研磨液输送臂及晶圆处理设备制造技术

该实用新型专利技术涉及研磨液输送臂及晶圆处理设备，能够获取到更好的清洗效果。其中所述研磨液输送臂，用于输送研磨液，包括：至少一个喷嘴，用于喷淋液体，还包括：遮挡件，设置于所述喷嘴外围，形成一喷淋区域，所述喷淋区域沿喷液方向呈外扩状。

Grinding fluid conveying arm and wafer processing equipment

【技术实现步骤摘要】
研磨液输送臂及晶圆处理设备
本技术涉及晶圆的生产加工领域，具体涉及一种研磨液输送臂及晶圆处理设备。
技术介绍
在半导体工业中，化学机械抛光(CMP，chemicalmechanicalpolishing)技术常被用来平坦化晶圆上的材料层。在化学机械抛光操作过程中，研磨液会被分散在研磨垫的表面，所述研磨垫表面以及晶圆表面间彼此进行相对运动及摩擦，由该相对运动对晶圆表面造成机械以及化学的抛光作用，从而得到平整的晶圆表面。现有技术中，通常使用研磨液输送臂(SlurryArm)来向研磨垫表面喷淋研磨液，并使用研磨液输送臂内的喷嘴喷淋清水以清洁所述研磨垫，但现有技术中，在喷淋清水清洁所述研磨垫时，总是不能起到很到的清洗效果。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种研磨液输送臂及晶圆处理设备，能够获取到更好的清洗效果。为解决上述技术问题，以下提供了一种研磨液输送臂，用于输送研磨液，包括：至少一个喷嘴，用于喷淋液体，还包括：遮挡件，设置于所述喷嘴外围，形成一喷淋区域，所述喷淋区域沿喷液方向呈外扩状。可选的，还包括：喷液管，表面设置所述喷嘴，且所述喷液管与所述喷嘴相连通；外壳，表面设置有至少一个通孔，所述通孔与所述喷嘴一一对应，暴露出所述喷嘴；所述喷液管设置于所述外壳内，所述遮挡件设置于所述外壳外表面。可选的，所述遮挡件固定于所述通孔所在面，并设置在所述通孔外围。可选的，所述遮挡件沿所述外壳的长度方向设置，包括两片遮挡板，相对设置于所述通孔的两侧。可选的，所述遮挡板与所述通孔所在面形成的夹角的范围为91°至179°。可选的，所述外壳水平放置时，所述遮挡板的最高点与最低点之间的距离为20mm至50mm。可选的，所述遮挡件的数目与所述通孔的数目相同，并且每一通孔外围都对应设置有一遮挡件。可选的，所述喷嘴包括清洗液喷嘴以及研磨液喷嘴，其中所述清洗液喷嘴用于向所述研磨液输送臂外喷淋清洗液，所述研磨液喷嘴用于向所述研磨液输送臂外喷淋研磨液。可选的，所述喷嘴与所述通孔朝向所述外壳外部的端面齐平，或伸出所述通孔。为了解决上述技术问题，以下还提供了一种晶圆处理设备，包括：研磨垫；所述的研磨液输送臂；所述喷嘴和遮挡件朝向所述研磨垫设置。本技术的研磨液输送臂及晶圆处理设备具有遮挡件，所述遮挡件能够在所述喷嘴外围形成沿喷液方向外扩的喷淋区域，增大了自所述喷嘴喷出的液体的喷淋空间，自所述喷嘴喷出的液体流出的更加顺畅。并且，由于所述研磨液输送臂具有遮挡件，能够防止喷淋研磨液时研磨液溅射到所述研磨液输送臂表面，使研磨液输送臂难以清洁。附图说明图1a为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的侧视示意图。图1b为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的俯视示意图。图1c为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的正视示意图。图2为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的正视示意图。图3为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的侧视示意图。图4为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的侧视示意图。图5为本技术的一种具体实施方式中晶圆处理设备的结构示意图。具体实施方式研究发现，使用研磨液输送臂喷淋清水以清洁所述研磨垫时，总是不能起到很好的清洗效果的原因在于，所述研磨液输送臂喷出的清洗液容易被所述外壳阻挡，不能顺畅的排出，以致无法获取到较好的清洁效果。以下结合附图和具体实施方式对本技术提出的一种研磨液输送臂及晶圆处理设备作进一步详细说明。请参阅图1至图2，其中图1a为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的侧视示意图，图1b为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的俯视示意图，图1c为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的正视示意图，图2为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂的正视示意图。在该具体实施方式中，提供了一种研磨液输送臂100，用于输送研磨液，包括：至少一个喷嘴1021，用于喷淋液体，还包括：遮挡件103，设置于所述喷嘴1021外围，形成一喷淋区域，所述喷淋区域沿喷液方向呈外扩状。在该具体实施方式中，所述研磨液输送臂100具有遮挡件103，能够防止喷淋研磨液时研磨液溅射到所述研磨液输送臂100表面，使研磨液输送臂100难以清洁。并且，由于所述遮挡件103能够在所述喷嘴1021外围形成沿喷液方向外扩的喷淋区域，符合液体的喷淋范围沿喷液方向逐渐增大的规律，使得自所述喷嘴1021喷出的液体流出的更加顺畅，从而具有更佳的喷淋效果。在一种具体实施方式中，所述研磨液输送臂100还包括：喷液管102，表面设置所述喷嘴1021，且所述喷液管102与所述喷嘴1021相连通；外壳101，表面设置有至少一个通孔1011，所述通孔1011与所述喷嘴1021一一对应，暴露出所述喷嘴1021；所述喷液管102设置于所述外壳101内，所述遮挡件103设置于所述外壳101外表面。在一种具体实施方式中，所述喷淋管102由具有一定耐腐蚀性能和耐磨性能的材料制成，如聚四氟乙烯、碳纤维、氧化铜等，以保证在输送所述研磨液的过程中，所述喷淋管102不会被所述研磨液腐蚀，增加所述喷淋管102的耐久。在一种其他的具体实施方式中，所述喷淋管102内壁涂覆有涂层，以增加所述喷淋管102内壁的耐磨和耐腐蚀的性能。所述涂层包括陶瓷涂层、特氟龙涂层等。在一种具体实施方式中，所述遮挡件103由橡胶、聚四氟乙烯、碳纤维、氧化铜中的至少一种制成。实际上，可以根据需要选择所述遮挡件103的具体材料，具体的，所述遮挡件103需要具有一定的耐磨和耐腐蚀性能，以防止被溅射的研磨液腐蚀、磨损，造成所述遮挡件103的寿命过短，从而影响所述研磨液输送臂100的使用，以及CMP过程的晶圆产率。在一种具体实施方式中，所述研磨液输送臂100的外壳101采用与所述遮挡件103相同的材料制备，在制备所述外壳101时制备所述遮挡件103，所述外壳101与所述遮挡件103一体化设置，这样所述遮挡件103与外壳101之间的连接更加稳固。实际上也可根据需要设置所述遮挡件103连接到所述外壳101的方式，如将所述遮挡件103可拆卸的连接到所述外壳101。在一种具体实施方式中，所述遮挡件103固定于所述通孔所在面，并设置在所述通孔1011外围。这样，每一通孔1011都有一遮挡件103提供防护。这里可以参考图3，为本技术的一种具体实施方式中研磨液输送臂100的侧视示意图。在一种具体实施方式中，所述通孔1011设置在所述外壳101朝向待喷淋区域设置的一面。例如，所述外壳101的下表面与待喷淋区域相对，则所述通孔1011设置在所述外壳101的下表面。在该具体实施方式中，所述遮挡件103固定在所述外壳101下表面，设置在所述通孔1011旁，防止自所述通孔1011喷出的喷淋液四处溅射，减小清洁所述研磨液输送臂100的难度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨液输送臂，用于输送研磨液，包括：至少一个喷嘴，用于喷淋液体，其特征在于，还包括：/n遮挡件，设置于所述喷嘴外围，形成一喷淋区域，所述喷淋区域沿喷液方向呈外扩状。/n

【技术特征摘要】
1.一种研磨液输送臂，用于输送研磨液，包括：至少一个喷嘴，用于喷淋液体，其特征在于，还包括：
遮挡件，设置于所述喷嘴外围，形成一喷淋区域，所述喷淋区域沿喷液方向呈外扩状。


2.根据权利要求1所述的研磨液输送臂，其特征在于，还包括：
喷液管，表面设置所述喷嘴，且所述喷液管与所述喷嘴相连通；
外壳，表面设置有至少一个通孔，所述通孔与所述喷嘴一一对应，暴露出所述喷嘴；
所述喷液管设置于所述外壳内，所述遮挡件设置于所述外壳外表面。


3.根据权利要求2所述的研磨液输送臂，其特征在于，所述遮挡件固定于所述通孔所在面，并设置在所述通孔外围。


4.根据权利要求3所述的研磨液输送臂，其特征在于，所述遮挡件沿所述外壳的长度方向设置，包括两片遮挡板，相对设置于所述通孔的两侧。


5.根据权利要求4所述的研磨液输送臂，其特征在于，所述遮挡板与所述通孔所在面形成的夹...

【专利技术属性】
技术研发人员：张大伟，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42