一种金属蒸发料的表面处理方法技术

本发明专利技术提供了一种金属蒸发料的表面处理方法，所述方法包括以下步骤：将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗；将超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗，酸洗所用酸洗液为无机混合酸；将酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。本发明专利技术所述方法通过对金属蒸发料依次进行超声波清洗、酸洗，可有效去除蒸发料表面的杂质和氧化层，提高蒸发料的洁净度及纯度，纯度可达99.99％以上，有助于镀膜性能的提高；所述方法对于不同种类、形状的蒸发料均可适用，所述方法操作简单，易于工业化，所得产品合格率高。

【技术实现步骤摘要】
一种金属蒸发料的表面处理方法
本专利技术属于半导体制备
，涉及一种金属蒸发料的表面处理方法。
技术介绍
随着集成电路产业的快速发展，半导体电子器件的需求量也日益增加，镀膜材料是半导体电子器件制造的重要材料，而镀膜材料的重要制备方法之一是物理气相沉积法(PVD)。物理气相沉积是一种在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材或蒸发料蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。目前，PVD技术是半导体芯片制造业、太阳能行业、液晶显示屏制造业等多种行业的核心技术。PVD技术主要包括溅射技术和蒸发镀膜技术，其中后者常用的原料即为蒸发料，由于蒸发镀膜技术具有污染程度小的优点，应用范围越发广泛。而由于半导体器件精细化程度的日益提高，对镀膜材料的性能越发严格，这就需要提高镀膜蒸发料的纯度，降低杂质含量，以有助于高性能膜材料的制备。CN108987273A公开了一种银蒸发料的表面处理方法，依次包括提供银蒸发料、对所述银蒸发料进行离心研磨操作、对所述银蒸发料进行清洗操作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属蒸发料的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：/n(1)将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗；/n(2)将步骤(1)超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗，酸洗所用酸洗液为无机混合酸；/n(3)将步骤(2)酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种金属蒸发料的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
(1)将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗；
(2)将步骤(1)超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗，酸洗所用酸洗液为无机混合酸；
(3)将步骤(2)酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。


2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述金属蒸发料包括铝蒸发料、铜蒸发料或钛蒸发料中任意一种或至少两种的组合；
优选地，所述金属蒸发料的形状包括球形、圆柱形、棱柱形或片状中任意一种或至少两种的组合。


3.根据权利要求1或2所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述有机溶剂包括清洗油和异丙醇；
优选地，所述超声波清洗为先采用清洗油进行清洗，再采用异丙醇进行清洗；
优选地，所述清洗油包括煤油、汽油或柴油中任意一种或至少两种的组合；
优选地，步骤(1)所述超声波清洗所用超声波的频率为40～100kHz；
优选地，步骤(1)所述超声波清洗中，采用清洗油清洗和采用异丙醇清洗的时间独立地为3～8min。


4.根据权利要求1-3任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述采用有机溶剂清洗后，再采用水进行超声波清洗；
优选地，采用水进行超声波清洗时所用超声波的频率为40～80kHz，清洗时间为2～6min。


5.根据权利要求1-4任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述无机混合酸包括硝酸、氢氟酸和硫酸；
优选地，所述硝酸、氢氟酸和硫酸的摩尔比为1:(2～4):(1.5～3)；
优选地，所述无机混合酸的总浓度为4～12mol/L。


6.根据权利要求1-5任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述酸洗的温度为35～45℃；
优选地，步骤(2)所述酸洗的时间为5～15min；
优选地，步骤(2)所述酸洗过程酸洗液中通入气体；
优选地，所述气体为保护性气体，包括氮气和/或惰性气体；
优选地，所述气体的压力为0.05～0.12MPa。

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，边逸军，王学泽，杨恕鉴，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33