一种OLED array制程用正性光刻胶制造技术

本发明专利技术公开了一种OLED array制程用正性光刻胶，其包括混合酚醛树脂、光敏剂、溶剂、剂添加、流平剂；所述混合酚醛树脂包括2,4‑二甲基苯酚占比60～70％、3,5‑二甲基苯酚占比10～30％、2,6‑二甲基苯酚占比10～30％，所述2,4‑二甲基苯酚的分子量为3000～4000，所述3,5‑二甲基苯酚的分子量为2000～3000；所述光敏剂的结构式为：

【技术实现步骤摘要】
一种OLEDarray制程用正性光刻胶
本专利技术属于一种用于OLED行业用array制程用正性光刻胶，主要使用于目前主流OLED行业中光刻使用。
技术介绍
array制程用正性光刻胶主要应用于OLED显示屏制造领域，具体包括智能手机及VR领域。2016年以来液晶显示市场日益成熟，同质化竞争日趋激烈，随着OLED面板在智能手机的应用不断深入，OLED市场在销量和应用上实现了快速突破。包括智能手机市、电视面板、智能可穿戴设备、平板电脑、AR/VR、车载面板等领域对OLED屏幕需求较大，加剧了OLED面板供不应求的状况。凭借出色的视觉体验和低能耗性能等优势，OLED引领了新一波3C产品显示革命。光刻胶是光刻工艺的核心材料，由感光剂、成膜树脂、溶剂与助剂这四种主要成分组成的对光敏感的混合体，是利用光化学反应经曝光、显影、蚀刻等工艺将所需要的细微图形从掩膜版转移到待加工衬底的图形转移介质，通过曝光其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。光刻胶材料的成本只占半导体制造工序材料的3∽5％，但是光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、产品率和可靠性的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED array制程用正性光刻胶，其特征在于：其包括混合酚醛树脂、光敏剂、溶剂、剂添加、流平剂；所述混合酚醛树脂包括2,4-二甲基苯酚占比60～70％、3,5-二甲基苯酚占比10～30％、2,6-二甲基苯酚占比10～30％，所述2,4-二甲基苯酚的分子量为3000～4000，所述3,5-二甲基苯酚的分子量为2000～3000；所述光敏剂的结构式为：/n

【技术特征摘要】
1.一种OLEDarray制程用正性光刻胶，其特征在于：其包括混合酚醛树脂、光敏剂、溶剂、剂添加、流平剂；所述混合酚醛树脂包括2,4-二甲基苯酚占比60～70％、3,5-二甲基苯酚占比10～30％、2,6-二甲基苯酚占比10～30％，所述2,4-二甲基苯酚的分子量为3000～4000，所述3,5-二甲基苯酚的分子量为2000～3000；所述光敏剂的结构式为：



其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6为C1～C6直链或支链烷基、C1～C6甲氧基、乙氧基、羧基、羟基、氧代、芳香基、硝基中的一种或多种；A、B是独立的且包含有甲氧基、乙氧基、氧原子中一种或多种的混合物。


2.如权利要求1所述的OLEDarray制程用正性光刻胶，其特征在于：所述光敏剂在光刻胶中占比例为3～6份。


3.如权利要求1所述的OLEDarray制程用正性光刻胶，其特征在于：所述混合酚醛树脂的结构为：



其中，R1、R2、R3、R4、R5是独立的包含CH3、H或者OH的一种或者多种混合物，分子量为200...

【专利技术属性】
技术研发人员：卞玉桂，张兵，向文胜，赵建龙，陈小华，朱坤，陆兰，顾群艳，
申请(专利权)人：艾森半导体材料南通有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32