【技术实现步骤摘要】
一种具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器及制作工艺
本申请涉及通信器件领域,主要涉及一种具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器及制作工艺。
技术介绍
随着电磁频谱的日益拥挤、无线通讯设备的频段与功能增多,无线通讯使用的电磁频谱从500MHz到5GHz以上高速增长,对性能高、成本低、功耗低、体积小的射频前端模块需求日益增长。外界电磁波的日益拥挤,会严重干扰器件的正常工作。射频终端产品内部空间小、各模块高度集中的特点,易造成器件间相互电磁干扰。为保障射频产品正常有效工作,需屏蔽外界EM(电磁)源与内部其他模块EM源干扰。滤波器是射频前端模块之一,可改善发射和接收信号,主要由多个谐振器通过拓扑网络结构连接而成。BAW(BulkAcousticWave)是一种体声波谐振器,由BAW组成的滤波器具有体积小、集成能力强、高频工作时保证高品质因素Q、功率承受能力强等优势而作为射频前端的核心器件。SMR(SolidlyMountedResonator)属BAW器件类型之一,现有技术中的SMR器件本身没有电磁屏蔽层,在使用过程中需要额外增加电磁屏蔽设备,使得滤波器的器件尺寸增大、性能受到影响。另外,现有的SMR器件结构中的上电极、压电层与下电极不具有良好的C轴择优取向,因此影响SMR器件的性能和品质因素。本专利技术旨在设计一种新型的SMR结构及制作工艺,使器件既具有BAW的优良特性,又具有屏蔽外界与内部电磁干扰的特性。
技术实现思路
针对上述提到的固态装配谐振器不具有电磁屏蔽功能,且上电极层、压电层与 ...
【技术保护点】
1.一种具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,包括衬底、形成在所述衬底上的声波反射层以及形成在所述声波反射层上的谐振功能层,其特征在于,所述谐振器还包括形成在所述衬底上的金属屏蔽墙,所述金属屏蔽墙在所述声波反射层和所述谐振功能层的有效区域的外围形成包围圈。/n
【技术特征摘要】
1.一种具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,包括衬底、形成在所述衬底上的声波反射层以及形成在所述声波反射层上的谐振功能层,其特征在于,所述谐振器还包括形成在所述衬底上的金属屏蔽墙,所述金属屏蔽墙在所述声波反射层和所述谐振功能层的有效区域的外围形成包围圈。
2.根据权利要求1所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述声波反射层包括交替层叠的至少两组介质反射层和金属反射层的组合,并且所述谐振功能层包括依次层叠的下电极层、压电层和上电极层。
3.根据权利要求2所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述金属屏蔽墙由与所述声波反射层和所述谐振功能层同层形成的多个金属圈层叠而成。
4.根据权利要求3所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述多个金属圈中的一个分别与所述介质反射层、金属反射层、下电极层和压电层同层形成。
5.根据权利要求4所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述金属屏蔽墙的各个金属圈电气连通。
6.根据权利要求2所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述金属屏蔽墙为在所述声波反射层和所述下电极层的有效区域的外围一次形成的闭合金属墙。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述衬底与所述声波反射层之间形成有一层金属屏蔽层,所述金属屏蔽墙与所述金属屏蔽层相连接并且电气导通。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述金属屏蔽墙接地。
9.根据权利要求2所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述上电极层具有连接到外部的电极引线,并且在所述电极引线所在的位置处,所述金属屏蔽墙的高度不超出所述压电层。
10.根据权利要求1-6中任一项所述的具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器,其特征在于,所述谐振器的顶部具有覆盖所述上电极层的封装结构。
11.一种具有电磁屏蔽结构的固态装配谐振器的制造工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1,在第一衬底上制作压电层;
S2,在所述压电层上依次制作下电极层以及声波反射层,并且在所述下电极层和所述声波反射层周围制作第一金属屏蔽墙以包围所述下电极层和所述声波反射层的有效区域;
S3,在所述声波反射层所在的层上键合第二衬底;
S4,移除所述第一衬底以暴露所述压电层的背对所述下电极层的背面;
S5,对所述压电层的对应于所述第一金属屏蔽墙的部位进行蚀刻以暴露出所述第一金属屏蔽墙的至少部分;
S6,制作第二金属屏蔽墙以填充所述压电层的被蚀刻部位并且使得所述第二金属屏蔽墙与所述第一金属屏蔽墙电气连通;以及
S7,在所述压电层的所述背面上制作上电极层。
12.根据权利要求11所述的制作工艺,其特征在于,所述步骤S2具体包括以下子步骤:
S21,在所述压电层上制作所述下电极层,同时在所述下电极层的周围形成与所述下电极层同层并且包围所述下电极层的第一金属屏蔽圈;
S22,在所述下电极层所在的层上制作声波反射层,同时在所述第一金属屏蔽圈上形成与所述声波反射层同层并且包围所述声波反射层的第二金属屏蔽圈,所述第一金属屏蔽圈和所述第二金属屏蔽圈整体形成所述第一金属屏蔽墙。
13.根据权利要求12所述的制作工艺,其特征在于,所述步骤S21具体包括在所述压电层上制作第一金属层,然后通过光刻和蚀刻工艺形成所述下电极层以及围绕所述下电极层但不与所述下电极层连接的所述第一金属屏蔽圈。
14.根据权利要求12所述的制作工艺,其特征在于,所述步骤S22具体包括以下子步骤:
S221,在之前步骤所形成的层上生长...
【专利技术属性】
技术研发人员:李林萍,盛荆浩,江舟,
申请(专利权)人:杭州见闻录科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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