介质处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供介质处理装置。介质处理装置具备支承台；对载置于支承台的载置面的介质进行规定的处理的处理部；支承处理部的支承部；具有与支承部接触的接触面且从垂直下方侧承受支承部的凸轮；以及控制部。凸轮的接触面包括第一平面、第二平面及第三平面。载置面与处理部的距离按照支承部的接触对象为第一平面、第二平面、第三平面的顺序依次变大。控制部在使凸轮从支承部与第一平面接触的第一位置向与第二平面接触的第二位置移动时，使凸轮从第一位置移动至支承部与第三平面接触的第三位置之后，使凸轮从第三位置向第二位置移动。

Medium handling unit

【技术实现步骤摘要】
介质处理装置
本技术涉及介质处理装置，该介质处理装置具备对介质进行记录等的预定的处理的处理部、使处理部移动的滑架、以及载置介质的载置面，且能够根据介质的种类切换载置面与处理部的距离。
技术介绍
在现有技术中，作为这种介质处理装置已知有如下所述的喷墨式的记录装置：作为处理部的一例的记录头针对纸张等的介质进行记录文章或图像的记录处理作为处理。例如，在专利文献1记载的记录装置中，公开了调整作为载置介质的载置面的压板面与记录头之间的间隙的间隙调整机构。间隙调整机构借助包括凸轮部件的凸轮机构使滑架对应于每个引导轴在垂直方向上移动，该凸轮部件由具有阶梯状的凸轮面的楔状驱动部件构成。专利文献1：日本特开2006-212995号公报(例如图11)但是，在上述专利文献1记载的记录装置中，在使凸轮部件向滑架上升的方向移动时，与凸轮部件的凸轮面接触的轴在通过斜面时，大的负荷发挥作用。存在如下所述的问题：如果由于滑架的大型化导致轴通过斜面时的负荷增大，则由于轴从斜面通过结束时的冲力，使得凸轮部件移动过度，凸轮部件停止在轴登上下一个斜面的位置，载置介质的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种介质处理装置，其特征在于，具备：/n支承台，具有载置介质的载置面；/n处理部，对载置于所述载置面的所述介质进行规定的处理；/n支承部，支承所述处理部；/n凸轮，具有与所述支承部接触的接触面，从垂直下方侧承受所述支承部；以及/n控制部，在所述支承部与所述接触面接触的状态下，使所述凸轮移动，/n所述接触面包括第一平面、第二平面及第三平面作为在与垂直方向交叉的方向上延伸的平面，/n所述支承部与所述第二平面接触时的所述载置面与所述处理部的距离大于所述支承部与所述第一平面接触时的该距离，/n所述支承部与所述第三平面接触时的所述载置面与所述处理部的距离大于所述支承部与所述第二平面接触时的该距离，/...

【技术特征摘要】
20180710 JP 2018-1304651.一种介质处理装置，其特征在于，具备：
支承台，具有载置介质的载置面；
处理部，对载置于所述载置面的所述介质进行规定的处理；
支承部，支承所述处理部；
凸轮，具有与所述支承部接触的接触面，从垂直下方侧承受所述支承部；以及
控制部，在所述支承部与所述接触面接触的状态下，使所述凸轮移动，
所述接触面包括第一平面、第二平面及第三平面作为在与垂直方向交叉的方向上延伸的平面，
所述支承部与所述第二平面接触时的所述载置面与所述处理部的距离大于所述支承部与所述第一平面接触时的该距离，
所述支承部与所述第三平面接触时的所述载置面与所述处理部的距离大于所述支承部与所述第二平面接触时的该距离，
所述控制部在使所述凸轮从所述支承部与所述第一平面接触的第一位置向所述支承部与所述第二平面接触的第二位置移动时，使所述凸轮从所述第一位置移动至所述支承部与所述第三平面接触的第三位置之后，使所述凸轮从所述第三位置向所述第二位置移动。


2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，具备：
限制部，限制所述凸轮从所...

【专利技术属性】
技术研发人员：深泽洸贵，知野徹，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：新型
国别省市：日本;JP