撑台底面设有滚轮，支撑台顶面设有横截面为三角形的支撑架，所述支撑架横向布设于支撑台顶面，支撑架一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的支撑台顶面构成基板放置区。

【技术实现步骤摘要】
一种用于靶材喷砂的支撑装置
本技术涉及一种用于靶材喷砂的支撑装置，属于靶材制造

技术介绍
溅射靶材通常应用于集成电路、液晶显示屏、激光存储器等电子及信心产业，通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统将对应粉末经高温熔化后喷涂并附着于基板上，形成各种功能薄膜。目前，通常是将基板固定在喷砂箱内的工作台面上，操作人员举着喷枪朝向基板进行喷砂操作。同时，为确保喷砂均匀，操作人员需要手持喷枪来回移动，该喷砂方式不仅增加了操作人员的体力消耗，而且由于喷枪移动不匀速导致喷砂不均匀，影响了产品质量。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种用于靶材喷砂的支撑装置，以解决现有技术中基板固定、操作人员移动喷砂的操作方式消耗体力大、喷砂不均匀的技术问题。为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：一种用于靶材喷砂的支撑装置，包括水平放置的支撑台，所述支撑台底面设有滚轮，支撑台顶面设有横截面为三角形的支撑架，所述支撑架横向布设于支撑台顶面，支撑架一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于靶材喷砂的支撑装置，其特征是，包括水平放置的支撑台（1），所述支撑台（1）底面设有滚轮（4），支撑台（1）顶面设有横截面为三角形的支撑架（2），所述支撑架（2）横向布设于支撑台（1）顶面，支撑架（2）一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的支撑台（1）顶面构成基板放置区。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于靶材喷砂的支撑装置，其特征是，包括水平放置的支撑台（1），所述支撑台（1）底面设有滚轮（4），支撑台（1）顶面设有横截面为三角形的支撑架（2），所述支撑架（2）横向布设于支撑台（1）顶面，支撑架（2）一个或两个斜侧面作为基板支撑区，与所述基板支撑区正向连接的支撑台（1）顶面构成基板放置区。


2.根据权利要求1所述的用于靶材喷砂的支撑装置，其特征是，基板放置区或／和基板支撑区上设有防滑垫（3）。


3.根据权利要求2所述的用于靶材喷砂的支撑装置，其特征是，所述基板放置区上的防滑垫（3）表面设有不少于一个与所述装置轴向平行的防滑凹槽（31）。


4.根据权利要求2所述的用于靶材喷砂的支撑装置，其特征是，所述基板支撑区上的防滑垫（3）表面设有不少于一个与所述装置轴向垂直的防滑凹槽（31）。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：周其刚，侯金明，
申请(专利权)人：南京欧美达应用材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32