一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置制造方法及图纸

为了解决现有技术中反应磁控溅射旋转阴极表面中毒后均采用手砂轮磨光机手工表面抛磨的问题，本实用新型专利技术提供一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置，包括高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶锁定机构、旋转阴极靶升降机构、以及触控全自动系统；其中，所述的触控全自动系统与高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶升降机构、旋转阴极靶锁定机构分别电连接，用于控制反应溅射阴极中毒靶材通过旋转阴极靶升降机构调整高度，再通过旋转阴极靶升降机构与旋转阴极靶的轴线重合，利用旋转阴极靶锁定位置后，通过高速千叶磨轮Z轴升降机构带动高速千叶磨轮进行打磨。本实用新型专利技术结构简单，效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置
本技术涉及磁控溅射镀膜
，尤其涉及反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜是利用磁场的洛伦兹力束缚和延长电子在电场中的运动轨迹来实现阴极物质迁移的一种镀膜技术。反应磁控溅射是在溅射镀膜过程中人为控制引入某些活性反应气体如O2、N2等与溅射出来的阴极靶材物质进行反应沉积在基片表面而获得化合物薄膜。溅射反应过程不仅发生在基片表面也会发生在阴极靶表面，因此随着阴极靶表面沉积氧化物粒子的不断增加而集成粒子团结瘤，即阴极靶中毒，靶面出现打火现象，等离子体很难维持稳定，反应溅射镀膜终止。恢复旋转阴极中毒靶材的重新使用其基本条件就是恢复阴极靶表面的光洁度，物理抛磨方法去除中毒结瘤是目前普遍采用的一种旋转阴极靶表面处理方法。反应溅射镀膜发生阴极靶中毒之后、通常人们都是采用手砂轮磨光机对旋转阴极靶表面实施手工表面处理，处理一对阴极靶耗时超过一小时，而且表面划伤、凹坑、局部漏磨等不良表面缺陷很难避免，严重影响反应溅射等离子体的持读稳定性。通过本技术反应磁控溅射旋转阴极靶中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置，其特征在于，包括高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶锁定机构、旋转阴极靶升降机构、以及触控全自动系统；其中，所述的触控全自动系统与高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶升降机构、旋转阴极靶锁定机构分别电连接，用于控制反应溅射阴极中毒靶材通过旋转阴极靶升降机构调整高度，再通过旋转阴极靶升降机构与旋转阴极靶的轴线重合，利用旋转阴极靶锁定位置后，通过高速千叶磨轮Z轴升降机构带动高速千叶磨轮进行打磨。/n

【技术特征摘要】
1.一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置，其特征在于，包括高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶锁定机构、旋转阴极靶升降机构、以及触控全自动系统；其中，所述的触控全自动系统与高速千叶磨轮Z轴升降机构、Y轴导入机构、旋转阴极靶升降机构、旋转阴极靶锁定机构分别电连接，用于控制反应溅射阴极中毒靶材通过旋转阴极靶升降机构调整高度，再通过旋转阴极靶升降机构与旋转阴极靶的轴线重合，利用旋转阴极靶锁定位置后，通过高速千叶磨轮Z轴升降机构带动高速千叶磨轮进行打磨。


2.根据权利要求1所述的一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置，其特征在于，该高速千叶磨轮Z轴升降机构包括Z轴升降伺服电机(1)，Z轴升降螺旋丝杠(15)，升降螺旋丝母(14)，平衡升降滑杠(6)，第一升降平衡直线轴承(7)，螺旋丝杠上端轴承(4)、螺旋丝杠下端压力轴承(20)，Z轴升降下限减震弹簧(9)，高速千叶磨轮(18)以及高速电机(8)；
其中，Z轴升降伺服电机(1)通过第一联轴器(17)与升降螺旋丝杠(15)联动，升降螺旋丝杠(15)通过上定位轴承(2)和螺旋丝杠下端压力轴承(20)垂直设置在Z轴升降机构架(16)的上固定(5)和下固定板(10)的前立面，两个平衡升降滑杠(6)与升降螺旋丝杠(15)平行对称设置于一个垂直面上；Z轴升降下限减震弹簧(9)设置在升降滑杠(6)的下端，高速电机(8)通过电机底座(13)、升降螺旋丝母(14)和电机底座(13)背面设置的第一升降平衡直线轴承(7)共同构成Z轴升降位移体。


3.根据权利要求1所述的一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理装置，其特征在于，该Y轴导入机构包括Y轴导入伺服电机(77)，Y轴导入螺旋丝杠(73)，Y轴导入螺旋丝母(66)，Y轴导入平衡滑杠(74)，第一平衡位移直线轴承(63)，螺旋丝杠轴承(72)以及位移底座(67)；其中，Y轴导入伺服电机(77)通过第二联轴器(75)与Y轴导入螺旋丝杠(73)联动，Y轴导入螺旋丝母(66)和第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈江民，
申请(专利权)人：河南卓金光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41