抛光设备的主抛光机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛光设备的主抛光机构，其包括主旋转套、圆锥滚子轴承、主旋转轴等，主旋转套位于圆锥滚子轴承的一侧，圆锥滚子轴承位于接料盘上，主旋转轴位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴环位于骨架油封的顶端上，密封圈位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴上板位于密封圈和骨架油封之间，主旋转轴下板位于主旋转套的下面，主旋转轴下板和电机连接座之间通过圆柱销固定，电机连接座位于主旋转轴的一侧，托架位于抛光滚筒的底端上，托架位于主旋转轴环上。本实用新型专利技术结构紧凑、设计合理，提高了主抛光机构的稳定性，加强了主抛光机构的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
抛光设备的主抛光机构
本技术涉及一种抛光设备，特别是涉及一种抛光设备的主抛光机构。
技术介绍
现有的抛光设备中，其主抛光机构结构十分不稳定，在工作时容易损坏，造成不必要的损失，并且会降低工作效率，影响产品的质量。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种抛光设备的主抛光机构，其结构紧凑、设计合理，提高了工作效率，提高了主抛光机构的稳定性，加强了主抛光机构的稳定性。本技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：一种抛光设备的主抛光机构，其特征在于，其包括主旋转套、圆锥滚子轴承、主旋转轴、骨架油封、主旋转轴环、密封圈、主旋转轴上板、主旋转轴下板、圆柱销、电机连接座、抛光滚筒、托架、主桶基座、基座侧板、接料盘，主旋转套位于圆锥滚子轴承的一侧，圆锥滚子轴承位于接料盘上，主旋转轴位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴环位于骨架油封的顶端上，密封圈位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴上板位于密封圈和骨架油封之间，主旋转轴下板位于主旋转套的下面，主旋转轴下板和电机连接座之间通过圆柱销固定，电机连接座位于主旋转轴的一侧，托架位于抛光滚筒的底端上，托架位于主旋转轴环上，主桶基座位于基座侧板的底端上，基座侧板位于接料盘的下面，接料盘位于主旋转套的一侧。优选地，所述主旋转套上有螺孔。优选地，所述主旋转轴上板的结构与主旋转轴下板的结构相同。优选地，所述电机连接座身上有多个内六角圆柱头螺钉。本技术的积极进步效果在于：抛光设备的主抛光机构结构紧凑、设计合理，提高了工作效率，提高了主抛光机构的稳定性，加强了主抛光机构的稳定性。附图说明图1为本技术的结构图。具体实施方式下面结合附图给出本技术较佳实施例，以详细说明本技术的技术方案。如图1所示，本技术抛光设备的主抛光机构包括主旋转套1、圆锥滚子轴承2、主旋转轴3、骨架油封4、主旋转轴环5、密封圈6、主旋转轴上板7、主旋转轴下板8、圆柱销9、电机连接座10、抛光滚筒11、托架12、主桶基座13、基座侧板14、接料盘15，主旋转套1位于圆锥滚子轴承2的一侧，圆锥滚子轴承2位于接料盘15上，主旋转轴3位于圆锥滚子轴承2的另一侧，主旋转轴环5位于骨架油封4的顶端上，密封圈6位于圆锥滚子轴承2的另一侧，主旋转轴上板7位于密封圈6和骨架油封4之间，主旋转轴下板8位于主旋转套1的下面，主旋转轴下板8和电机连接座10之间通过圆柱销9固定，电机连接座10位于主旋转轴3的一侧，托架12位于抛光滚筒11的底端上，托架12位于主旋转轴环5上，主桶基座13位于基座侧板14的底端上，基座侧板14位于接料盘15的下面，接料盘15位于主旋转套1的一侧。本技术的工作原理如下：抛光设备的主抛光机构的结构紧凑、设计合理，通过主旋转轴上板和主旋转轴下板来固定主旋转轴的位置，加强了主旋转轴的稳定性，提高了主抛光机构的稳定性，圆锥滚子轴承主要承受以径向为主的径、轴向联合载荷，轴承承载能力取决于外圈的滚道角度，角度越大承载能力越大，使用圆锥滚子轴承能够提高机身的承受能力，骨架油封是油封的典型代表，一般说的油封即指的是骨架油封，骨架油封的作用一般就是将传动部件中需要润滑的部件与出力部件隔离，不至于让润滑油渗漏，骨架就如同混凝土构件里面的钢筋，加强了主抛光机构的稳定性，并使油封能保持形状及张力，并且能够防止外界的灰尘、杂质等进入机器内部，有效的保护了主旋转轴，圆柱销依靠过盈配合将主旋转轴固定在销孔内，加强对主旋转轴的保护，电机连接座用于连接和固定电动机，主桶基座位于主桶的下方，起到了固定与支撑保护的作用。抛光滚筒对与其接触的金属进行抛光处理。主旋转套1上有螺孔，这样便于连接圆锥滚子轴承。主旋转轴上板7的结构与主旋转轴下板8的结构相同，这样能够提高机器的稳定性。电机连接座10身上有多个内六角圆柱头螺钉，便于固定电机连接座的位置，加强机器的结构。综上所述本技术抛光设备的主抛光机构结构紧凑、设计合理，提高了工作效率，提高了主抛光机构的稳定性，加强了主抛光机构的稳定性。以上所述的具体实施例，对本技术的解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本技术的具体实施例而已，并不用于限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光设备的主抛光机构，其特征在于，其包括主旋转套、圆锥滚子轴承、主旋转轴、骨架油封、主旋转轴环、密封圈、主旋转轴上板、主旋转轴下板、圆柱销、电机连接座、抛光滚筒、托架、主桶基座、基座侧板、接料盘，主旋转套位于圆锥滚子轴承的一侧，圆锥滚子轴承位于接料盘上，主旋转轴位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴环位于骨架油封的顶端上，密封圈位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴上板位于密封圈和骨架油封之间，主旋转轴下板位于主旋转套的下面，主旋转轴下板和电机连接座之间通过圆柱销固定，电机连接座位于主旋转轴的一侧，托架位于抛光滚筒的底端上，托架位于主旋转轴环上，主桶基座位于基座侧板的底端上，基座侧板位于接料盘的下面，接料盘位于主旋转套的一侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光设备的主抛光机构，其特征在于，其包括主旋转套、圆锥滚子轴承、主旋转轴、骨架油封、主旋转轴环、密封圈、主旋转轴上板、主旋转轴下板、圆柱销、电机连接座、抛光滚筒、托架、主桶基座、基座侧板、接料盘，主旋转套位于圆锥滚子轴承的一侧，圆锥滚子轴承位于接料盘上，主旋转轴位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴环位于骨架油封的顶端上，密封圈位于圆锥滚子轴承的另一侧，主旋转轴上板位于密封圈和骨架油封之间，主旋转轴下板位于主旋转套的下面，主旋转轴下板和电机连接座之间通过圆柱销固定，电机连接座位于主旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘训海，
申请(专利权)人：苏州普茨迈精密航空设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32