【技术实现步骤摘要】
测量装置、曝光装置和制造物品的方法
本专利技术涉及测量装置、曝光装置和制造物品的方法。
技术介绍
近年来，已经要求用于制造半导体器件的曝光装置与微构图一起实现基板的高重叠精度。由于重叠精度一般需要大约1/5的分辨率，因此随着半导体器件的微构图的发展，重叠精度的提高变得越来越重要。为了提高重叠精度，需要高度准确地调节位置测量系统。例如，为了减少位置测量系统中的错误测量，日本专利No.5036429提出了一种技术，其中通过分离位置测量系统的彗形像差与光轴移位来高精度地调节位置测量系统。加宽用于检测对准标记的光(检测光)的波段(wavelengthband)被认为是用于进一步提高重叠精度的手段。尤其是，近年来，诸如用可见光获得低对比度和低精度的滤色器处理之类的处理增加，从而需要能够使用包括除可见光之外的具有蓝色波长的光(蓝色波长光)和近红外光的宽波段的光的位置测量装置。但是，当在常规的位置测量系统中加宽检测光的波段时，对比度将降级，因此这将造成测量精度和重叠精度的降级。这是由于以下事实所致：用于合成照明光学...
【技术保护点】
1.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：/n照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；/n图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及/n分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，/n其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，/n照明系统和图像形成系统各自包括透射偏振器，/n在反射偏振器中，S偏振光的反射率高于P偏振光的反射率，/n在被包括在照明系统中的透射偏振器中，P偏...
【技术特征摘要】
20190131 JP 2019-0159871.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分离系统，包括布置在照明系统和图像形成系统之间的反射偏振器和λ/4板，并且被配置成经由反射偏振器和λ/4板将照明光与检测光分离，
其中，分离系统包括布置在反射偏振器和λ/4板之间的至少一个光学构件，
照明系统和图像形成系统各自包括透射偏振器，
在反射偏振器中，S偏振光的反射率高于P偏振光的反射率，
在被包括在照明系统中的透射偏振器中，P偏振光的透射率高于S偏振光的透射率，并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，S偏振光的透射率高于P偏振光的透射率。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其中，在被包括在照明系统中的透射偏振器中，P偏振光的透射率是100％，S偏振光的透射率是1％，并且
在被包括在图像形成系统中的透射偏振器中，S偏振光的透射率是100％，P偏振光的透射率是1％。
3.根据权利要求1所述的测量装置，其中，所述至少一个光学构件包括透射构件，在该透射构件上布置有被配置成抑制照明光的反射的抗反射膜。
4.根据权利要求3所述的测量装置，其中，透射构件包括二向色棱镜。
5.根据权利要求1所述的测量装置，其中，所述至少一个光学构件包括全反射棱镜，在该全反射棱镜上布置有被配置成抑制照明光的反射的抗反射膜。
6.根据权利要求1所述的测量装置，其中，照明系统使用照明光对待检测物体执行暗视野照明。
7.根据权利要求1所述的测量装置，其中，被包括在照明系统中的透射偏振器被布置成相对于照明系统的光轴倾斜，并且
被包括在图像形成系统中的透射偏振器被布置成相对于图像形成系统的光轴倾斜。
8.根据权利要求1所述的测量装置，其中，被包括在照明系统中的透射偏振器和被包括在图像形成系统中的透射偏振器各自被布置在从与待检测物体光学共轭的面移位的面上。
9.根据权利要求1所述的测量装置，其中，照明光的波段的宽度不小于300nm。
10.根据权利要求1所述的测量装置，还包括：
控制单元，被配置成基于由光电转换器件检测到的待检测物体的图像来获得待检测物体的位置。
11.一种测量待检测物体的位置的测量装置，其特征在于，包括：
照明系统，被配置成用照明光照亮待检测物体；
图像形成系统，被配置成在光电转换器件上形成来自待检测物体的检测光的图像，该光电转换器件被配置成检测待检测物体的图像；以及
分...
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