一种电镀设备及其电镀方法技术

本发明专利技术涉及一种电镀设备，属于表面处理设备的技术领域，其包括电镀池，所述电镀池上水平滑动连接有支撑架，支撑架上设置有能够竖直升降并能够沿着水平且垂直于支撑架滑动方向转动的料箱，料箱的底部开设有多个通孔，料箱的顶部开设有可启闭的放置门，料箱的顶部连通有循环管，循环管的另一端低于料箱的顶部，循环管连通有循环泵，本发明专利技术具有能够方便快捷地对大量小体积的零件进行均匀电镀处理的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种电镀设备及其电镀方法
本专利技术涉及表面处理设备的
，尤其是涉及一种电镀设备及其电镀方法。
技术介绍
目前在金属制品的表面镀一层其他金属，来提高金属制品的美观度、导电性等极为常见，此过程为电镀。现有的可参考公告号为CN102453934B的中国专利，其公开了一种内孔局部电镀贵重金属的内孔局部电镀设备，包括储液底槽、过滤器、泵、上槽，上槽旁边安装有电控箱，电控箱电连接有直流电源；上槽内部设置有喷镀模组，喷镀模组包括水仓、喷嘴安装模板、工件安装模板、阳极网、喷嘴、工件导电压紧装置；工件安装模板开设有与工件匹配的安装孔，安装孔用于插置工件，安装孔底部设置有用于遮蔽工件内孔无需电镀位置的内孔屏蔽套，安装孔还设置有用于遮蔽工件外部的外部密封屏蔽套。上述中的现有技术方案存在以下缺陷：实现了对工件内孔局部特定位置电镀贵重金属的目的，但是对于小零件的表面却不能实现均匀的电镀。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种电镀设备及其电镀方法，其优点是：能够方便快捷地对大量小体积的零件进行均匀电镀处理。本专利技术的上述专利技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种电镀设备及其电镀方法，包括电镀池，所述电镀池上水平滑动连接有支撑架，支撑架上设置有能够竖直升降并能够沿着水平且垂直于支撑架滑动方向转动的料箱，料箱的底部开设有多个通孔，料箱的顶部开设有可启闭的放置门，料箱的顶部连通有循环管，循环管的另一端低于料箱的顶部，循环管连通有循环泵。通过采用上述技术方案，当盛有小零件的料箱被支撑架带动进入到电镀池内后，电镀液通过通孔进入到料箱，且充满料箱以后，启动循环泵，循环泵使料箱内的电镀液向上流入循环管，然后从循环管的另一端回流到电镀池内，增加了电镀液在小零件表面流过的均匀程度，使小零件表面能够均匀镀上镀层，达到了能够方便快捷地对大量小体积的零件进行均匀电镀的效果。本专利技术进一步设置为：所述电镀池沿着支撑架滑动方向的一端设置有回收组件，回收组件包括过滤板、引导部和挡板，过滤板从电镀池的顶部开始沿着远离电镀池的方向逐渐向下延伸，引导部固定连接于过滤板的下表面且使过滤板的下方与电镀池连通，挡板竖直连接于过滤板的表面。通过采用上述技术方案，当料箱被支撑架带动移动到过滤板的上方后，料箱转动，小零件即被倾倒在过滤板上，之后小零件上粘附的电镀液即缓慢滑落，然后穿过过滤板进入到引导部，最后从引导部回到电镀池，实现了小零件上粘附的电镀液的再利用。本专利技术进一步设置为：所述挡板与过滤板竖直滑动连接，挡板设置有切换组件，切换组件包括压柱、引导柱、限位部、滑动部和复位弹簧，引导柱的底部与过滤板固定连接，压柱套设于引导柱的外部且与引导柱竖直滑动连接，压柱水平滑动连接有卡块，卡块朝向引导柱的端面向下逐渐远离引导柱，卡块远离引导柱的一端固定连接有滑柱，滑柱沿着远离引导柱的方向延伸出压柱的外部，滑柱外套设有定位弹簧，定位弹簧位于压柱与卡块之间，滑柱位于压柱外部的端部固定连接有定位部，限位部固定连接于引导柱的外部，限位部向上逐渐靠近引导柱的中轴线，限位部的下表面开设有凹槽，滑动部套设于引导柱的外部且与引导柱竖直滑动连接，滑动部位于限位部的下方，滑动部向下其逐渐远离引导柱再逐渐靠近引导柱，滑动部的顶部与凹槽相适配，复位弹簧套设于引导柱的外部且与压柱的底部固定连接，压柱与挡板固定连接。通过采用上述技术方案，当料箱移动到压柱的上方后，料箱竖直下移，带动压柱竖直下移，压柱向下压缩复位弹簧，直到压柱带动卡块下移，卡块沿着限位部的外部逐渐远离引导柱的轴线方向移动，同时定位弹簧被压缩，直到卡块下滑到限位部的下方后，定位弹簧带动卡块向靠近引导柱的轴线方向移动，卡块抵接于限位部的下表面，卡块不能够再向上移动，同时压柱带动挡板下移，挡板的顶部与过滤板齐平，挡板对位于挡板与电镀池之间的小零件的阻挡作用消失，小零件沿着过滤板下滑；之后料箱继续下降，料箱继续带动压柱竖直下移，压柱带动卡块竖直下移，卡块沿着滑动部的外部逐渐远离引导柱的轴线，再逐渐靠近引导柱的轴线，当卡块位于滑动部的下方后，料箱上移，压柱被复位弹簧带动上移，卡块带动滑动部竖直上移，直到滑动部卡设于凹槽内后，滑动部不能够再继续上移，此时随着压柱的继续上移，卡块被滑动部下部引导而逐渐远离引导柱的轴线，使得卡块能够越过滑动部和限位部向上移动，此时压柱带动挡板移动至高出过滤板的表面，挡板能够继续对小零件起到阻挡作用，此时可使料箱转动而将小零件倾倒在过滤板上，实现了料箱下降而使挡板下移与上移的动态过程，使操作更加便利。本专利技术进一步设置为：所述切换组件设置两个，且切换组件设置于挡板的两端。通过采用上述技术方案，挡板的两端能够同时被切换组件带动而竖直移动，保证了挡板移动的稳定性。本专利技术进一步设置为：所述压柱的顶部固定连接有水平的过渡部，过渡部从压柱的顶部开始，逐渐向靠近电镀池的方向延伸。通过采用上述技术方案，料箱能够在刚移动到过滤板的上方时，随着料箱的竖直下移，料箱既能够将过渡部下压，从而过渡部向下压动压柱，压柱能够的带动挡板上升或者下降，使料箱不需移动到电镀池的顶部即可。本专利技术进一步设置为：所述过滤板开设有供挡板竖直上下滑动的限位槽，过滤板固定连接有限位板，限位板从限位槽的顶部开始竖直向下延伸。通过采用上述技术方案，当挡板被带动下滑到过滤板的下方后，部分上位完全滑动下去的小零件可能落到限位槽内，此时部分小零件被限位板限位，而不会从限位槽掉落，位于限位槽内的小零件位于挡板的顶部，随着挡板上移到与过滤板齐平的过程中，小零件被挡板带动而上移，使得小零件能够沿着过滤板滑动。本专利技术进一步设置为：所述支撑架竖直滑动连接有固定架，料箱装转动连接于固定架，放置门开设于料箱顶部靠近回收组件的一侧，放置门水平设置且与固定架固定连接，且料箱的转轴位于放置门远离回收组件的一侧。通过采用上述技术方案，当放入小零件使，使料箱转动，料箱与放置门之间打开，然后支撑架移动，带动料箱移动至电镀池的正上方后，固定架竖直下移带动料箱进入到电镀池内，然后电镀液从通孔进入到料箱内，而料箱内的空气从料箱与放置门之间的间隙移出，当电镀液充满料向后，转动料箱，料箱与放置门关闭，此时即可开启循环泵进行电镀；电镀完毕后，固定架竖直上移，然后支撑架水平移动到过滤板的上方，使料箱转动，料箱顶部的开口逐渐远离放置门，小零件从料箱内被倒入到过滤板上，实现了放置门启闭的自动化。本专利技术进一步设置为：所述过滤板远离电镀池的一侧设置有冲洗滤板，冲洗滤板的上方设置有能够正对冲洗滤板喷水的喷淋管，冲洗滤板远离电镀池的一侧设置有风干滤板，风干滤板的一侧设置有能够正对风干滤板吹风的风机。通过采用上述技术方案，当小零件从过滤板上滑下后，即移动到冲洗滤板上，并沿着冲洗滤板逐渐向下滑动，同时喷淋管对移动的小零件喷水，使得小零件表面的电镀液能够被冲洗下来；然后小零件滑动到风干滤板上，风机对风干滤板上的小零件进行吹风，使得小零件表面的水分被风干，从而得到电镀完毕的小零件。一种电镀方法，包括以下步骤：S本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电镀设备，包括电镀池(1)，其特征在于：所述电镀池(1)上水平滑动连接有支撑架(2)，支撑架(2)上设置有能够竖直升降并能够沿着水平且垂直于支撑架(2)滑动方向转动的料箱(4)，料箱(4)的底部开设有多个通孔(41)，料箱(4)的顶部开设有可启闭的放置门(33)，料箱(4)的顶部连通有循环管(42)，循环管(42)的另一端低于料箱(4)的顶部，循环管(42)连通有循环泵(421)。/n

【技术特征摘要】
1.一种电镀设备，包括电镀池(1)，其特征在于：所述电镀池(1)上水平滑动连接有支撑架(2)，支撑架(2)上设置有能够竖直升降并能够沿着水平且垂直于支撑架(2)滑动方向转动的料箱(4)，料箱(4)的底部开设有多个通孔(41)，料箱(4)的顶部开设有可启闭的放置门(33)，料箱(4)的顶部连通有循环管(42)，循环管(42)的另一端低于料箱(4)的顶部，循环管(42)连通有循环泵(421)。


2.根据权利要求1所述的一种电镀设备，其特征在于：所述电镀池(1)沿着支撑架(2)滑动方向的一端设置有回收组件(5)，回收组件(5)包括过滤板(51)、引导部(52)和挡板(53)，过滤板(51)从电镀池(1)的顶部开始沿着远离电镀池(1)的方向逐渐向下延伸，引导部(52)固定连接于过滤板(51)的下表面且使过滤板(51)的下方与电镀池(1)连通，挡板(53)竖直连接于过滤板(51)的表面。


3.根据权利要求2所述的一种电镀设备，其特征在于：所述挡板(53)与过滤板(51)竖直滑动连接，挡板(53)设置有切换组件(6)，切换组件(6)包括压柱(61)、引导柱(62)、限位部(63)、滑动部(64)和复位弹簧(65)，引导柱(62)的底部与过滤板(51)固定连接，压柱(61)套设于引导柱(62)的外部且与引导柱(62)竖直滑动连接，压柱(61)水平滑动连接有卡块(611)，卡块(611)朝向引导柱(62)的端面向下逐渐远离引导柱(62)，卡块(611)远离引导柱(62)的一端固定连接有滑柱(612)，滑柱(612)沿着远离引导柱(62)的方向延伸出压柱(61)的外部，滑柱(612)外套设有定位弹簧(613)，定位弹簧(613)位于压柱(61)与卡块(611)之间，滑柱(612)位于压柱(61)外部的端部固定连接有定位部(614)，限位部(63)固定连接于引导柱(62)的外部，限位部(63)向上逐渐靠近引导柱(62)的中轴线，限位部(63)的下表面开设有凹槽(631)，滑动部(64)套设于引导柱(62)的外部且与...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪雪峰，吴晓斐，桑亿，
申请(专利权)人：华福上海环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31