半导体光罩盒储存设备制造技术

一种半导体光罩盒储存设备，包含底座、升降构件、马达及上下位移平台。底座具有固定座及承载构件，该固定座锁固于该承载构件上；该升降构件藉由两固定件与底座相连接，升降构件具有连接块、滑轨及滑块，该连接块的二相反面对应设有凹槽，该凹槽用以固定该滑轨，滑块滑设于该些滑轨上，且连接块二相反面的滑块分别锁固于第一位移构件及第二位移构件上，该第一位移构件的顶部固定于上下位移平台底部；马达与升降构件电性连接以输出动力，使第一位移构件上下动作，从而利用滑块与滑轨之间的相对滑动带动上下位移平台上下位移。因此，当本半导体光罩盒储存设备在上升下降时可避免设备不平衡而导致受损的问题。

Storage equipment of semiconductor light cover box

【技术实现步骤摘要】
半导体光罩盒储存设备
本技术关于一种半导体光罩盒储存设备，特别是关于一种当设备在上升或下降时可避免设备不平衡或错位而导致受损的半导体光罩盒储存设备。
技术介绍
在半导体制造过程中普遍使用光罩于微影制程中，一般光罩为使用平坦的石英或玻璃板，并在石英或玻璃板的一侧面沉积一层铬制造而成。在黄光微影制程中，会将光罩上的图案转移成一图像至一晶圆上。现阶段为了制造出更微小的电子组件以提高集成电路的密度，必须使线宽越来越小。然而，在线宽逐渐缩小的情况下，在光径上所出现的污染更容易被转移至晶圆上，而造成晶圆良率下降。如此，对于高精准的光罩特别容易受影响而产生缺陷，因此，现阶段保持光罩的清洁及储存是一项重要的课题。在黄光微影制程中，光罩扮演了重要的角色，而光罩雾状污染(Hazedefect)是造成良率下降的主要因素。光罩雾状污染主要成分为硫酸铵，这类型的污染除了来自光罩保护膜之外，还有其他影响因子如，光罩清洗过程的残留物质、光罩储存环境及时间、制程环境或曝光剂量与缺陷数量间的关系等。其次，除了保持光罩清洁问题之外，光罩的储存亦是一项重要课题，传统光罩储存本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体光罩盒储存设备，其特征在于，其包含：/n一底座，具有一固定座及一承载构件，该固定座固定于该承载构件上；/n一升降构件，具有一连接块、数个滑轨及数个滑块，该连接块上设有数个凹槽以固定该些滑轨，该些滑块滑设于该些滑轨上，并分别固定于一第一位移构件及一第二位移构件，且该第二位移构件固定于该底座上；/n一马达，与该升降构件电性连接以输出动力，从而带动该升降构件的第一位移构件及连接块上下移动；以及/n一上下位移平台，与该升降构件的第一位移构件顶部相连接，通过该些滑块与该些滑轨上相对滑动以带动该上下位移平台上下位移。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体光罩盒储存设备，其特征在于，其包含：
一底座，具有一固定座及一承载构件，该固定座固定于该承载构件上；
一升降构件，具有一连接块、数个滑轨及数个滑块，该连接块上设有数个凹槽以固定该些滑轨，该些滑块滑设于该些滑轨上，并分别固定于一第一位移构件及一第二位移构件，且该第二位移构件固定于该底座上；
一马达，与该升降构件电性连接以输出动力，从而带动该升降构件的第一位移构件及连接块上下移动；以及
一上下位移平台，与该升降构件的第一位移构件顶部相连接，通过该些滑块与该些滑轨上相对滑动以带动该上下位移平台上下位移。


2.如权利要求1所述的半导体光罩盒储存设备，其特征在于，所述凹槽垂直设置于该连接块的正反两面，以形成相互对称设置的该些凹槽。


3.如权利要求2所述的半导体光罩盒储存设备，其特征在于，所述凹槽的上下顶端处具有对称的一凸块，使该些滑块在小于该些滑轨长度的范...

【专利技术属性】
技术研发人员：江明煌，
申请(专利权)人：袁缔实业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71