【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及一种基板处理装置,特别是涉及一种适于在同时处理多张基板的装置中使用的技术。
技术介绍
作为加热处理等的基板处理装置,已知有在盒内以水平多段方式载置平板状的基板且在密闭腔室内同时处理多张基板的装置(专利文献1)。为了向盒的各段分别运入一张基板,这种装置具备在腔室内使盒上下移动的升降机构。作为升降机构,已知有具有升降轴和驱动机构的机构,其中,该升降轴从盒的底部连接到下方且沿铅直方向延伸并贯通腔室底部,该驱动机构沿铅直方向驱动升降轴并设置于腔室外。在基板处理装置的维护等之际从腔室内取出盒时,例如在使腔室上部的作为顶棚部分的盖部向上方移动以使腔室相对于外部设为开放状态之后取出盒。为了向腔室外取出盒,该盒沿水平方向移动至俯视时盒外的位置。此时,需要使安装在盒的底部上的升降轴与腔室的侧部(侧壁部)不抵接。因此,需要使盒上升以使升降轴的下端位于比腔室的侧部(侧壁部)的上端更靠上侧位置之后,沿水平方向移动盒。在用于制造半导体或者用于制造液晶显示器或有机EL显示器等的平板显示 ...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置,具有:以多段方式收纳多张基板的盒;能够密闭地收纳所述盒的腔室;和用于使所述盒在所述腔室内升降的升降机构,所述腔室具有顶棚部、底部和侧部,并且被分割为上腔室和下腔室且以平面状环设有相互成为密封面的凸缘部,所述凸缘部以至少比所述顶棚部更靠下侧的部分成为分割位置的方式倾斜配置。/n
【技术特征摘要】
20181227 JP 2018-2449781.一种基板处理装置,具有:以多段方式收纳多张基板的盒;能够密闭地收纳所述盒的腔室;和用于使所述盒在所述腔室内升降的升降机构,所述腔室具有顶棚部、底部和侧部,并且被分割为上腔室和下腔室且以平面状环设有相互成为密封面的凸缘部,所述凸缘部以至少比所述顶棚部更靠下侧的部分成为分割位置的方式倾斜配置。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述凸缘部以成为所述底部与所述侧部之间边界位置的一部分的方式倾斜配置。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述凸缘部以成为所述顶棚部与所述侧部之间边界位置的一部分的方式倾斜配置。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置,其中,
在所述下腔室上设置有导向部,所述导向部在所述上腔室相对于所述下腔室移动时引导所述上腔室,所述导向部具...
【专利技术属性】
技术研发人员:江藤谦次,阿部洋一,龟崎厚治,
申请(专利权)人:株式会社爱发科,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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