一种型号为ELEMENT GD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台制造技术

本实用新型专利技术属于辉光放电质谱法测试技术领域，尤其是涉及一种型号为ELEMENT GD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台。包括高纯铜样品台本体，所述的高纯铜样品台本体上开有凹槽，所述的凹槽中设有焊锡。优点在于：通过在高纯铜本体开设凹槽，凹槽中放入适量焊锡，可以使小尺寸样品固定在高纯铜样品上，焊锡不会露出样品的下表面，避免了测试时焊锡对样品的影响。

An element GD glow discharge mass spectrometer is used to test small samples

【技术实现步骤摘要】
一种型号为ELEMENTGD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台
本技术涉及辉光放电质谱仪测试
，尤其是涉及一种型号为ELEMENTGD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台。
技术介绍
辉光放电质谱法（GDMS）被认为是目前对固体导电材料直接进行痕量及超痕量元素分析的最有效的手段。由于其可以直接固体进样，近20年来已广泛应用于高淳金属、合金等材料的分析。GDMS不仅具有优越的检测限和宽动态线性范围的优点，而且样品制备简单、元素间灵敏度差异小、基体效应低。GDMS以期优越的分析性能在电子学、化学、冶金、地质以及科学等领域里得到广泛应用，在高纯金属和半导体材料分析中已经显示出它的优越性，发展前景十分广阔。美国热电产型号为ELEMNETGD的辉光放电质谱仪对样品的尺寸有严格的要求，块状样品的测试面直径要20mm~50mm之间，而溅射面只有10mm，所以块状样品直径在10mm~20mm之间的样品则无法测试。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述问题，提供一种设计合理，结构简单，适用于直径在10mm~20mm之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种型号为ELEMENT GD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台，其特征在于：由高纯铜样品台本体(1)和焊锡(3)组成，高纯铜样品台本体(1)上开有凹槽(2)，焊锡(3)置于凹槽(2)内；高纯铜样品台本体(1)表面的直径为25mm～50mm，高度为5mm～20mm；凹槽(2)为圆柱形凹槽，直径>20mm，深度≥3mm。/n

【技术特征摘要】
1.一种型号为ELEMENTGD辉光放电质谱仪测试小尺寸样品用样品台，其特征在于：由高纯铜样品台本体(1)和焊锡(3)组成，高纯铜样品台本体(1)上开有凹槽(2)，焊锡(3)置于凹槽(2)内；高纯铜样品台本体(1)表面的直径为25mm～50mm，高度为5...

【专利技术属性】
技术研发人员：李建德，高丽荣，徐艳艳，赵秀芳，王小虎，张意，丰丹丹，蒋丽微，张鹏，张誉文，
申请(专利权)人：国家硅材料深加工产品质量监督检验中心东海研究院，
类型：新型
国别省市：江苏;32