一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置制造方法及图纸

技术编号:24663526 阅读:63 留言:0更新日期:2020-06-27 03:43
本实用新型专利技术公开了一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,包括位于底部的精馏层、位于精馏层上方的气体导流层、位于气体导流层上方的固定层、位于固定层上方的碱液吸收层、位于碱液吸收层上方的吸附脱水层以及位于吸附脱水层上方的一氟甲烷成品气体导出层。本实用新型专利技术能够克服现有装置设备数量较多、占地面积较大、装置成本偏高的缺点。

Integrated adsorption and purification unit for the rectification of monofluoromethane

【技术实现步骤摘要】
一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置
本技术涉及气体提纯
,具体涉及一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置。
技术介绍
一氟甲烷(又称HFC-41,分子式为CH3F)是一种在常温常压下无毒、可液化的气体。由于其具有较低的温室效应潜值和零臭氧损耗潜值,是一种低温热泵的理想工质之一;同时一氟甲烷也广泛应用于半导体工业,作为等离子蚀刻材料用于蚀刻硅化合物的薄膜。目前,中国专利技术专利CN110204414A公开了一种氟甲烷的制备方法,在复合氟化催化剂的作用下,甲醇与氟化氢发生气相氟化反应,生成一氟甲烷,复合催化剂由MnO2和CrCl3负载在活性炭和AlF3的混合物上组成。该制备方法所采用的装置设备数量较多,占地也较大。
技术实现思路
本技术的专利技术目的是提供一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,用以克服现有装置设备数量较多、占地面积较大、装置成本偏高的缺点。为达到上述专利技术目的,本技术采用的技术方案是:一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,包括位于底部的精馏层、位于精馏层上方的气体导流层、位于气体导流层上方的固定层、位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,其特征在于:包括位于底部的精馏层、位于精馏层上方的气体导流层、位于气体导流层上方的固定层、位于固定层上方的碱液吸收层、位于碱液吸收层上方的吸附脱水层以及位于吸附脱水层上方的一氟甲烷成品气体导出层。/n

【技术特征摘要】
1.一种一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,其特征在于:包括位于底部的精馏层、位于精馏层上方的气体导流层、位于气体导流层上方的固定层、位于固定层上方的碱液吸收层、位于碱液吸收层上方的吸附脱水层以及位于吸附脱水层上方的一氟甲烷成品气体导出层。


2.根据权利要求1所述的一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,其特征在于:所述精馏层的侧壁上设置有混合气体进口和重组分排出口,所述混合气体进口位于重组分排出口的上方。


3.根据权利要求1所述的一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,其特征在于:所述气体导流层包括沿纵向设置的气体导流柱,所述气体导流柱的下端与精馏层连通,所述气体导流柱的上端与碱液吸收层连通。


4.根据权利要求1所述的一体式一氟甲烷精馏吸附提纯装置,其特征在于:所述固定层包括自下而上依次设置的底部固定块、中部固定块和上部固定块,所述底部固定块和中部固定块上设置有第一防挡机构,所述上部固定块...

【专利技术属性】
技术研发人员:金向华李莉许军州张红敏刘晶侯倩
申请(专利权)人:苏州金宏气体股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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