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本实用新型提供了等离子体处理装置，包括箱体、等离子设备主体、真空泵，箱体由隔板隔成上下两层，上层腔室内安装等离子设备主体，下层腔室内安装真空泵，且下层腔室内至少一面上安装散热机构，包括传热片、导热柱及散热板，传热片位于下层腔室内，导热柱一端...
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