一种光学镀膜辅助离子源制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光学镀膜辅助离子源，包括放电室、位于放电室外侧的磁棒及依次安装在放电室正前方的屏极、加速极及中和灯丝，放电室内安装有第一阳极筒和第二阳极筒，放电室进口端内安装有位于第一阳极筒内的阴极，进口端沿周侧设有进气口，第一阳极筒和第二阳极筒之间设有栅极，第一阳极筒和第二阳极筒的内侧表面为凹凸不平的波浪形。本实用新型专利技术提供的一种光学镀膜辅助离子源，电子束流状态佳，稳定性好。

【技术实现步骤摘要】
一种光学镀膜辅助离子源
本技术属于离子束
，具体涉及一种光学镀膜辅助离子源。
技术介绍
离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支，离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前，离子源的种类很多，该装置的基本工作原理为：首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，然后由屏栅和加速栅将离子从等离子腔体中抽取出来，这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。但是现有离子源的缺点在于：电子束无序乱飞，束流状态差，稳定性差，不易控制；阳极管对电子灰尘的吸附性差。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术提供一种光学镀膜辅助离子源，电子束流状态佳，稳定性好。本技术是通过以下技术方案实现的：一种光学镀膜辅助离子源，包括放电室、位于放电室外侧的磁棒及依次安装在放电室正前方的屏极、加速极及中和灯丝，所述放电室内安装有第一阳极筒和第二阳极筒，所述放电室进口端内安装有位于所述第一阳极筒内的阴极，所述进口端沿周侧设有进气口，所述第一阳极筒和第二阳极筒之间设有栅极，所述第一阳极筒和第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学镀膜辅助离子源，包括放电室(1)、位于放电室(1)外侧的磁棒(2)及依次安装在放电室(1)正前方的屏极(3)、加速极(4)及中和灯丝(5)，其特征在于：所述放电室内(1)安装有第一阳极筒(6)和第二阳极筒(7)，所述放电室(1)进口端内安装有位于所述第一阳极筒(6)内的阴极(8)，所述进口端沿周侧设有进气口(9)，所述第一阳极筒(6)和第二阳极筒(7)之间设有栅极(10)，所述第一阳极筒(6)和第二阳极筒(7)的内侧表面为凹凸不平的波浪形。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学镀膜辅助离子源，包括放电室(1)、位于放电室(1)外侧的磁棒(2)及依次安装在放电室(1)正前方的屏极(3)、加速极(4)及中和灯丝(5)，其特征在于：所述放电室内(1)安装有第一阳极筒(6)和第二阳极筒(7)，所述放电室(1)进口端内安装有位于所述第一阳极筒(6)内的阴极...

【专利技术属性】
技术研发人员：安建昊，唐欢欢，
申请(专利权)人：江苏普拉斯玛机械有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32