滚筒清洁装置及应用此滚筒清洁装置的涂布机制造方法及图纸

技术编号:2474683 阅读:252 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种滚筒清洁装置及应用此滚筒清洁装置的涂布机。此一滚筒清洁装置至少包括浸泡槽与清洁滚筒。浸泡槽中容置有清洁溶剂,而清洁滚筒与涂布滚筒平行接触且两者均部分浸泡于清洁溶剂液面下。通过旋转作用,涂布滚筒的表面连续地通过清洁溶剂,进行第一道清洁程序,接着在与清洁滚筒平行接触部分产生擦拭作用,进行第二道清洁程序。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滚筒清洁装置,尤其涉及一种涂布机的滚筒清洁装置 及应用此滚筒清洁装置的涂布机。
技术介绍
滚筒式涂布机应用的层面非常的广泛,从传统产业至高科技产业均能够看 到滚筒式涂布机的应用,例如传统印刷业的滚筒式印刷机以及技术密集的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业的光刻胶涂布机。以下以薄膜晶体管液晶显示器产业为例。鉴于薄膜晶体管液晶显示器具有 省电、轻薄与低辐射等优点,故薄膜晶体管液晶显示器已经成为显示器产业的 主流产品。在追求最低成本最高获利的经济原则下,薄膜晶体管液晶显示器有 往大尺寸发展的趋势,而为因应此一趋势伴随而来的玻璃基板光刻胶涂布问 题,光刻胶涂布机也须加以改进调整。因此,在光刻胶涂布机的演进上,光刻 胶涂布机由以往适用于小尺寸液晶显示器的旋转式涂布机演变成适用于次世 代液晶显示器的滚筒式光刻胶涂布机。在滚筒式光刻胶涂布机中,用以涂布光刻胶的涂布滚筒于使用一段时间 后,容易在涂布滚筒表面沾附杂质而形成印痕,进而造成后续液晶显示器玻璃 基板产生光刻胶涂布不均(也即光刻胶涂布膜厚不均)等非预期的缺陷,故必须 针对涂布滚筒进行清洁的动作。请参照图l,其为一般针对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滚筒清洁装置,用以清洁一涂布滚筒,其特征在于,该滚筒清洁装置至少包括:    一浸泡槽,容置有一清洁溶剂于该浸泡槽中,该涂布滚筒可转动且水平置放于该浸泡槽之上,且该涂布滚筒的一部分浸泡于该浸泡槽中的该清洁溶剂的液面下;以及    一清洁滚筒,可转动且水平置放于该浸泡槽之上,该清洁滚筒的一部分浸泡于该浸泡槽中的该清洁溶剂的液面下,且该清洁滚筒与该涂布滚筒平行接触。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:薛金水锺明轩赖铭鉴王建国
申请(专利权)人:东捷科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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