防附着部件和真空处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制在真空处理时从配置于放电空间的防附着部件产生的微粒的技术。本发明专利技术是防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着的防附着部件(30)，具备框状的防附着主体部件(10)和保持防附着主体部件(10)的保持部件(20)。防附着主体部件(10)具有在基板的周围设置的板状的第一至第四构成部件1‑4，并且第一至第四构成部件1‑4在与真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设有第一至第四勾挂部，第一至第四勾挂部用于勾挂并安装于在保持部件(20)设置的第一至第四钩部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防附着部件和真空处理装置
本专利技术涉及在例如溅射装置等真空处理装置中使用的防附着部件的技术。
技术介绍
以往，在这种真空处理装置中，为了在进行溅射等真空处理时防止成膜材料等相对于真空槽内的壁面等的附着，设有板状的防附着部件。该防附着部件设置在例如溅射装置那样的进行等离子体处理的放电空间的基板附近。在该情况下，防附着部件在真空槽内朝向与基板平行的方向安装于例如框状的保持部件。以往，这样的防附着部件使用多个螺栓安装于保持部件。但是，在安装于保持部件的防附着部件中，存在各种问题。即，在溅射等成膜时，对于防附着部件也附着成膜材料。此时，在螺栓的表面也附着成膜材料，成为微粒产生的原因。因此，对各螺栓安装用于防止成膜材料附着的帽，但是附着于该帽的成膜材料也成为微粒产生的原因。另外，由于防附着部件使用多个螺栓从放电空间侧相对于保持部件被安装，因而因放电时的热引起的防附着部件的伸长而在与保持部件之间产生摩擦，由此产生微粒。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平4-78132号公报；专利文献2：日本特开平10-060624号公报；专利文献3：日本特开2004-315948号公报；专利文献4：国际公开2006-067836号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是考虑到这样的现有技术的问题而作出的，其目的在于提供能够抑制在真空处理时从配置于放电空间的防附着部件产生的微粒的技术。用于解决问题的方案为了实现上述目的而作出的本专利技术是防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着的防附着部件，具备：框状的防附着主体部件；以及保持前述防附着主体部件的保持部件，前述防附着主体部件具有在处理对象物的周围设置的多个板状的构成部件，并且前述多个构成部件在与前述真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设置有勾挂部，该勾挂部用于勾挂并安装于在前述保持部件设置的多个钩部。在本专利技术中，在以下情况下也是有效的：前述防附着主体部件的各构成部件形成为细长形状，该各构成部件的勾挂部具有：固定用勾挂部，其在该防附着主体部件被前述保持部件保持的状态下，勾挂于在前述保持部件的钩部设置的固定用钩，使得前述各构成部件不沿长度方向移动；以及移动用勾挂部，其在前述各构成部件能够沿长度方向移动的状态下勾挂于在前述保持部件的钩部设置的移动用钩，前述固定用勾挂部设置在该各构成部件的中央部分，并且前述移动用勾挂部相对于前述固定用勾挂部设置在该构成部件的两端部侧。在本专利技术中，在以下情况下也是有效的：在前述防附着主体部件的各构成部件的周缘部，设置有向与前述真空槽的放电空间相向的面侧延伸的等离子体屏蔽用的壁部。在本专利技术中，在以下情况下也是有效的：在前述防附着主体部件的各构成部件的周缘部，以相对于前述等离子体屏蔽用的壁部向外侧延伸的方式设置有相对于前述保持部件的安装部。另外，本专利技术是构成为对配置在防附着部件附近的处理对象物进行既定的真空处理的真空处理装置，具备：真空槽；以及前述防附着部件，其设置在前述真空槽内，防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着，前述防附着部件具有框状的防附着主体部件和保持前述防附着主体部件的保持部件，前述防附着主体部件具有在处理对象物的周围设置的多个板状的构成部件，前述多个构成部件在与前述真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设有勾挂部，该勾挂部用于勾挂并安装于在前述保持部件设置的多个钩部。在本专利技术中，在以下情况下也是有效的；构成为具有配置有溅射靶材的前述真空槽，对配置在前述防附着部件附近的处理对象物进行溅射。专利技术效果在本专利技术中，由于在防附着主体部件的多个板状的构成部件中的、与真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上，分别设有勾挂部，该勾挂部用于勾挂并安装于在保持部件设置的多个钩部，因而不需要为了使防附着本体部件被保持部件保持而像现有技术那样使用多个带盖的螺栓。其结果是，根据本专利技术，能够减少防附着部件的放电空间侧的面的凹凸部而减小其表面积，因而能够抑制在真空处理时附着的成膜材料等从防附着部件的表面剥离所引起的微粒的产生。在本专利技术中，防附着主体部件的各构成部件形成为细长形状，该各构成部件的勾挂部具有：固定用勾挂部，其在该防附着主体部件被保持部件保持的状态下，勾挂于在保持部件的钩部设置的固定用钩，使得各构成部件不沿长度方向移动；以及移动用勾挂部，其在各构成部件能够沿长度方向移动的状态下勾挂于在保持部件的钩部设置的移动用钩，固定用勾挂部设置在该各构成部件的中央部分，并且移动用勾挂部相对于固定用勾挂部设置在该构成部件的两端部侧，在该情况下，在多个构成部件因溅射等真空处理时的热而伸长的情况下，防附着主体部件的移动用勾挂部在勾挂于保持部件的移动用钩的状态下，能够分别沿多个构成部件的长度方向移动。其结果是，根据本专利技术，在多个构成部件分别因真空处理时产生的热而伸长的情况下，以各构成部件的中央部分为基准向两端部侧均等地伸长，因而能够抑制真空处理时的防附着部件的翘曲、变形。另外，在本专利技术中，由于在防附着主体部件的各构成部件的周缘部设置有向与真空槽的放电空间相向的面侧延伸的等离子体屏蔽用的壁部的情况下，能够使附着在防附着部件的放电空间侧的面的成膜材料等物质的量减少，因而能够进一步抑制该物质从防附着部件的表面剥离所引起的微粒的产生。进而，在本专利技术中，在防附着主体部件的各构成部件的周缘部，以从等离子体屏蔽用的壁部向外侧延伸的方式，设置有相对于保持部件的安装部，在该情况下，即使在安装部中使用螺钉将防附着主体部件安装于保持部件的情况下，在真空处理时产生的物质也被设于防附着主体部件的等离子体屏蔽用的壁部屏蔽，能够防止防附着主体部件向安装部的附着，因而能够进一步抑制该物质从防附着部件的表面剥离所引起的微粒的产生。附图说明图1是示出作为本专利技术所涉及的真空处理装置的例子的溅射装置的内部结构的概要结构图。图2(a)、(b)是示出本专利技术所涉及的防附着部件的防附着主体部件的例子的概要结构图，图2(a)是从放电空间侧观察的主视图，图2(b)是从放电空间侧的相反侧观察的主视图。图3(a)、(b)是示出该防附着主体部件的例子的概要结构图，图3(a)是从放电空间侧观察的主视图，图3(b)是图3(a)的A-A线剖视图。图4是示出在本专利技术中使用的保持部件的例子的主视图，是从放电空间侧观察的图。图5(a)是示出防附着主体部件的第一及第二构成部件中的固定用勾挂部和保持部件的第一及第二框部中的固定用钩的结构的说明图，图5(b)是示出防附着主体部件的第一及第二构成部件中的移动用勾挂部和保持部件的第一及第二框部中的移动用钩的结构的说明图。图6(a)至(d)是示出使防附着主体部件的第一和第二构成部件被保持部件的第一和第二框部保持的情况下的主要部分的结构和动作的剖视图。图7(a)是示出防附着主体部件的第三及第四构成部件中的固定用勾挂部和保持部件的第三及第四框部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 一种防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着的防附着部件，具备：/n框状的防附着主体部件；以及/n保持所述防附着主体部件的保持部件，/n所述防附着主体部件具有在处理对象物的周围设置的多个板状的构成部件，并且所述多个构成部件在与所述真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设置有勾挂部，所述勾挂部用于勾挂并安装于在所述保持部件设置的多个钩部。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180620 JP 2018-1166341.一种防止在真空处理时产生的物质向真空槽内附着的防附着部件，具备：
框状的防附着主体部件；以及
保持所述防附着主体部件的保持部件，
所述防附着主体部件具有在处理对象物的周围设置的多个板状的构成部件，并且所述多个构成部件在与所述真空槽内的放电空间相向的面相反侧的面上分别设置有勾挂部，所述勾挂部用于勾挂并安装于在所述保持部件设置的多个钩部。


2.根据权利要求1所述的防附着部件，其中，所述防附着主体部件的各构成部件形成为细长形状，该各构成部件的勾挂部具有：固定用勾挂部，其在该防附着主体部件被所述保持部件保持的状态下，勾挂于在所述保持部件的钩部设置的固定用钩，使得所述各构成部件不沿长度方向移动；以及移动用勾挂部，其在所述各构成部件能够沿长度方向移动的状态下勾挂于在所述保持部件的钩部设置的移动用钩，所述固定用勾挂部设置在该各构成部件的中央部分，并且所述移动用勾挂部相对于所述固定用勾挂部设置在该构成部件的两端部侧。


3.根据权利要求1所述的防...

【专利技术属性】
技术研发人员：阪上弘敏，大野哲宏，尾崎萌，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本;JP