一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法技术

本发明专利技术为一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法。一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法，包括：S10：采用辉光放电质谱法检测高纯铝粉中各元素及其含量；S20：将氧化石墨烯进行干燥预处理、研磨后，加入高纯铝粉再进行研磨，混合均匀后，得样品；S30：将所述的样品采用步骤S10的辉光放电质谱法进行检测，获得检测数据，经过定量分析获得氧化石墨烯中杂质元素及其含量。本发明专利技术通过使用掺杂法，将氧化石墨烯掺入到高纯铝粉中进行GDMS检测，对待样品进行预处理，使其更易于被溅射扩散到等离子体中，解决因GDMS对C/O元素探测极限较差导致的检测误差较大的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法
本专利技术属于氧化石墨烯检测的
，具体涉及一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法。
技术介绍
石墨烯(Graphene)是一种由碳原子构成的单原子厚度的新材料，理想的石墨烯材料具有高透光率、超高载流子迁移率、高比表面积、极高的层内热导率和极高的杨氏模量等多种优良特征，已迅速成为材料科学、物理学、化学等多领域的研究热点。研究人员将石墨烯加入到待改善的基体中，通过石墨烯的优良特性提高基体性能，杂质元素是影响石墨烯自身品质及基体增强效果的关键因素。因此，如何对石墨烯中杂质元素进行有效地分析和测定，也是石墨烯新材料的重要研究工作。中国航发北京航空材料研究院采用电感耦合等离子光谱仪测定氧化石墨烯中锰、硅和钾元素的分析方法，该技术采用电炉阶梯式升温-马弗炉灼烧-酸溶氧化物的样品处理方法，通过溶解条件试验，共存元素干扰试验，工作曲线线性试验确定了最佳分析线，提高了测量的准确度。该方法测定范围宽，锰元素检测范围0.10％～10.0％，硅元素检测范围0.05％～1.00％，钾元素检测范围0.01％～0本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS10：采用辉光放电质谱法检测高纯铝粉中各元素及其含量；/nS20：将氧化石墨烯进行干燥预处理、研磨后，加入高纯铝粉再进行研磨，混合均匀后，得样品；其中，所述的高纯铝粉与步骤S10中检测的高纯铝粉为同一批次高纯铝粉中取出的同一份样品，但未经检测；/nS30：将所述的样品采用步骤S10的辉光放电质谱法进行检测，获得检测数据，经过分析获得氧化石墨烯中杂质元素及其含量。/n

【技术特征摘要】
1.一种氧化石墨烯中杂质元素及其含量的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10：采用辉光放电质谱法检测高纯铝粉中各元素及其含量；
S20：将氧化石墨烯进行干燥预处理、研磨后，加入高纯铝粉再进行研磨，混合均匀后，得样品；其中，所述的高纯铝粉与步骤S10中检测的高纯铝粉为同一批次高纯铝粉中取出的同一份样品，但未经检测；
S30：将所述的样品采用步骤S10的辉光放电质谱法进行检测，获得检测数据，经过分析获得氧化石墨烯中杂质元素及其含量。


2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，
所述的步骤S20中，干燥预处理为：将氧化石墨烯在真空下干燥4-12h。


3.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，
所述的干燥预处理温度为50-500℃，真空度为-0.10MPa。


4.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，
所述的步骤S20中，将氧化石墨烯进行干燥预处理，研磨10-30min后，加入高纯铝粉再研磨30-60min，混合均匀后，得样品。


5.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，
所述的步骤S20中，氧化石墨烯和高纯铝粉的质量比为0.03-0.5：0.3-10。


6.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，
所述的步骤S10和步骤S30中的辉光放电质谱检测的条件相同。


7.根据权利要求6所述的检测方法，其特征在于，
所述的步骤S10和步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁娜，王秀娟，杨新伟，卢科伟，肖丽梅，张丽娟，丁继鸿，钟小勇，
申请(专利权)人：新疆烯金石墨烯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：新疆;65