正型光敏树脂组合物和由其制备的固化膜制造技术

技术编号:24408043 阅读:56 留言:0更新日期:2020-06-06 07:57
本发明专利技术涉及一种光敏树脂组合物和一种由其制备的固化膜。所述正型光敏树脂组合物包含丙烯酸类共聚物,其具有可以在聚合物中自由旋转的官能团,由此所述组合物能够进一步增强敏感性。

Positive photosensitive resin composition and cured film prepared from it

【技术实现步骤摘要】
正型光敏树脂组合物和由其制备的固化膜
本专利技术涉及一种光敏树脂组合物和一种由其制备的固化膜。更具体地,本专利技术涉及一种提供优异的敏感性的正型光敏树脂组合物,以及一种由其制备的待用于液晶显示器、有机EL显示器等中的固化膜。
技术介绍
在如薄膜晶体管(TFT)型液晶显示装置的显示装置中,例如由氮化硅制成的无机保护膜已经用作用于保护和绝缘TFT电路的保护膜。然而,因为此种无机保护膜由于其高介电常数而具有难以增强开口率的问题,所以对于具有低介电常数的有机绝缘膜的需求正在增加以便解决该问题。通常使用光敏树脂,其为与光和电子束化学反应以改变其对特定溶剂的溶解度的聚合物化合物。取决于在显影期间暴露部分的溶解度,光敏树脂被分为正型和负型。在正型中,暴露部分被显影剂溶解以形成图案。在负型中,暴露部分未被显影剂溶解,而未暴露部分被溶解以形成图案。因为正型有机绝缘膜与负型有机绝缘膜相比不具有光固化因素,因此它具有难以确保敏感性和与底层膜(underlyingfilm)的粘附的缺点。因此,已经提出了一种光敏树脂组合物和一种由其制备的固化膜,其中一起使用了聚硅氧烷树脂和丙烯酸树脂,从而具有优异的敏感性和粘附性(参见日本专利号5,099,140)。然而,敏感性还并未改善至令人满意的水平。
技术实现思路
技术问题因此,为了解决上述问题,本专利技术的目的在于提供一种正型光敏树脂组合物,其包含聚硅氧烷树脂和丙烯酸树脂,其中可以通过将可以在聚合物中自由旋转的官能团引入丙烯酸类共聚物中来进一步增强敏感性;以及一种由其制备的待用于液晶显示器、有机EL显示器等中的固化膜。问题的解决方案为了实现以上目的,本专利技术提供了一种正型光敏树脂组合物,其包含(A)丙烯酸类共聚物;(B)硅氧烷共聚物;以及(C)1,2-醌二叠氮化合物,其中所述丙烯酸类共聚物(A)包含由以下式1表示的结构单元(a-1):[式1]在上式1中,R1是C1-4烷基。为了实现另一个目的,本专利技术提供了一种由所述正型光敏树脂组合物制备的固化膜。本专利技术的有益效果根据本专利技术的正型光敏树脂组合物包含丙烯酸类共聚物,其具有可以在聚合物中自由旋转的官能团,由此在显影步骤期间所述组合物容易地被溶解于显影剂,从而增强敏感性。实施本专利技术的最佳方式本专利技术的正型光敏树脂组合物包含(A)丙烯酸类共聚物;(B)硅氧烷共聚物;以及(C)1,2-醌二叠氮化合物,其中所述丙烯酸类共聚物(A)包含由以下式1表示的结构单元(a-1):[式1]在上式1中,R1是C1-4烷基。如本文中使用的,术语“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基”和/或“甲基丙烯酰基”,并且术语“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和/或“甲基丙烯酸酯”。通过凝胶渗透色谱法(GPC,洗脱液:四氢呋喃)参照聚苯乙烯标准品测量如下所述的各组分的重均分子量(克/摩尔,Da)。(A)丙烯酸类共聚物根据本专利技术的正型光敏树脂组合物可以包含丙烯酸类共聚物(A)。丙烯酸类共聚物(A)可以包含由以下式1表示的结构单元(a-1):[式1]在上式1中,R1是C1-4烷基。具体地,结构单元(a-1)中的官能团可以在聚合物中自由旋转,这允许显影液在显影期间渗透。因此,在暴露于光后,涂膜在显影期间更容易地显影,从而确保优异的敏感性。结构单元(a-1)的含量可以是基于丙烯酸类共聚物(A)的总重量的1至30重量%、优选2至20重量%。在以上范围内,有可能获得具有优异敏感性的涂膜的图案。丙烯酸类共聚物(A)可以进一步包含由以下式1-1表示的结构单元(a-2):[式1-1]在上式1-1中,Ra和Rb各自独立地是C1-4烷基。由于丙烯酸类共聚物(A)同时包含结构单元(a-1)和结构单元(a-2),因此在维持膜保留率的同时改善敏感性是有利的。结构单元(a-1)和结构单元(a-2)可以具有1:99至80:20的含量比、优选5:95至40:60的含量比。在以上范围内,在维持膜保留率的同时改善敏感性是有利的。丙烯酸类共聚物(A)是在显影步骤中实现显影性的碱溶性树脂,并且还起到涂覆时用于形成膜的基材和用于形成最终图案的结构的作用。丙烯酸类共聚物(A)可以进一步包含衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元(a-3)。具体地,结构单元(a-3)可以衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合。烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合是在分子中含有至少一个羧基的可聚合不饱和化合物。它可以是选自以下项中的至少一种:不饱和单羧酸,如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、α-氯代丙烯酸和肉桂酸;不饱和二羧酸及其酸酐,如马来酸、马来酸酐、富马酸、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐和中康酸;具有三价或更高价的不饱和多羧酸及其酸酐;以及二价或更高价的多羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯,如单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]琥珀酸酯、单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]邻苯二甲酸酯等。但它并不限于此。从显影性的观点来看,优选以上中的(甲基)丙烯酸。结构单元(a-3)的含量可以是基于丙烯酸类共聚物(A)的总重量的5至30重量%。在以上范围内,有可能获得具有良好显影性的涂膜的图案。丙烯酸类共聚物(A)可以进一步包含衍生自不同于结构单元(a-1)、(a-2)和(a-3)的烯键式不饱和化合物的结构单元(a-4)。不同于结构单元(a-1)、(a-2)和(a-3)的烯键式不饱和化合物可以是选自下组的至少一种,所述组由以下组成:具有芳族环的烯键式不饱和化合物,如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯、氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、碘苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、丙氧基苯乙烯、对羟基-α-甲基苯乙烯、乙酰基苯乙烯、乙烯基甲苯、二乙烯基苯、乙烯基苯酚、邻乙烯基苄基甲醚、间乙烯基苄基甲醚和对乙烯基苄基甲醚;不饱和羧酸酯,如(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、α-羟甲基丙烯酸甲酯、α-羟甲基丙烯酸乙酯、α-羟甲基丙烯酸丙酯、α-羟甲基丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种正型光敏树脂组合物,其包含:/n(A)丙烯酸类共聚物;/n(B)硅氧烷共聚物;和/n(C)1,2-醌二叠氮化合物,/n其中所述丙烯酸类共聚物(A)包含由以下式1表示的结构单元(a-1):/n[式1]/n

【技术特征摘要】
20181129 KR 10-2018-01506691.一种正型光敏树脂组合物,其包含:
(A)丙烯酸类共聚物;
(B)硅氧烷共聚物;和
(C)1,2-醌二叠氮化合物,
其中所述丙烯酸类共聚物(A)包含由以下式1表示的结构单元(a-1):
[式1]



在上式1中,R1是C1-4烷基。


2.如权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,所述丙烯酸类共聚物(A)进一步包含由以下式1-1表示的结构单元(a-2):
[式1-1]



在上式1-1中,Ra和Rb各自独立地是C1-4烷基。


3.如权利要求2所述的正型光敏树脂组合物,其中,所述结构单元(a-1)和所述结构单元(a-2)具有1:99至80:20的含量比。


4.如权利要求1所述的正型光敏树脂组合物,其中,所述丙烯酸类共聚物(A)包含基于所述丙烯酸类共聚物(A)的总重量5至30重量%的量的衍生自烯键式不饱和羧酸、烯键式不饱和羧酸酐或其组合的结构单元(a-3)。


5.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:金莲玉许槿郑周永梁钟韩
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料韩国有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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