真空处理装置、伪基板装置制造方法及图纸

除去真空处理装置中的真空氛围中的灰尘。在真空处理装置（2）的搬运室（10）设置储藏室（12），在储藏室（12）内配置伪基板装置（20），借助带电装置（18）使伪基板装置（20）的捕集体（28）带电，向真空处理室（13a~13d）的内部搬入。各真空处理室（13a~13d）的内部的灰尘由于静电力而被吸附于被搬入的伪基板装置（20）的捕集体（2）。灰尘被捕集的伪基板装置（20）向大气氛围中取出，拆下捕集体（28）来洗涤，使伪基板装置（20）再生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空处理装置、伪基板装置
本专利技术涉及真空处理技术，特别涉及在真空氛围中将灰尘除去的技术或预溅射中不产生灰尘的技术。
技术介绍
以搬运室为中心连接多个真空处理室的多腔型的真空处理装置广泛用于以半导体晶圆为基板的半导体设备的制造装置。连接于搬运室的真空处理室中，有形成薄膜真空处理室、用于将薄膜蚀刻的真空处理室等各种各样的装置，但特别地，已知真空处理室在用于形成薄膜的溅镀装置、蒸着装置、或CVD装置等成膜装置中容易产生灰尘。若这样产生的灰尘附着于基板，则作为形成的薄膜的缺陷、配线的断线等不良的原因，特别地，在图案形成微细化的近年来的半导体装置中以往能够无视的程度的大小的微小的灰尘也成为不良的原因。因此，以往使真空处理室的内部向大气开放，将真空槽内人工清扫，进行将灰尘除去的作业，但作业烦杂且困难，此外，有在向大气开放的真空处理室的内部为了形成真空氛围而需要较长时间等不良情况，需要将其解决。此外，现有技术中，开始成膜前为了清洁溅镀靶材的表面，进行预溅射。预溅射的期间，为使膜不附着于基板架，配置有作为伪基板而不使用的玻璃基板。但是，若预溅射中膜过多地附着于玻璃基板，则有玻璃基板破裂的情况。因此，更换玻璃基板的同时进行预溅射。预溅射中使用的玻璃基板无法再使用，所以产生浪费的成本。预溅射中希望不发生伪玻璃基板的破裂及成为浪费的玻璃基板。此外，预溅射中也能够取代使用伪基板而在溅镀靶材与基板架之间配置闸门，但若重复多次进行预溅镀工序，则附着于闸门的薄膜变厚，剥离而成为产生灰尘的原因。因此，希望不产生灰尘的预溅镀。此外，使用大型基板的装置中，闸门大型化，移动机构大型化。进而，闸门需要避让的位置，由于真空腔也大型化，所以在大型装置难以使用闸门。专利文献1：日本特开2002-038264号。专利文献2：日本特开2004-027364号。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，为了解决上述现有技术的不良情况，提供能够在真空氛围中除去灰尘的技术和在预溅镀时不产生灰尘的技术。为了解决上述问题，本专利技术是一种真空处理装置，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室，具有伪基板装置和带电装置，前述伪基板装置具有托盘和配置于前述托盘的捕集体，前述带电装置使前述捕集体带电，玻璃基板和前述伪基板装置包含于前述搬运对象物，借助前述伪基板装置捕集前述真空处理室内的灰尘。此外，本专利技术是真空处理装置，前述捕集体是金属片，在前述托盘配置有将前述金属片能够拆装地固定于前述托盘的固定部。此外，本专利技术是真空处理装置，前述固定部具有至少一方为永久磁铁而借助磁力互相吸引的第一、第二吸引部件，前述第一、第二吸引部件中的一方设置于前述托盘，另一方配置于前述金属片上，前述第一、第二吸引部件将前述金属片夹于其间地被互相吸引。此外，本专利技术是真空处理装置，前述金属片被螺纹固定于前述托盘。此外，本专利技术是真空处理装置，前述捕集体具有互相绝缘的两个电极、对前述两个电极的一方施加正电压而对另一方施加负电压的直流电压源。此外，本专利技术是真空处理装置，具有配置一台至多台前述伪基板装置的储藏室，借助前述基板搬运机器人，前述伪基板装置被相对于前述储藏室搬入搬出。此外，本专利技术是真空处理装置，前述基板搬运机器人配置于搬运室，前述真空处理室和前述储藏室与前述搬运室连接。此外，本专利技术是一种真空处理装置，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室、配置于前述真空处理室的阴电极、配置于前述阴电极的靶材，前述靶材被溅镀而生成的溅镀颗粒被放出，前述搬运对象物包括面对前述靶材地形成薄膜的玻璃基板和捕集体配置于托盘的伪基板装置，前述伪基板装置为，前述溅镀颗粒面对前述靶材地到达前述捕集体。此外，本专利技术是真空处理装置，前述捕集体是金属片，在前述托盘，配置有将前述金属片能够拆装地固定于前述托盘的固定部。此外，本专利技术是真空处理装置，前述固定部具有至少一方为永久磁铁而借助磁力被互相吸引的第一、第二吸引部件，前述第一、第二吸引部件中的一方设置于前述托盘，另一方配置于前述金属片上，前述第一、第二吸引部件将前述金属片夹于其间地被互相吸引。此外，本专利技术是真空处理装置，前述金属片被螺纹固定于前述托盘。此外，本专利技术是一种伪基板装置，被包含于真空处理装置的前述搬运对象物，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室，前述伪基板装置具有托盘和配置于前述托盘的捕集体，借助前述捕集体捕集前述真空处理室内产生的灰尘。此外，本专利技术是伪基板装置，前述捕集体是金属片，在前述托盘配置有将前述金属片能够拆装地固定于前述托盘的固定部。此外，本专利技术是伪基板装置，前述固定部具有至少一方为永久磁铁而借助磁力被互相吸引的第一、第二吸引部件，前述第一、第二吸引部件中的一方设置于前述托盘，另一方配置于前述金属片上，前述金属片被夹于互相吸引的前述第一、第二吸引部件之间。此外，本专利技术是伪基板装置，前述金属片被螺纹固定于前述托盘。此外，本专利技术是伪基板装置，前述捕集体具有互相绝缘的两个电极，在前述托盘设置有对一方的前述电极施加正电压而对另一方的前述电极施加负电压的直流电压源。此外，本专利技术是伪基板装置，前述捕集体由于设置于前述真空处理装置的带电装置而带电。专利技术效果能够无需人工且能够不使搬运室、真空处理室暴露于大气地除去灰尘。能够不使用伪玻璃基板、闸门地进行预溅镀。能够借助搬运玻璃基板的基板搬运机器人搬运伪基板装置，相对于真空处理室的内部搬入搬出。附图说明图1是本专利技术的真空处理装置。图2中(a)是储藏室，(b)是玻璃基板，(c)是真空处理室。图3中(a)是本专利技术的伪基板装置的托盘的一例，(b)是其C-C’线截断剖视图。图4中(a)是在本专利技术的伪基板装置配置有捕集体的例子，(b)是其D-D’线截断剖视图。图5中(a)是本专利技术的伪基板装置的一例，(b)是其E-E’线截断剖视图。图6中(a)是本专利技术的伪基板装置的托盘的其他例，(b)是其F-F’线截断剖视图。图7中(a)是本专利技术的伪基板装置的其他例，(b)是其G-G’线截断剖视图。图8中(a)是具有电池的本专利技术的伪基板装置的例子，(b)是其H-H’线截断剖视图。具体实施方式图1是本专利技术的真空处理装置2，该真空处理装置2具有配置有基板搬运机器人17的搬运室10、配置本专利技术的伪基板装置20的储藏室12、真空氛围中将搬运对象物所包含的玻璃基板真空处理的多个真空处理室13a~13d、用于使搬运对象物在大气压的氛围与真空氛围之间搬入搬出的搬入搬出室15。储藏室12、搬入搬出室15、真空处理室13a~13d设置成，借助闸阀42、43、46a~46d，它们的内部能够与搬运室10的内部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空处理装置，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室，其特征在于，/n具有伪基板装置和带电装置，/n前述伪基板装置具有托盘和配置于前述托盘的捕集体，/n前述带电装置使前述捕集体带电，/n玻璃基板和前述伪基板装置包含于前述搬运对象物，借助前述伪基板装置捕集前述真空处理室内的灰尘。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180615 JP 2018-1148621.一种真空处理装置，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室，其特征在于，
具有伪基板装置和带电装置，
前述伪基板装置具有托盘和配置于前述托盘的捕集体，
前述带电装置使前述捕集体带电，
玻璃基板和前述伪基板装置包含于前述搬运对象物，借助前述伪基板装置捕集前述真空处理室内的灰尘。


2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，
前述捕集体是金属片，在前述托盘配置有将前述金属片能够拆装地固定于前述托盘的固定部。


3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，
前述固定部具有至少一方为永久磁铁而借助磁力互相吸引的第一、第二吸引部件，
前述第一、第二吸引部件中的一方设置于前述托盘，另一方配置于前述金属片上，前述第一、第二吸引部件将前述金属片夹于其间地被互相吸引。


4.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，
前述金属片被螺纹固定于前述托盘。


5.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，
前述捕集体具有互相绝缘的两个电极、对前述两个电极的一方施加正电压而对另一方施加负电压的直流电压源。


6.如权利要求1至5中任一项所述的真空处理装置，其特征在于，
具有配置一台至多台前述伪基板装置的储藏室，
借助前述基板搬运机器人，前述伪基板装置被相对于前述储藏室搬入搬出。


7.如权利要求6所述的真空处理装置，其特征在于，
前述基板搬运机器人配置于搬运室，前述真空处理室和前述储藏室与前述搬运室连接。


8.一种真空处理装置，前述真空处理装置具有使搬运对象物在真空氛围中移动的基板搬运机器人、供前述搬运对象物搬入的真空处理室、配置于前述真空处理室的阴电极、配置于前述阴电极的靶材，前述靶材被溅镀而生成的溅镀颗粒被放出，其特征在于，
前述搬运对象物包括面对前述靶材地形成薄膜的玻璃基板和捕集...

【专利技术属性】
技术研发人员：阪上弘敏，大野哲宏，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本;JP