等离子体处理装置制造方法及图纸

技术编号:24960170 阅读:31 留言:0更新日期:2020-07-18 03:08
本实用新型专利技术提供了等离子体处理装置,包括箱体、等离子设备主体、真空泵,箱体由隔板隔成上下两层,上层腔室内安装等离子设备主体,下层腔室内安装真空泵,且下层腔室内至少一面上安装散热机构,包括传热片、导热柱及散热板,传热片位于下层腔室内,导热柱一端穿过腔室壁与传热片固定,另端固定散热板,散热板包括弧形本体及分布在弧形本体上的散热片,本等离子体处理装置改进结构,在下层腔室内安装散热机构用于散热,省却了风扇或水冷装置,通过传热片配合导热柱将下层腔室内热量传导出来,进而利用散热板进行散热,并改进散热板结构,采用弧形本体配合散热片的结构,扩大散热面积,提高散热效率。

【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置
本技术涉及等离子处理
,尤其涉及等离子体处理装置。
技术介绍
等离子处理装置工作原理:对气体施加足够的能量使其离化成等离子状态,进而处理工件样品,实现清洁等目的,市面上等离子处理装置一般利用真空泵抽取清洗腔内气体,维持一定真空度,部分型号中,真空泵与等离子设备主体为一体式安装,真空泵工作时产生的热量易积存在安装腔室内,一般通过安装风机或水冷管进行散热,风机使用较简单,但提高了能耗,水冷管的安装也较简单,但需外来水源接入,使用不够方便,因此需另寻途径改进。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的是提供等离子体处理装置,以解决上述问题。本技术的技术方案是:等离子体处理装置,包括箱体、等离子设备主体、真空泵,箱体由隔板隔成上下两层,上层腔室内安装等离子设备主体,下层腔室内安装真空泵,且下层腔室内至少一面上安装散热机构,包括传热片、导热柱及散热板,传热片位于下层腔室内,导热柱一端穿过腔室壁与传热片固定,另端固定散热板,散热板包括弧形本体及分布在弧形本体上的散热片。本等离子体处理装置改进结构,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.等离子体处理装置,包括箱体、等离子设备主体、真空泵,其特征在于,箱体由隔板隔成上下两层,上层腔室内安装等离子设备主体,下层腔室内安装真空泵,且下层腔室内至少一面上安装散热机构,包括传热片、导热柱及散热板,传热片位于下层腔室内,导热柱一端穿过腔室壁与传热片固定,另端固定散热板,散热板包括弧形本体及分布在弧形本体上的散热片。/n

【技术特征摘要】
1.等离子体处理装置,包括箱体、等离子设备主体、真空泵,其特征在于,箱体由隔板隔成上下两层,上层腔室内安装等离子设备主体,下层腔室内安装真空泵,且下层腔室内至少一面上安装散热机构,包括传热片、导热柱及散热板,传热片位于下层腔室内,导热柱一端穿过腔室壁与传热片固定,另端固定散热板,散热板包括弧形本体及分布在弧形本体上的散热片。


2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,还包括对流筒,固定在箱体壁上,散热板另端位于对流筒内。


3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,对流筒内下部位置的散热板数量多于...

【专利技术属性】
技术研发人员:董海清申鹏
申请(专利权)人:深圳市创智捷科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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