一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体制造技术

一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体，它属于电磁波和新型人工电磁材料领域。本发明专利技术要解决现有超材料吸波体无法同时兼顾高透过率、超宽频带吸收、低剖面和低雷达散射截面积的问题。它自上而下依次由图案化阻抗膜层、第一透明基体、中间透明介质层、第二透明基体及透明导电薄膜组成；所述的图案化阻抗膜层由阵列的N×M个透明图案化阻抗膜单元组成；所述的透明图案化阻抗膜单元的形状为1个位于中央的大圆和周围均匀分布的4个小圆交叠而成。本发明专利技术可以在保持高透过率的同时，在超宽频带内实现电磁波的吸收和RCS的降低，同时具有极化不敏感、低剖面的优异特性以及良好的角度稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体
本专利技术属于电磁波和新型人工电磁材料领域。
技术介绍
微波吸收体可以有效吸收入射电磁波并使其散射衰减而不会产生二次污染，被广泛应用于衰减雷达回波强度、电磁兼容、微波暗室等国防军工和民用
之中，而且大多数的应用都对宽频带吸收有强烈需求。典型微波吸收体Salisbury屏吸收强但吸收频带很窄，为进一步拓宽吸收频带，通过多层结构设计得到Jaumann屏，但是增加了厚度。新型人工电磁超材料吸波体，通常由亚波长周期导电图案层，中间介质及接地表面构成，可设计性很强，更容易实现同时兼顾低剖面，宽频带下的强吸收等优异性能。通过合适的介质层材料、导电层材料及人工结构的设计，可以得到光学波段透明的超材料吸波体，能够满足在飞机座舱，高速公路的自动收费系统(ETC)，无线通信等应用的需求。例如，T.Jang,H.Youn,Y.J.Shin,andL.J.Guo于2014年在ACSPhotonics期刊第一期第279-284页公开了"TransparentandFlexibl本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体，其特征在于它自上而下依次由图案化阻抗膜层、第一透明基体、中间透明介质层、第二透明基体及透明导电薄膜组成；/n所述的图案化阻抗膜层厚度为0.01μm～3μm；所述的第一透明基体及第二透明基体厚度均为0.05mm～2mm；所述的中间透明介质层厚度为1mm～8mm；所述的透明导电薄膜厚度为0.01μm～3μm；/n所述的图案化阻抗膜层由阵列的N×M个透明图案化阻抗膜单元组成；所述的N≥12列，所述的M≥12行，且相邻透明图案化阻抗膜单元之间的最小距离为0.1mm～5mm；/n所述的透明图案化阻抗膜单元的形状为1个位于中央的大圆和周围均匀分布...

【技术特征摘要】
1.一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体，其特征在于它自上而下依次由图案化阻抗膜层、第一透明基体、中间透明介质层、第二透明基体及透明导电薄膜组成；
所述的图案化阻抗膜层厚度为0.01μm～3μm；所述的第一透明基体及第二透明基体厚度均为0.05mm～2mm；所述的中间透明介质层厚度为1mm～8mm；所述的透明导电薄膜厚度为0.01μm～3μm；
所述的图案化阻抗膜层由阵列的N×M个透明图案化阻抗膜单元组成；所述的N≥12列，所述的M≥12行，且相邻透明图案化阻抗膜单元之间的最小距离为0.1mm～5mm；
所述的透明图案化阻抗膜单元的形状为1个位于中央的大圆和周围均匀分布的4个小圆交叠而成；所述的大圆直径为4mm～10mm；所述的小圆直径为1mm～5mm；所述的大圆与小圆圆心之间的距离为2mm～8mm。


2.根据权利要求1所述的一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体，其特征在于所述的中间透明介质层的材质为透明高分子和透明无机材料中的一种或两种。


3.根据权利要求1所述的一种可见光透过的极化不敏感的低RCS超宽带超材料吸波体，其特征在于所述的中间透明介质层为空气，具体为以透明复合材料制备四周支撑架，以第一透明基体为上顶，以第二透明基体为下底，内部填充空气。


4.根据权利要求3所述的一种可见光...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨磊，闵萍萍，朱嘉琦，宋梓诚，张智博，张昕宇，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙;23