沉积掩模和制造该沉积掩模的方法技术

提供了一种沉积掩模和制造该沉积掩模的方法。所述制造沉积掩模的方法包括：制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上形成有牺牲层图案的一个表面，并且包括被牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被牺牲层图案暴露的多个暴露区域；通过朝向掩模目标基底发射激光在掩模目标基底的暴露区域中形成孔；以及去除牺牲层图案，其中，牺牲层图案具有针对激光的比掩模目标基底的反射率高的反射率。

【技术实现步骤摘要】
沉积掩模和制造该沉积掩模的方法本申请要求于2018年12月27日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0170875号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
公开涉及一种沉积掩模和制造该沉积掩模的方法。
技术介绍
作为下一代显示装置且作为具有诸如宽视角、高对比度和快响应速度的期望特性的自发光显示装置，有机发光显示(“OLED”)装置备受关注。这样的OLED装置通常包括至少包含在对电极之间的发光层的中间层。电极和中间层可以使用各种方法(例如，沉积方法)形成。
技术实现思路
公开的实施例提供了一种具有改善的制造工艺效率的制造沉积掩模的方法。公开的实施例还提供了一种使用具有改善的制造工艺效率的制造沉积掩模的方法制造的沉积掩模。根据公开的实施例，一种制造沉积掩模的方法包括：制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上设置有牺牲层图案的表面，并且包括被牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被牺牲层图案暴露的多个暴露区域；通过朝向掩模目标基底发射激光而在掩模目标基底的暴露区域中形成孔；以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：/n制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上设置有牺牲层图案的表面，并且包括被所述牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被所述牺牲层图案暴露的多个暴露区域；/n通过朝向所述掩模目标基底发射激光在所述掩模目标基底的所述多个暴露区域中形成孔；以及/n将所述牺牲层图案去除，/n其中，所述牺牲层图案的针对所述激光的反射率比所述掩模目标基底的针对所述激光的反射率高。/n

【技术特征摘要】
20181227 KR 10-2018-01708751.一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：
制备掩模目标基底，所述掩模目标基底具有其上设置有牺牲层图案的表面，并且包括被所述牺牲层图案覆盖的覆盖区域和被所述牺牲层图案暴露的多个暴露区域；
通过朝向所述掩模目标基底发射激光在所述掩模目标基底的所述多个暴露区域中形成孔；以及
将所述牺牲层图案去除，
其中，所述牺牲层图案的针对所述激光的反射率比所述掩模目标基底的针对所述激光的反射率高。


2.如权利要求1所述的方法，其中，制备所述掩模目标基底的步骤包括设置所述牺牲层图案，使得所述掩模目标基底的所述覆盖区域完全围绕所述掩模目标基底的所述多个暴露区域中的每个。


3.如权利要求2所述的方法，其中，通过朝向所述掩模目标基底发射所述激光在所述掩模目标基底的所述多个暴露区域中形成所述孔的所述步骤包括朝向所述掩模目标基底的所述覆盖区域部分地发射所...

【专利技术属性】
技术研发人员：金辉，金仁培，任星淳，黄圭焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR